CN108385060B - 眼镜片制作方法及制作装置 - Google Patents
眼镜片制作方法及制作装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108385060B CN108385060B CN201810181473.4A CN201810181473A CN108385060B CN 108385060 B CN108385060 B CN 108385060B CN 201810181473 A CN201810181473 A CN 201810181473A CN 108385060 B CN108385060 B CN 108385060B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate
- vacuum chamber
- vacuum
- arm
- ultraviolet irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 89
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 32
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 30
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 24
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 8
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 5
- 238000010407 vacuum cleaning Methods 0.000 claims description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract description 4
- 238000009501 film coating Methods 0.000 abstract description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- -1 acryl Chemical group 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
Abstract
本发明提供一种眼镜片制作方法，所述眼镜片制作方法包括：提供基片，基片包括相对的一第一表面和一第二表面；将基片进行碳氢清洗；将经碳氢清洗的基片进行超声雾化加硬；将经超声雾化加硬的基片进行紫外照射固化；将经紫外照射固化的基片进行镀膜处理，得到眼镜片成品。本发明还提供一种眼镜片制作装置。上述眼镜片制作装置，采用自动化智能控制，可实现连续化自动生产，节省人工物力，生产效率高，产品品质波动性小，操作方便。
Description
技术领域
本发明涉及光学技术领域，特别涉及一种眼镜片制作方法及制作装置。
背景技术
目前，眼镜片制作方法通常为半机械半手工的制作方法，其大体包括基片制作、加硬处理、以及加膜处理等步骤，而每一步骤制作完成后均需通过操作工人进行人工检验，且每一步骤制作过程中也需要伴有人工操作。该眼镜片制作方法，步骤繁琐，不能实现连续化自动生产，耗费大量的人力物力，产品品质波动性较大，生产效率低，还可能存在废弃物的排放问题。
发明内容
鉴于上述状况，有必要提供一种新型的眼镜片制作方法，其实现可自动化连续生产、免除人工操作、降低产品品质波动等。
本发明提供一种眼镜片制作方法，所述眼镜片制作方法包括：提供基片，基片包括相对的一第一表面和一第二表面；将基片进行碳氢清洗；将经碳氢清洗的基片进行超声雾化加硬；将经超声雾化加硬的基片进行紫外照射固化；将经紫外照射固化的基片进行镀膜处理，得到眼镜片成品。
进一步地，所述眼镜片制作方法的每一步骤制作完成后还需进行检验，所述检验步骤是：机械手臂将基片取出，检验装置的扫描仪扫描已完成相应制作的基片表面，并将扫描数据传递给控制系统，控制系统将扫描数据与控制系统中预存数据进行对比，对比结果在允许范围内即为检测合格，则进入下一流程，而对比结果超出允许范围即为检测不合格，则送入回收站。
进一步地，所述碳氢清洗采用可产生等离子体的碳氢清洗装置。
进一步地，所述紫外照射固化的时间为5～20分钟。
进一步地，所述真空镀膜的膜层为多层，包括二氧化硅、二氧化锆、氧化铟锡、低折射率金属氧化物、防水膜、及超硬膜之中至少一种。
