CN108461041A - 一种显示装置、显示装置的色偏调整方法、和显示装置的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种显示装置的色偏调整方法、显示装置、和显示装置的制备方法，所述调整方法包括以下步骤：划分显示屏为至少一个基准区域和至少一个色偏区域；获取基准视角下所述基准区域的色坐标；基准视角下，对所述色偏区域的色坐标值和所述基准区域的色坐标基准值计算差异，对所述色偏区域的HTL、HIL、EIL或ETL中的至少一个膜层的厚度进行调整，使所述色偏区域的色坐标和所述基准区域的色坐标处于第一预设差异范围内。本发明技术方案可以减轻或消除曲面屏边缘色偏，提升显示画面的均一性和显示质量。

Description

一种显示装置、显示装置的色偏调整方法、和显示装置的制造 方法

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及显示装置、显示装置的色偏调整方法、和显示装置的制造方法。

背景技术

随着显示屏幕的尺寸变大，传统的平面屏幕占用的空间也随之变大，使用曲面屏幕可以减少占用空间。此外，曲面屏幕可以显示出环绕画面效果，提供比平面屏幕更加的显示效果，因此曲面屏幕的应用也越来越广。

在不同视角下观看显示装置，因受到不同角度下光学腔长度不同的影响，会导致显示装置的发光频谱和人眼接收到发光频谱不同，表现为在显示屏在不同角度下的出现色偏，一般来说视角和屏幕之间的倾斜角度越大，色偏现象越严重。由上述原因，曲面显示屏切线角度和观看视角之间倾斜角较大的位置也会出现色偏现象，影响观看感受。

以双曲面手机屏体为例，参见图1所示的不同视角下的光谱图。正视双面屏体时，随着视角的变大，RGB的谱峰逐渐向左移动，且相对强度随视角增大显著降低；同理，正视双曲面屏体平面部分时，曲面屏体边缘的效果相当于正视效果下不同视角平面屏体，因此正视效果下，双曲面屏体弯折区域一定会存在色偏。

发明内容

本发明实施例的一个目的旨在改善屏幕色偏。

本发明实施例提供一种显示装置的色偏调整方法，包括以下步骤：

划分显示屏为至少一个基准区域和至少一个色偏区域；

获取基准视角下所述基准区域的色坐标；

根据所述基准视角下所述色偏区域的色坐标和所述基准区域的色坐标差异，根据所述色偏区域的HTL、HIL、EIL或ETL中的至少一个膜层的厚度进行调整，使所述色偏区域的色坐标和所述基准区域的色坐标处于第一预设差异范围内。

根据本发明的一个实施例，调整方法还包括，判断基准视角下，所述基准区域内预设位置的色坐标差异是否处于第二预设差异范围内；

当存在所述预设位置的色坐标超出第二预设差异范围时，取所述预设范围内的所述预设位置的色坐标平均值为所述基准区域的色坐标平均值，使用所述色坐标平均值与所述色偏区域的色坐标计算差异。

根据本发明的一个实施例，所述色坐标包括任一颜色子像素的色坐标。

根据本发明的一个实施例，所述HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度与所述色坐标之间的关系通过光学模拟得到。

本发明还提供一种显示装置，包括基准区域和色偏区域，

所述基准区域对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度分别与所述色偏区域对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度不全部相同；

且所述色偏区域对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度使所述色偏区域在基准视角下的色坐标与所述基准区域处于第一预设差异范围内。

