CN108441914A - 一种光学反射率表面处理方法 - Google Patents

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Abstract

一种光学反射率表面处理方法，对产品的处理包括以下步骤：将产品放置到产品固定架后，经由脱脂和水洗工序去除产品表面油污，清洁产品；进行一次阳极氧化处理，一次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；一次阳极氧化后进行水洗，然后用碱性溶液中和，再经由水洗清洁；进行封闭预处理，封闭预处理采用活性剂对产品进行处理；封闭预处理后进行中和和水洗处理；进行二次阳极氧化处理，二次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；二次阳极氧化处理后进行水洗和中和，然后再水洗的处理；进行封闭处理，封闭处理采用氟化镍和活性剂对产品进行处理；封闭处理后进行清洗烘干以及外观检测，然后将产品进行封装，有效降低了产品表面光学反射率。

Description

一种光学反射率表面处理方法
技术领域
本发明涉及一种表面处理工艺，尤其是一种能够有效降低金属表面光学反射率的光学反射率表面处理方法。
背景技术
在许多产品表面，尤其是对壳体表面质量要求较高的产品，一般都会对产品表面进行加工，大多数采用发黑处理，而目前产品发黑主要采用两种方式；一种为普通产品表面发黑处理，一般是在高温溶液(碱+亚硝酸氨+水)条件下的化学反应，其目的主要是为了防锈，并非外观件和精密产品，另外一种就是阳极发黑处理，一般是在硫酸溶液里发生电解反应，此种方式主要针对外观以及尺寸精度要求高的产品。但是对于一些光学元件的产品而言，不仅仅有以上要求而且还要考虑光学黑元件对光线的吸收和反射情况，尤其是光反射率的大小，直接影响到设备上的光学器件的感光效果，因此，产品表面必须达到一定光学元件要求，如表面反射率的高低要求、颜色的亮暗需求、表面粗糙度的高低要求、以及表面的色差要求等等。
现有的表面处理主要包括普通产品表面常温发黑处理和普通阳极氧化，而普通产品表面常温发黑处理的工艺的缺点是1、导电氧化生成的膜仅仅0.01-0.15微米，耐磨性不好；2、氧化膜较薄，易导电，不能作为绝缘防护产品；3、发黑后的产品，发黑层仅仅吸收少量光线，绝大部分反射掉，反射率较高(反射率在80％以上)。
而普通阳极氧化的缺点是1、普通阳极氧化相对光学黑阳极氧化来讲氧化膜耐磨，耐晒，耐光性能差；2、普通阳极氧化后的产品，发黑层也是吸收部分光线，大部分反射(反射率在60％以上)。
目前并未出现任何发黑加工工艺能够将产品表面的光学反射率降低至一极小的值，一般的发黑表面处理，光学反射率最多也只能降低至60％左右。
发明内容
本发明解决的技术问题是提供一种光学反射率表面处理方法，对产品表面进行加工，提高产品表面耐磨耐腐蚀性能，使产品表面光学反射率降低。
本发明的技术解决方案是：
一种光学反射率表面处理方法，其中，该方法对产品的处理包括以下步骤：
将产品放置到产品固定架后，经由脱脂和水洗工序去除产品表面油污，清洁产品；
进行一次阳极氧化处理，所述一次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；
所述一次阳极氧化后进行水洗，然后用碱性溶液中和，再经由水洗清洁；
进行封闭预处理，所述封闭预处理采用活性剂对产品进行处理；
所述封闭预处理后进行中和和水洗处理；
进行二次阳极氧化处理，所述二次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；