本发明还提供一种眼镜片制作装置，所述眼镜片制作装置包括座体、内部中空封闭腔体的真空腔室、真空泵、机械手臂、碳氢清洗装置、超声雾化装置、紫外照射装置、真空镀膜装置、检验装置、以及控制系统，所述真空腔室设置于所述座体上部，所述真空泵设置于所述真空腔室外且与所述真空腔室的通孔连通，所述机械手臂、所述碳氢清洗装置、所述超声雾化装置、所述紫外照射装置、所述真空镀膜装置、以及所述检验装置设置于所述真空腔室内，所述机械手臂包括机械手臂本体和将所述机械手臂本体架设的手臂驱动架，所述机械手臂本体在所述手臂驱动架作用下可旋转、升降、水平移动，所述机械手臂本体上设置有用于卡合限位基片的卡夹，所述检验装置架设于所述真空腔室内某处以用于扫描所述基片表面，所述控制系统分别与所述真空泵、所述机械手臂、所述碳氢清洗装置、所述超声雾化装置、所述紫外照射装置、所述真空镀膜装置、以及所述检验装置分别电性连接，所述控制系统控制所述真空泵、所述机械手臂、所述碳氢清洗装置、所述超声雾化装置、所述紫外照射装置、及所述真空镀膜装置且接收所述检验装置传递的数据并对比计算发出指示。
进一步地，所述检验装置还包括摄像头和显示屏，所述摄像头架设于所述真空腔室内某处，所述摄像头与所述显示屏电性连接，所述显示屏设置于所述座体或所述真空腔室一侧且可通过可调节支架来调节所述显示屏的视觉角度，所述摄像头架设于所述真空腔室内某处。
进一步地，所述手臂驱动架的架腿下端设置有水平滑动机构以实现所述手臂驱动架及所述机械手臂本体的水平移动，所述手臂驱动架顶部的连接梁下方设置有可旋转的转盘，所述机械手臂本体的一端固定于所述转盘上且可随所述转盘的旋转而旋转，所述手臂驱动架的架腿上设置有升降机构以实现所述手臂驱动架及所述机械手臂本体竖直方向的移动。
进一步地，所述真空腔室上部开设有开口，所述开口上盖设有密封盖。
进一步地，所述眼镜片制作装置还包括压缩空气泵，所述压缩空气泵设置于所述真空腔室内，所述压缩空气泵泵出压缩空气对所述基片表面进行初步清洁。
本发明实施例的技术方案带来的有益效果是：上述眼镜片制作装置，采用自动化智能控制，可实现连续化自动生产，节省人工物力，生产效率高，产品品质波动性小，操作方便。
附图说明
图1是本发明实施例的眼镜片制作方法的流程示意图。
图2是本发明实施例的眼镜片制作装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施例作进一步地详细描述。
图1是本发明实施例的眼镜片制作方法的流程示意图，具体的，请参见图1，本发明的眼镜片制作方法包括如下步骤：
S101：提供基片，基片包括相对的一第一表面和一第二表面；
S102：将基片进行碳氢清洗；
S103：将经碳氢清洗的基片进行超声雾化加硬；
S104：将经超声雾化加硬的基片进行紫外照射固化；
S105：将经紫外照射固化的基片进行镀膜处理，得到眼镜片成品。
在步骤S101中，所提供基片200为树脂基片，基片200的材料可为聚碳酸酯(PolyCarbonate，PC)、聚甲基丙稀酸甲酯(Polymethyl Methacrylate，PMMA)、丙烯基二甘醇碳酸酯(CR-39)、以及苯乙烯(PS)等，但不限于此。基片200包括相对的第一表面和第二表面(以下简称基片表面)，基片200放置于眼镜片制作装置100的真空腔室12中基片放置架14上，关闭密封盖123将真空腔室12封闭，此时(真空腔室12处于大气压状态下)可通过压缩空气泵24泵出压缩空气对基片200表面的灰尘等附着物进行初步清洁。
在步骤S102至S105中在制作操作结束后均需进行检验操作，即步骤S102至S105包括制作和检验两个部分。
在步骤S102中，控制系统21控制真空泵13启动，抽出真空腔室12内空气使真空腔室12及设置于内部的各部件处于真空状态，机械手臂15夹取基片200且露出基片200表面，并将基片200送入碳氢清洗装置16，碳氢清洗装置16于真空状态下对基片200进行碳氢清洗，碳氢清洗装置16通过产生高能量的等离子体来去除基片200表面污物及水印并使之气化(气化成二氧化碳或水蒸气)而抽出真空腔室12，进而清洗基片200表面；机械手臂15将基片200从碳氢清洗装置16中取出，检验装置20的扫描仪202扫描基片200表面并将扫描数据传递给控制系统21，控制系统21将扫描数据与控制系统21中预存清洁后基片200表面的数据进行对比，对比结果在允许范围内即为检测合格，进入下一流程，而对比结果超出允许范围即为检测不合格，机械手臂15将基片200送入回收站22。其中，碳氢清洗的时间为2～20分钟。