根据本发明的一个实施例，所述基准区域为平面区域，所述色偏区域为弧面区域或与所述基准区域不共面的平面区域。

根据本发明的一个实施例，所述基准区域为弧面区域，所述色偏区域为平面区域或弧面区域。

本发明还提供一种显示装置的制备方法，包括如下步骤：

提供一衬底，所述衬底划分为基准区域和色偏区域；

于所述衬底上制备TFT层；

于所述TFT层上依次沉积阳极、HTL、HIL、电致发光层、EIL、ETL以及阴极；

其中，所述HTL、HIL、EIL、ETL中至少一层在基准区域和色偏区域被沉积为不同的膜层厚度。

根据本发明的一个实施例，所述不同的膜层厚度是通过沉积形成均匀厚度的膜层后，对所述均匀厚度的膜层进行刻蚀形成。

根据本发明的一个实施例，所述不同的膜层厚度是通过不同的掩膜板分别沉积形成。

根据本发明的一个实施例，制备所述HTL、HIL、EIL、ETL膜层时，至少执行以下步骤的其中之一：

使用不同的掩膜板对所述HTL进行多次材料沉积，得到厚度不同的HTL膜层；

使用不同的掩膜板对所述HIL进行多次材料沉积，得到厚度不同的HIL膜层；

使用不同的掩膜板对所述ETL进行多次材料沉积，得到厚度不同的ETL膜层；

使用不同的掩膜板对所述EIL进行多次材料沉积，得到厚度不同的EIL膜层。

根据本发明的一个实施例，制备所述HTL、HIL、EIL、ETL膜层时，至少执行以下步骤的其中之一：

使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的HTL进行多次材料沉积，得到厚度不同的HTL膜层；

使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的HIL进行多次材料沉积，得到厚度不同的HIL膜层；

使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的ETL进行多次材料沉积，得到厚度不同的ETL膜层；

使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的EIL进行多次材料沉积，得到厚度不同的EIL膜层。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述曲面显示屏的色偏改善方法及显示装置和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明。

附图说明

图1为双曲面屏体不同视角下的光谱图。

图2为一个实施例中显示装置的色偏调整方法的流程示意图；

图3是一个实施例中显示装置的色偏调整方法的流程示意图；

图4是一个实施例中显示装置的结构示意图；

图5是一个实施例中R系坐标与HTL-R之间的厚度关系图；

图6是一个实施例中G系坐标与HTL-G之间的厚度关系图；

图7是一个实施例中B系坐标与HTL-B之间的厚度关系图。

图8是一个实施例中显示装置的结构示意图；

图9是一个实施例中显示装置的剖面示意图；

图10是一个实施例中显示装置的剖面示意图；

图11是一个实施例中Common Mask(掩膜板)的结构示意图；

图12是一个实施例中将Common Mask进行了遮挡，对基准区域进行蒸镀沉积的结构示意图；

图13是一个实施例中将Common Mask进行了第二次遮挡，对色偏区域进行第一次蒸镀沉积的结构示意图；

图14是一个实施例中将Common Mask进行了第三次遮挡，对色偏区域进行第二次蒸镀沉积的结构示意图；

图15是一个实施例中将Common Mask进行了第四次遮挡，对色偏区域进行第三次蒸镀沉积的结构示意图；

图16是一个实施例中Common Mask的结构示意图，还示出了Common Mask的蒸镀区域具有B1和B2两种不同厚度；

图17是一个实施例中蒸镀B1厚度时，Common Mask被遮挡部分的结构示意图；

图18是一个实施例中蒸镀B2厚度时，Common Mask被遮挡部分的结构示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种曲面显示屏的色偏改善方法及显示装置的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

有关本发明的前述及其它技术内容、特点及功效，在以下配合参考图的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式的说明，当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解，然而所附图仅是提供参考与说明之用，并非用来对本发明加以限制。

在下文中，参照附图详细的描述示例性实施例。

本实施例公开一种显示装置的色偏调整方法、显示装置和显示装置的制备方法，用于调整显示装置中发生色偏的色偏区域，使在基准视角下，色偏区域和显示装置的基准区域能够获得相近似的色坐标，从而提高观看感受。

图2示示例性实施例的出色偏调整方法的流程图。

根据该流程图和示例性实施例，该调整方法包括：

S1：划分显示屏为至少一个基准区域和至少一个色偏区域；

S2：获取基准视角下所述基准区域的色坐标；

S3：基准视角下，对所述色偏区域的色坐标值和所述基准区域的色坐标基准值计算差异，对所述色偏区域的HTL、HIL、EIL或ETL中的至少一个膜层的厚度进行调整，使所述色偏区域的色坐标和所述基准区域的色坐标处于第一预设差异范围内。