所述二次阳极氧化处理后进行水洗和中和，然后再水洗的处理；
进行封闭处理，所述封闭处理采用氟化镍和活性剂对产品进行处理；
所述封闭处理后进行清洗烘干以及外观检测，然后将产品进行封装。
由以上说明得知，本发明确实具有如下的优点：
本发明的光学反射率表面处理方法通过对产品表面进行了两次的光学黑阳极氧化，并且在阳极氧化之前均对产品进行了表面进行了预处理；经由两次阳极氧化和封闭预处理及封闭处理的组合作用造成金属盐沉积量不同胶态例子大小和粒度分布不同，对光波产生更强的选择性吸收和散射效果，不仅大大提高了产品表面的耐磨和防腐蚀性能，而且还使产品表面的光学反射率远小于常规表面黑化处理的反射率值。
附图说明
图1为本发明的较佳实施例的流程框图；
图2为普通阳极氧化后产品光学反射率的曲线图；
图3为本发明的光学黑阳极氧化后产品光学反射率的曲线图。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本发明的具体实施方式。
本发明的光学反射率表面处理方法对产品的表面性能进行了大幅度的提升，尤其是在光学反射率上，能够大幅度地降低反射率，使得产品表面能够满足光学器件的装配要求，将由于壳体反射光线对光学器件的影响降到最低。
本发明的一种光学反射率表面处理方法，其较佳的实施例中，请参阅图1所示，为本发明较佳实施例的流程框图，该方法对产品的处理包括以下步骤：
S101将产品放置到产品固定架后，经由脱脂和水洗工序去除产品表面油污，清洁产品；
在进行表面处理加工前，将产品放置固定在产品固定架上，然后送到进行加工的容器中，首先经由脱脂以去除产品表面油污清洁产品，并通过水洗冲洗干净，利于后续的阳极氧化及封闭处理。
S103进行一次阳极氧化处理，所述一次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；
通过一次阳极氧化，增加产品耐磨性、耐蚀性，且改善产品表面质量，如产品光泽度、暗度、色差(Gu、L、a、b)等值，对于外观件产品来说色差值尤为重要，本发明的阳极氧化采用的是光学黑阳极氧化II型，其所能形成的黑色的膜厚约为15～25μm；一次阳极氧化也是为了后续的预封闭处理打底，有利于预封闭剂处理的效果。
S104所述一次阳极氧化后进行水洗，然后用碱性溶液中和，再经由水洗清洁；
水洗、中和皆为处理一次阳极后的产品，目的是去除阳极药水残留，避免污染后续槽的处理。
S105进行封闭预处理，所述封闭预处理采用活性剂对产品进行处理；
所述预封闭处理的目的主要是固化一次阳极氧化的效果，使一次阳极氧化所得到的保护膜具有较高的稳定性。
所述封闭预处理后进行中和和水洗处理；去除预封闭残留药水，避免污染后续药水槽。
S106进行二次阳极氧化处理，所述二次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；
二次阳极氧化除了与一次阳极氧化具有同样的效果以外，其另一目的是为了保护一次阳极层及封闭预处理形成第一封闭层。
S107所述二次阳极氧化处理后进行水洗和中和，然后再水洗的处理；去除二次阳极残留药水，避免污染后续药水槽。
S108进行封闭处理，所述封闭处理采用氟化镍和活性剂对产品进行处理；
在经过二次阳极氧化后，在进行封闭处理，能够固化二次阳极氧化形成的保护膜；同时，产品表面形成一层“第二封闭层”这一“第二封闭层”具有胶态粒子结构且分布均匀，对光线有很好的吸收作用，可降低对光线的反射，且封闭层耐热、耐晒、耐磨损。
S109所述封闭处理后进行清洗烘干以及外观检测，然后将产品进行封装。
