CN108421761A - 一种双气缸推瓦装置 - Google Patents

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    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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Abstract

一种双气缸推瓦装置，包括底板、第一导向板、传感器支架Ⅱ、第一推瓦杆、第一气缸、第二导向板、第三导向板、压板、第四导向板、第二推瓦杆和第二气缸；第一导向板上设有压板支架Ⅰ和传感器支座Ⅰ，传感器支座Ⅰ上设有传感器支架Ⅰ、检测片Ⅰ；第二导向板与第三导向板之间设有磁瓦通道；第一气缸的活塞杆与第一推瓦杆相连，第一推瓦杆位于第一导向板与第二导向板之间；第四导向板上设有压板支架Ⅱ和传感器支座Ⅱ，传感器支座Ⅱ上设有传感器支架Ⅲ、检测片Ⅱ；第二气缸的活塞杆与第二推瓦杆相连，第二推瓦杆位于第四导向板与第三导向板之间。利用本发明，可实现高压水清洗设备清洗过程中不会出现磁瓦拱起和叠加现象，磁瓦清洗效果好。

Description

一种双气缸推瓦装置
技术领域
本发明涉及一种双气缸推瓦装置。
背景技术
现有磁瓦在加工过程中需要进行清洗，其中，相对于超声波清洗等方式，采用高压水冲洗，清洗效果更佳。然而，现有磁瓦经输送机构送出后，是依靠相邻磁瓦之间的相互推力作用进入高压水冲洗设备进行清洗，其存在的缺陷是：冲洗过程中会出现磁瓦拱起和叠加的现象，进而影响清洗效果。
因此，目前亟需一种能避免清洗过程中出现磁瓦拱起和叠加现象，有利于对磁瓦进行清洗的装置。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是，提供一种能避免清洗过程中出现磁瓦拱起和叠加现象，有利于对磁瓦进行清洗的双气缸推瓦装置。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种双气缸推瓦装置，包括底板、第一导向板、传感器支架Ⅱ、第一推瓦杆、第一气缸、第二导向板、第三导向板、压板、第四导向板、第二推瓦杆和第二气缸；
所述第一导向板固定在底板上，所述第一导向板上设有压板支架Ⅰ和传感器支座Ⅰ，所述压板支架Ⅰ与压板相连，所述传感器支座Ⅰ上设有传感器支架Ⅰ、检测片Ⅰ，所述传感器支架Ⅰ上设有传感器Ⅰ；
所述第二导向板和第三导向板固定在底板上，所述第二导向板与第三导向板之间设有磁瓦通道；
所述第一气缸固定在底板上，所述第一气缸的活塞杆与第一推瓦杆相连，所述第一推瓦杆位于第一导向板与第二导向板之间；
所述传感器支架Ⅱ固定在底板上，位于第一推瓦杆旁边，所述传感器支架Ⅱ上安装有传感器Ⅱ；
所述第四导向板固定在底板上，所述第四导向板上设有压板支架Ⅱ和传感器支座Ⅱ，所述压板支架Ⅱ与压板相连，所述传感器支座Ⅱ上设有传感器支架Ⅲ、检测片Ⅱ，所述传感器支架Ⅲ上设有传感器Ⅲ；
所述第二气缸固定在底板上，所述第二气缸的活塞杆与第二推瓦杆相连，所述第二推瓦杆位于第四导向板与第三导向板之间。
进一步，所述第一导向板通过内六角螺栓固定在底板上。
进一步，所述第二导向板和第三导向板通过内六角螺栓固定在底板上。
进一步，所述第一气缸通过十字头螺栓固定在底板上。
进一步，所述传感器支架Ⅱ通过内六角螺栓固定在底板上。
进一步，所述第四导向板通过内六角螺栓固定在底板上。
研究实践表明，利用本发明之双气缸推瓦装置，可实现高压水清洗设备清洗过程中不会出现磁瓦拱起和叠加现象，磁瓦清洗效果好。
本发明结构简单、操作简便，且适应性好，能满足加工生产需求，有利于企业的发展。
附图说明
图1 为本发明实施例的主视图；
图2 为图1所示实施例的俯视图；
图3 为图1所示实施例的侧视图；
图4 为图1所示实施例的立体结构示意图；
图中：1-底板，2-第一导向板，3-压板支架Ⅰ，4-传感器支架Ⅱ，5-第一推瓦杆，6-第一气缸，7-传感器Ⅰ，8-第二导向板，9-传感器Ⅱ，10-第三导向板，11-压板，12-压板支架Ⅱ，13-传感器支架Ⅰ，14-检测片Ⅱ，15-传感器Ⅲ，17-传感器支座Ⅱ，18-传感器支座Ⅰ，19-检测片Ⅰ，20-第四导向板，21-第二推瓦杆，22-传感器支架Ⅲ，23-第二气缸。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本发明作进一步说明。
实施例
参照附图，本实施例包括底板1、第一导向板2、传感器支架Ⅱ4、第一推瓦杆5、第一气缸6、第二导向板8、第三导向板10、压板11、第四导向板20、第二推瓦杆21和第二气缸23；
所述第一导向板2通过内六角螺栓固定在底板1上，所述第一导向板2上设有压板支架Ⅰ3和传感器支座Ⅰ18，所述压板支架Ⅰ3与压板11相连，所述传感器支座Ⅰ18上设有传感器支架Ⅰ13、检测片Ⅰ19，所述传感器支架Ⅰ13上设有传感器Ⅰ7；
所述第二导向板8和第三导向板10通过内六角螺栓固定在底板1上，且第二导向板8与第三导向板10之间设有磁瓦通道；
所述第一气缸6通过十字头螺栓固定在底板1上，所述第一气缸6的活塞杆与第一推瓦杆5相连，所述第一推瓦杆5位于第一导向板2与第二导向板8之间；工作过程中，第一推瓦杆5随第一气缸6的活塞进行伸缩运动；
所述传感器支架Ⅱ4通过内六角螺栓固定在底板1上，位于第一推瓦杆5旁边，所述传感器支架Ⅱ4上安装有传感器Ⅱ9；
所述第四导向板20通过内六角螺栓固定在底板1上，所述第四导向板20上设有压板支架Ⅱ12和传感器支座Ⅱ17，所述压板支架Ⅱ12与压板11相连，所述传感器支座Ⅱ17上设有传感器支架Ⅲ22、检测片Ⅱ14，所述传感器支架Ⅲ22上设有传感器Ⅲ15；
所述第二气缸23固定在底板1上，所述第二气缸23的活塞杆与第二推瓦杆21相连，所述第二推瓦杆21位于第四导向板20与第三导向板10之间；工作过程中，第二推瓦杆21随第二气缸23的活塞进行伸缩运动。
工作过程：
1.待清洗的磁瓦，经输送机构输送进入第二导向板8与第三导向板10之间的磁瓦通道，当磁瓦碰触检测片Ⅱ14时，检测片Ⅱ14动作，传感器Ⅲ15有信号，第二推瓦杆21在第二气缸23作用下进行横推，同时在第一气缸6作用下第一推瓦杆5退回；
2.横推的磁瓦碰触检测片Ⅰ19时，检测片Ⅰ19动作，传感器Ⅰ7有感应信号，第一推瓦杆5在第一气缸6作用下推进（直推），推进到位则传感器Ⅱ9有感应信号，第一气缸6、第一推瓦杆5保持在推进到位状态，待下一次循环；
3.在第一气缸6、第一推瓦杆5推瓦的同时，第二气缸23、第二推瓦杆21退回；
4.第二气缸23、第二推瓦杆21退回之后，第一气缸6、第一推瓦杆5推瓦保持在推进到位状态，再次进瓦，到位后再次碰触检测片Ⅱ14动作，开启下一个循环，重复第1步。