其中，步骤S1中：需对显示屏的显示区域进行划分，划分原则是基于显示装置在基准视角下与视角中心位置色偏差异在第二预设差异范围内的部分定义为基准区域；在基准视角下与基准区域存在色偏的区域则被定义为色偏区域，例如：常见的双曲面手机显示屏中，处于显示区中间的平面部分为基准区域，两侧的折弯部分为色偏区域。另一个示例：内弧型的屏幕中，以显示区域的中心部分为基准，与中心部分的色偏在第二预设差异范围内的部分被划分为基准区域，并以基准区域的色坐标均值作为基准区域的色坐标基准值；所述基准区域以外的部分被定义为色偏区域。其他固定形态的显示装置，或使用形态固定的显示装置也可以按照以上原则对基准区域和色偏区域进行划分。

S11：判断基准视角下，所述基准区域内预设位置的色坐标差异是否处于第二预设差异范围内；

S12：判断结果为是时，以多个所述预设位置的色坐标平均值作为所述基准区域的色坐标基准值。

S13：判断结果为否时，排除超出第二预设差异范围的预设位置的色坐标值，取所述预设范围内的所述预设位置的色坐标平均值为所述基准区域的色坐标平均值，以所述色坐标平均值作为色坐标基准值。

基于步骤S11、步骤S12和步骤S13，对基准区域对应的色坐标基准值进行选取，步骤S11用于判断基准区域内的色坐标是否不存在较大的色坐标差异，当判断结果为是时，执行步骤S12，以每一个预设位置的色坐标得平均值作为基准区域的色坐标基准值。当判断结果为否时，则排除每一个超出第二预设差异范围的预设位置的色坐标，仅以处于第二差异范围内的预设位置的色坐标的平均值作为基准区域的色坐标基准值。

步骤S11、S12、S13中，预设位置的个数根据试验需要自由选取，应当理解的是，预设位置应该优选均匀排布在基准区域内，以避免基准区域基准值的误差。另外，在满足以上原则的条件下，理论上预设位置数量选取越多越有利于基准值的准确性提高，本领域技术人员能够根据试验设计调整预设位置的数量。

根据示例性的实施例，通过步骤S2采集基准视角下基准区域的色坐标，所获得的色坐标作为比对的基准，获取色偏区域的色坐标值，通过计算基准区域和色片区域的色坐标差异值，确定HTL、HIL、EIL或ETL中的至少一个膜层的厚度进行调整值，最终使所述色偏区域的色坐标和所述基准区域的色坐标处于第一预设差异范围内。

需说明的是，第一预设差异范围是一色坐标差异区间，该差异区间的选取与色偏区域和基准区域之间的色坐标差异值相关，因使用HTL、HIL、EIL或ETL中的至少一个膜层的厚度进行调整的调整方法也存在一定的局限性，因此当色坐标差异值较大时，第一预设差异范围也应当较大，该区间的具体取值范围则无法通过固定的数值进行限定，应当是本领域技术人员根据实际情况进行选取和设置的。同理，第二预设差异范围和基准区域的色坐标差异有关，也应当是由本领域技术人员根据实际情况进行选取和设置的。

一个实施例中，参考图5、图6、图7所展示的R系坐标与HTL-R之间的厚度关系图、G系坐标与HTL-G之间的厚度关系图、B系坐标与HTL-B之间的厚度关系图，通过调整HTL、HIL、EIL或ETL中任一膜层的厚度均可导致色坐标变化，从而使色偏区域的色坐标向基准区域靠近。需要说明的是，以上是以RGB-CIE色坐标系为示例进行的说明，在其他色坐标系中第一预设差异范围可合理浮动变化。当子像素颜色多余三个，如RGBY/RGBC/RGBM等形式，可以用更多维度来表达色坐标时，本实施例的调整方法同样适用，在此则不举例赘述。另外，在本实施例中HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度与所述色坐标之间的关系是通过光学模拟得到。