如上所述的光学反射率表面处理方法，其较佳的实施例中，所述一次阳极氧化之前在脱脂和水洗后包括碱蚀、水洗和化学抛光的步骤。通过碱蚀后的产品可进一步改善产品表面粗糙度(Ra)使得产品表面更加平整，水洗、化学抛光、水洗、中和、水洗均为一次阳极前处理，获得表面干净无污的产品，有利于阳极氧化。
如上所述的本发明的光学反射率表面处理方法，其较佳的实施例中，所述一次阳极氧化步骤中采用硫酸的浓度为200～220g/L，温度为18～20℃，PH值为5～7，电压值为13～14V，处理时间为30～40分钟。该阳极氧化属于光学黑阳极氧化II型，能够在产品表面形成黑色的厚度约为15～25μm的保护膜，具有较高的耐磨和耐腐蚀性能。
如上所述的本发明的光学反射率表面处理方法，其较佳的实施例中，所述封闭预处理步骤中采用的活性剂包含了10～26％的柠檬酸和1～5％的无机季铵盐活性剂，该活性剂的浓度为8～12g/L，温度为90～100℃，PH值为10.2～13.5，处理时间为30～40分钟。当然处理时间也可以是大于40分钟，但需综合考虑处理效率的问题。
如上所述的本发明的光学反射率表面处理方法，其较佳的实施例中，所述二次阳极氧化步骤中采用的硫酸的浓度为200～220g/L，温度为18～20℃，PH值为5～7，电压值为13～14V，处理时间为30～40分钟。与一次阳极氧化的参数相同，于封闭预处理的第一封闭层上进行再次的光学黑阳极氧化，形成另一层阳极氧化的保护膜。当然处理时间也可以是大于40分钟，但需综合考虑处理效率的问题。
如上所述的本发明的光学反射率表面处理方法，其较佳的实施例中，所述封闭处理步骤中采用的封闭剂包含了10～26％的柠檬酸、1～5％的无机季铵盐活性剂及25～40％的氟化镍，该封闭剂的浓度为8～12g/L，温度为90～100℃，PH值为10～13，处理时间为30～40分钟。当然处理时间也可以是大于40分钟，但需综合考虑处理效率的问题。
请参阅下表所示，为本发明的光学黑阳极氧化与普通阳极氧化处理后产品反射率的比较：
请一并参阅图2及图3所示的反射率曲线比较图；通过本发明的处理方法加工后的产品表面反射率只有4.5％左右，而普通阳极氧化的表面反射率搞到60％左右。
如上所述的本发明的光学反射率表面处理方法，根据综合评估的效果，以及长期的测试和调整，以下为本发明的较优的一种实施方法，其较佳的实施例中，所述一次阳极氧化采用硫酸的浓度为210g/L，温度为19℃，PH值为6，电压值为13.5V，处理时间为35分钟；
所述封闭预处理步骤中处理时间为35分钟；
所述二次阳极氧化步骤中采用的硫酸的浓度为210g/L，温度为19℃，PH值为6，电压值为13.5V，处理时间为35分钟；
所述封闭处理步骤中所述封闭剂的浓度为10g/L，温度为95℃，PH值为11.5，处理时间为35分钟。
请参阅下表所示：
如上所述的本发明的光学反射率表面处理方法，其较佳的实施例中，所述二次阳极氧化后的产品表面生成的膜的总厚度为30～50μm；其颜色为黑色；且其表面光学反射率小于10％。
本发明的光学反射率表面处理方法通过对产品表面进行了两次的光学黑阳极氧化，并且在阳极氧化之前均对产品进行了表面进行了预处理；经由两次阳极氧化和封闭预处理及封闭处理的组合作用造成金属盐沉积量不同胶态例子大小和粒度分布不同，对光波产生更强的选择性吸收和散射效果，不仅大大提高了产品表面的耐磨和防腐蚀性能，而且还使产品表面的光学反射率远小于常规表面黑化处理的反射率值。
以上所述仅为本发明示意性的具体实施方式，并非用以限定本发明的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和原则的前提下所作出的等同变化与修改，均应属于本发明保护的范围。