Claims (10)

1.一种双气缸推瓦装置，其特征在于：包括底板、第一导向板、传感器支架Ⅱ、第一推瓦杆、第一气缸、第二导向板、第三导向板、压板、第四导向板、第二推瓦杆和第二气缸；
所述第一导向板固定在底板上，所述第一导向板上设有压板支架Ⅰ和传感器支座Ⅰ，所述压板支架Ⅰ与压板相连，所述传感器支座Ⅰ上设有传感器支架Ⅰ、检测片Ⅰ，所述传感器支架Ⅰ上设有传感器Ⅰ；
所述第二导向板和第三导向板固定在底板上，所述第二导向板与第三导向板之间设有磁瓦通道；
所述第一气缸固定在底板上，所述第一气缸的活塞杆与第一推瓦杆相连，所述第一推瓦杆位于第一导向板与第二导向板之间；
所述传感器支架Ⅱ固定在底板上，位于第一推瓦杆旁边，所述传感器支架Ⅱ上安装有传感器Ⅱ；
所述第四导向板固定在底板上，所述第四导向板上设有压板支架Ⅱ和传感器支座Ⅱ，所述压板支架Ⅱ与压板相连，所述传感器支座Ⅱ上设有传感器支架Ⅲ、检测片Ⅱ，所述传感器支架Ⅲ上设有传感器Ⅲ；
所述第二气缸固定在底板上，所述第二气缸的活塞杆与第二推瓦杆相连，所述第二推瓦杆位于第四导向板与第三导向板之间。
2.根据权利要求1所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述第一导向板通过内六角螺栓固定在底板上。
3.根据权利要求1或2所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述第二导向板和第三导向板通过内六角螺栓固定在底板上。
4.根据权利要求1或2所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述第一气缸通过十字头螺栓固定在底板上。
5.根据权利要求3所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述第一气缸通过十字头螺栓固定在底板上。
6.根据权利要求1或2所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述第一气缸通过十字头螺栓固定在底板上。
7.根据权利要求5所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述第一气缸通过十字头螺栓固定在底板上。
8.根据权利要求1或2所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述传感器支架Ⅱ通过内六角螺栓固定在底板上。
9.根据权利要求7所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述传感器支架Ⅱ通过内六角螺栓固定在底板上。
10.根据权利要求1或2所述的双气缸推瓦装置，其特征在于：所述第四导向板通过内六角螺栓固定在底板上。
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