以上实施方式中，通过对色偏区域和基准区域划分界定，计算色偏区域和基准区域色坐标差异值得方式，得到对色偏区域的补偿值，以调整HTL、HIL、EIL或ETL中任一个或同时调整多个的膜层厚度，从而实现对色偏区域的色坐标补偿，最终实现在基准视角下色偏区域和基准区域的观感趋于一致，有效提升显示装置的视觉感受和显示效果。

参考图4、图8所示的显示装置的结构示意图，一实施例公开了一种显示装置，该显示装置包括基准区域1和色偏区域2，所述基准区域1对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度分别与所述色偏区域2对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度不全部相同；且所述色偏区域2对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度使所述色偏区域2在基准视角下的色坐标与所述基准区域1处于第一预设差异范围内。

一个实施例中，当显示装置为非图8所示的中间部分为平面两侧为由所述平面同向弯折形成的双曲面结构时，基准区域1和色偏区域2的划分原则是：基于显示装置在基准视角下与视角中心位置色偏差异在第二预设差异范围内的部分定义为基准区域1；在基准视角下与基准区域1存在色偏的区域则被定义为色偏区域2，例如：内弧型的屏幕中，以显示区域的中心部分为基准，与中心部分的色偏在第二预设差异范围内的部分被划分为基准区域1，并以基准区域1的色坐标均值作为基准区域1的色坐标基准值；所述基准区域1以外的部分被定义为色偏区域2。其他固定形态的显示装置，或使用形态固定的显示装置也可以按照以上原则对基准区域1和色偏区域2进行划分。

第一预设差异范围，第一预设差异范围是一色坐标差异区间，该差异区间的选取与色偏区域2和基准区域1之间的色坐标差异值相关，因使用HTL、HIL、EIL或ETL中的至少一个膜层的厚度进行调整的调整方法也存在一定的局限性，因此当色坐标差异值较大时，第一预设差异范围也应当较大，该区间的具体取值范围则无法通过固定的数值进行限定，应当是本领域技术人员根据实际情况进行选取和设置的。同理，第二预设差异范围和基准区域1的色坐标差异有关，也应当是由本领域技术人员根据实际情况进行选取和设置的。

该调整方法具体为，参考图5、图6、图7所示的R系坐标与HTL-R之间的厚度关系图、G系坐标与HTL-G之间的厚度关系图、B系坐标与HTL-B之间的厚度关系图，通过调整HTL、HIL、EIL或ETL中任一膜层的厚度均可导致色坐标变化，从而使色偏区域2的色坐标向基准区域1靠近。需要说明的是，以上是以RGB-CIE色坐标系为示例进行的说明，在其他色坐标系中第一预设差异范围可合理浮动变化。当子像素颜色多余三个，如RGBY/RGBC/RGBM等形式，可以用更多维度来表达色坐标时，本实施例的显示装置同样适用，在此则不举例赘述。另外，在本实施例中HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度与所述色坐标之间的关系是通过光学模拟得到。

参考图9、图10所示显示装置的剖面示意图，一实施例提供了显示装置的制备方法，包括如下步骤：

S4：提供一衬底10，所述衬底10划分为基准区域和色偏区域；

具体的，衬底10可以是刚性衬底10或柔性衬底10，刚性衬底10可以是玻璃基板，柔性基板可以是聚合物基板，均可以实现本发明的目的。

S5：于所述衬底10上制备TFT层20；

具体可以是：在基板10上通过化学气相沉积的方式形成非晶硅层，然后通过准分子激光退火(ELA)将非晶硅层结晶结晶为多晶硅层，并涂布光刻胶并经过曝光显影后图案化，最后经过干式刻蚀及剥离光刻胶形成彼此分开的薄膜晶体管中的多晶硅层。非晶硅结晶工艺还可以为快速热退火(RTA)、固相结晶(SPC)、金属诱导结晶(MIC)、金属诱导横向结晶(MILC)、连续横向固化(SLS)，均可以达到本发明的目的。在多晶硅层上通过沉积并图案化金属导电材料、层间绝缘层、平坦化层等形成TFT层20。