Claims (8)

1.一种光学反射率表面处理方法，其特征在于，该方法对产品的处理包括以下步骤：
将产品放置到产品固定架后，经由脱脂和水洗工序去除产品表面油污，清洁产品；
进行一次阳极氧化处理，所述一次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；
所述一次阳极氧化后进行水洗，然后用碱性溶液中和，再经由水洗清洁；
进行封闭预处理，所述封闭预处理采用活性剂对产品进行处理；
所述封闭预处理后进行中和和水洗处理；
进行二次阳极氧化处理，所述二次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；
所述二次阳极氧化处理后进行水洗和中和，然后再水洗的处理；
进行封闭处理，所述封闭处理采用氟化镍和活性剂对产品进行处理；
所述封闭处理后进行清洗烘干以及外观检测，然后将产品进行封装。
2.如权利要求1所述的光学反射率表面处理方法，其特征在于，一次阳极氧化之前在脱脂和水洗后包括碱蚀、水洗和化学抛光的步骤。
3.如权利要求2所述的光学反射率表面处理方法，其特征在于，所述一次阳极氧化步骤中采用硫酸的浓度为200～220g/L，温度为18～20℃，PH值为5～7，电压值为13～14V，处理时间为30～40分钟。
4.如权利要求3所述的光学反射率表面处理方法，其特征在于，所述封闭预处理步骤中采用的活性剂包含了10～26％的柠檬酸和1～5％的无机季铵盐活性剂，该活性剂的浓度为8～12g/L，温度为90～100℃，PH值为10.2～13.5，处理时间为30～40分钟。
5.如权利要求4所述的光学反射率表面处理方法，其特征在于，所述二次阳极氧化步骤中采用的硫酸的浓度为200～220g/L，温度为18～20℃，PH值为5～7，电压值为13～14V，处理时间为30～40分钟。
6.如权利要求5所述的光学反射率表面处理方法，其特征在于，所述封闭处理步骤中采用的封闭剂包含了10～26％的柠檬酸、1～5％的无机季铵盐活性剂及25～40％的氟化镍，该封闭剂的浓度为8～12g/L，温度为90～100℃，PH值为10～13，处理时间为30～40分钟。
7.如权利要求6所述的光学反射率表面处理方法，其特征在于，所述一次阳极氧化采用硫酸的浓度为210g/L，温度为19℃，PH值为6，电压值为13.5V，处理时间为35分钟；
所述封闭预处理步骤中处理时间为35分钟；
所述二次阳极氧化步骤中采用的硫酸的浓度为210g/L，温度为19℃，PH值为6，电压值为13.5V，处理时间为35分钟；
所述封闭处理步骤中所述封闭剂的浓度为10g/L，温度为95℃，PH值为11.5，处理时间为35分钟。
8.如权利要求7所述的光学反射率表面处理方法，其特征在于，所述二次阳极氧化后的产品表面生成的膜的总厚度为30～50μm；其颜色为黑色；且其表面光学反射率小于10％。
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Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1068411A (zh) * 1991-07-11 1993-01-27 北京市太阳能研究所 太阳能选择性吸收膜的制造方法及设备
CN1718869A (zh) * 2004-07-09 2006-01-11 日本轻金属株式会社 表面处理铝材及其制造方法
CN101205616A (zh) * 2006-12-20 2008-06-25 深圳富泰宏精密工业有限公司 金属工件的表面处理方法
CN101665970A (zh) * 2008-09-03 2010-03-10 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 铝及铝合金阳极氧化膜常温封闭剂及封闭方法
CN102433578A (zh) * 2011-11-28 2012-05-02 珠海市奥美伦精细化工有限公司 一种用于铝合金二次阳极氧化丝印前的处理剂及铝合金二次阳极氧化工艺
CN102534722A (zh) * 2011-11-28 2012-07-04 珠海市奥美伦精细化工有限公司 用于铝合金焊接区域、盲孔工件表面的染色前处理剂及其应用工艺
CN103014808A (zh) * 2012-12-14 2013-04-03 中国计量学院 用酒石酸阳极氧化制备铝合金阳极氧化膜的方法
CN103253072A (zh) * 2012-02-16 2013-08-21 汉达精密电子(昆山)有限公司 铝合金表面处理方法及其产品
CN103938251A (zh) * 2014-04-02 2014-07-23 台山市国际交通器材配件有限公司 一种铝合金轮毂表面阳极氧化处理工艺
CN106399779A (zh) * 2016-11-28 2017-02-15 安徽省煜灿新型材料科技有限公司 一种高强耐腐蚀铝合金型材及其制备方法
CN107245748A (zh) * 2017-04-24 2017-10-13 南京邮电大学 一种铝合金的二次阳极氧化工艺

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1068411A (zh) * 1991-07-11 1993-01-27 北京市太阳能研究所 太阳能选择性吸收膜的制造方法及设备
CN1718869A (zh) * 2004-07-09 2006-01-11 日本轻金属株式会社 表面处理铝材及其制造方法
CN101205616A (zh) * 2006-12-20 2008-06-25 深圳富泰宏精密工业有限公司 金属工件的表面处理方法
CN101665970A (zh) * 2008-09-03 2010-03-10 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 铝及铝合金阳极氧化膜常温封闭剂及封闭方法
CN102433578A (zh) * 2011-11-28 2012-05-02 珠海市奥美伦精细化工有限公司 一种用于铝合金二次阳极氧化丝印前的处理剂及铝合金二次阳极氧化工艺
CN102534722A (zh) * 2011-11-28 2012-07-04 珠海市奥美伦精细化工有限公司 用于铝合金焊接区域、盲孔工件表面的染色前处理剂及其应用工艺
CN103253072A (zh) * 2012-02-16 2013-08-21 汉达精密电子(昆山)有限公司 铝合金表面处理方法及其产品
CN103014808A (zh) * 2012-12-14 2013-04-03 中国计量学院 用酒石酸阳极氧化制备铝合金阳极氧化膜的方法
CN103938251A (zh) * 2014-04-02 2014-07-23 台山市国际交通器材配件有限公司 一种铝合金轮毂表面阳极氧化处理工艺
CN106399779A (zh) * 2016-11-28 2017-02-15 安徽省煜灿新型材料科技有限公司 一种高强耐腐蚀铝合金型材及其制备方法
CN107245748A (zh) * 2017-04-24 2017-10-13 南京邮电大学 一种铝合金的二次阳极氧化工艺

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