S6：于所述TFT层20上依次沉积阳极、HTL30、HIL40、电致发光层50、EIL60、ETL70以及阴极；

其中，所述HTL30、HIL40、EIL60、ETL70中至少一层在基准区域和色偏区域被沉积为不同的膜层厚度。

一个实施例中，根据色偏区域和基准区域之间色坐标的差异值，对色偏区域各颜色子像素对应的HTL30进行调整，通过调整HTL30膜层厚度，使色偏区域的色坐标值向基准区域靠近，优选的，使两者趋于一致，以提高色偏区域的显示效果和视觉感受。因HTL30、HIL40、EIL60、ETL70的膜层厚度发生改变均可以影响对应像素在基准视角下的色坐标，因此也可以对HTL30、HIL40、EIL60、ETL70中的一个或多个进行调整。

具体来说，形成不同膜厚的HTL30、HIL40、EIL60、ETL70可以通过至少两种方式实现。第一：所述不同的膜层厚度是通过沉积形成均匀厚度的膜层后，对所述均匀厚度的膜层进行刻蚀形成；第二：所述不同的膜层厚度是通过不同的掩膜板分别沉积形成。以第二种实施方式为例：在制备所述HTL30、HIL40、EIL60、ETL70膜层时，执行以下步骤(S61-S64)的其中之一：

S61：使用不同的掩膜板对所述HTL30进行多次材料沉积，得到厚度不同的HTL30膜层；

S62：使用不同的掩膜板对所述HIL40进行多次材料沉积，得到厚度不同的HIL40膜层；

S63：使用不同的掩膜板对所述ETL70进行多次材料沉积，得到厚度不同的ETL70膜层；

S64：使用不同的掩膜板对所述EIL60进行多次材料沉积，得到厚度不同的EIL60膜层。

具体来说，参考图11、图12、图13、图14、图15、图16、图17、和图18所示的制备过程示意图；

首先，提供一正常的Common Mask。将Common Mask进行部分遮挡只进行区域A的HTL30层蒸镀沉积，厚度为a；区域A为基准区域。

其次，通过不断调整Common Mask的遮挡区域进行区域B的蒸镀沉积，使区域B有以上计算出的各区域对应的HTL30厚度；区域B的HTL30厚度至少有一种b1，且a≠b1；且有≥2次以上蒸镀沉积的各蒸镀沉积区域无重合；区域B为色偏区域。其中，区域B进行N次蒸镀沉积，则可以在色偏区域获得N个不同的HTL30厚度，本领域技术人员根据实际制备需要对蒸镀沉积次数进行选取。对于B区域有≥2次蒸镀的，也可根据计算出的各区域HTL30厚度，先蒸镀较薄区域，再根据厚度之间的差值进行后续蒸镀沉积，蒸镀沉积区域有重合。

同理，利用以上蒸镀沉积方法可以对HIL40、EIL60、ETL70层进行不同厚度的蒸镀沉积，在此则不多做赘述。

一个实施例中，为实现更佳的显示效果，制备所述HTL30、HIL40、EIL60、ETL70膜层时，执行以下步骤(S65-S68)的其中之一：

S65：使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的HTL30进行多次材料沉积，得到厚度不同的HTL30膜层；

S66：使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的HIL40进行多次材料沉积，得到厚度不同的HIL40膜层；

S67：使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的ETL70进行多次材料沉积，得到厚度不同的ETL70膜层；

S68：使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的EIL60进行多次材料沉积，得到厚度不同的EIL60膜层。

也即是说，参考图5、图6和图7，膜厚的改变对于不同颜色的子像素来说色坐标的变化并不是相同的，因此为了进一步提高色偏区域的显示效果，本实施例中，分次完成对应不同颜色子像素的HTL30、HIL40、ETL70、EIL60的膜层沉积蒸镀。

以上示例性实施方式中，仅选择执行步骤S61-S64中的其中之一，但在其他实施方式中也可以选择同时执行S61-S64中任意多个步骤；以上示例性实施方式中，仅选择执行步骤S65-S68中的其中之一，但在其他实施方式中也可以选择同时执行S65-S68中任意多个步骤。

以上对本发明所提供的显示装置、显示装置的色偏调整方法及显示装置的制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (12)

1.一种显示装置的色偏调整方法，其特征在于，包括以下步骤：

划分显示屏为至少一个基准区域和至少一个色偏区域；

获取基准视角下所述基准区域的色坐标；

基准视角下，对所述色偏区域的色坐标值和所述基准区域的色坐标基准值计算差异，对所述色偏区域的HTL、HIL、EIL或ETL中的至少一个膜层的厚度进行调整，使所述色偏区域的色坐标和所述基准区域的色坐标处于第一预设差异范围内。

2.根据权利要求1所述的色偏调整方法，其特征在于，

判断基准视角下，所述基准区域内多个预设位置的色坐标差异是否处于第二预设差异范围内；

若结果为是，以多个所述预设位置的色坐标平均值作为所述基准区域的色坐标基准值；

若结果为否，排除超出第二预设差异范围的预设位置的色坐标值，取所述预设范围内的所述预设位置的色坐标平均值为所述基准区域的色坐标平均值，以所述色坐标平均值作为色坐标基准值。

3.根据权利要求1或2所述的色偏调整方法，其特征在于，

所述色坐标包括任一颜色子像素的色坐标。

4.根据权利要求3所述的色偏调整方法，其特征在于，

所述HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度与所述色坐标之间的关系通过光学模拟得到。

5.一种显示装置，包括基准区域和色偏区域，其特征在于，

所述基准区域对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度分别与所述色偏区域对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度不全部相同；

且所述色偏区域对应的HTL、HIL、EIL或ETL的膜层厚度使所述色偏区域在基准视角下的色坐标与所述基准区域处于第一预设差异范围内。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述基准区域为平面区域，所述色偏区域为弧面区域或与所述基准区域不共面的平面区域。

7.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述基准区域为弧面区域，所述色偏区域为平面区域或弧面区域。

8.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一衬底，所述衬底划分为基准区域和色偏区域；

于所述衬底上制备TFT层；

于所述TFT层上依次沉积阳极、HTL、HIL、电致发光层、EIL、ETL以及阴极；

其中，所述HTL、HIL、EIL、ETL中至少一层在基准区域和色偏区域被沉积为不同的膜层厚度。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，

所述不同的膜层厚度是通过沉积形成均匀厚度的膜层后，对所述均匀厚度的膜层进行刻蚀形成。

10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，

所述不同的膜层厚度是通过不同的掩膜板分别沉积形成。

11.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，制备所述HTL、HIL、EIL、ETL膜层时，至少执行以下步骤的其中之一：

使用不同的掩膜板对所述HTL进行多次材料沉积，得到厚度不同的HTL膜层；

使用不同的掩膜板对所述HIL进行多次材料沉积，得到厚度不同的HIL膜层；

使用不同的掩膜板对所述ETL进行多次材料沉积，得到厚度不同的ETL膜层；

使用不同的掩膜板对所述EIL进行多次材料沉积，得到厚度不同的EIL膜层。

12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，制备所述HTL、HIL、EIL、ETL膜层时，至少执行以下步骤的其中之一：

使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的HTL进行多次材料沉积，得到厚度不同的HTL膜层；

使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的HIL进行多次材料沉积，得到厚度不同的HIL膜层；

使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的ETL进行多次材料沉积，得到厚度不同的ETL膜层；

使用不同的掩膜板对任一颜色子像素对应的EIL进行多次材料沉积，得到厚度不同的EIL膜层。