在步骤S103中，控制系统21控制机械手臂15将基片200送入超声雾化装置17，超声雾化装置17于真空状态下对基片200进行超声雾化加硬，超声雾化装置17产生细密均匀的聚氨酯或/和有机硅颗粒喷射到基片200表面形成加硬膜层；机械手臂15将基片200从超声雾化装置17中取出，检验装置20的扫描仪202扫描基片200表面并将扫描数据传递给控制系统21，控制系统21将扫描数据与控制系统21中预存基片200加硬后基片200表面的数据进行对比，对比结果在允许范围内即为检测合格，进入下一流程，而对比结果超出允许范围即为检测不合格，机械手臂15将基片200送入回收站22。超声雾化的时间为2～20分钟。超声物化后也可静置一段时间如2分钟再进行下一步骤，其可根据需求来设定。
在步骤S104中，控制系统21控制机械手臂15将基片200送入紫外照射装置18，基片200于真空状态下进行紫外照射固化；机械手臂15将基片200从紫外照射装置18取出，检验装置20的扫描仪202扫描基片200表面并将扫描数据传递给控制系统21，控制系统21将扫描数据与控制系统21中预存固化后基片200表面的数据进行对比，对比结果在允许范围内即为检测合格，进入下一流程，而对比结果超出允许范围即为检测不合格，机械手臂15将基片200送入回收站22。紫外照射固化的时间为2～20分钟。紫外照射产生的高能量可将超声雾化加硬膜层更好的固化。
在步骤S105中，控制系统21控制机械手臂15将基片200送入真空镀膜装置19，基片200于真空状态下进行镀膜处理；机械手臂15将基片200从真空镀膜装置19取出，检验装置20的扫描仪202扫描基片200表面并将扫描数据传递给控制系统21，控制系统21将扫描数据与控制系统21中预存镀膜后基片200表面的数据进行对比，对比结果在允许范围内即为检测合格，得到眼镜片成品，机械手臂15将其放入成品放置架23，而对比结果超出允许范围即为检测不合格，机械手臂15将基片200送入回收站22。
真空镀膜装置19为真空镀膜(蒸发或溅射)，通常真空镀膜的膜层为多层，可包括二氧化硅、二氧化锆、氧化铟锡(ITO)、低折射率金属氧化物、防水膜、超硬膜等。具体地，膜层由内向外可依次为二氧化硅、二氧化锆、二氧化硅、二氧化锆、氧化铟锡、二氧化硅、防水膜或超硬膜，膜层还可由内向外可依次为二氧化锆、低折射率金属氧化物、氧化铟锡、二氧化硅、二氧化硅、防水膜或超硬膜，但不限于此。超硬膜可为类金刚石膜(Diamond-LikeCarbon，DLC)，类金刚石具有比较高的硬度、高导热性、高绝缘性、良好的化学稳定性、从红外到紫外的高光学透过率和良好的减摩特性等。防水膜的成分可为氟化物。低折射率金属氧化物可为氧化铝。
图2是本发明实施例的眼镜片制作装置的结构示意图，参见图2所示，本发明还包括一种眼镜片制作装置100。
眼镜片制作装置100包括座体11、真空腔室12、真空泵13、基片放置架14、机械手臂15、碳氢清洗装置16、超声雾化装置17、紫外照射装置18、真空镀膜装置19、检验装置20、控制系统21、回收站22、以及成品放置架23。
座体11包括水平支撑面112和设置水平支撑面112下方四角处的支腿114，支腿114位于地面上。眼镜片制作装置100的其他部件设置于座体11上。
真空腔室12为内部中空的封闭的腔体，真空腔室12设置于座体11的水平支撑面112上部，真空腔室12上部开设有开口122，开口122上盖设有密封盖123，密封盖123可为透明盖体而便于监视到真空腔室12内部。真空腔室12某处如底面设置有用于与真空泵123相连通的通孔124。基片放置架14、机械手臂15、碳氢清洗装置16、超声雾化装置17、紫外照射装置18、真空镀膜装置19、检验装置20、回收站22、及成品放置架23均设置于真空腔室12内。
真空泵13设置于真空腔室12外如设置于座体11某处，真空泵13与真空腔室12的通孔124密封连通。
基片放置架14、回收站22、及成品放置架23设置于真空腔室12内，基片放置架14用于放置待加工的基片200，回收站22用于回收制作过程中产生的不合格的基片200，成品放置架23用于放置加工完成的眼镜片成品。
机械手臂15设置于真空腔室12内，机械手臂15包括机械手臂本体151和手臂驱动架156。机械手臂本体151通过手臂驱动架156架设于真空腔室12内，机械手臂本体151在手臂驱动架156作用下可旋转、升降、水平移动。手臂驱动架156的架腿下端设置有水平滑动机构157以实现手臂驱动架156及机械手臂本体151的水平移动，水平滑动机构157可由滑轨和限位于滑轨中可沿滑轨滑动的滑块组成。手臂驱动架156顶部的连接梁下方设置有可旋转的转盘158，机械手臂本体151的一端固定于转盘158上且可随转盘158的旋转而旋转。手臂驱动架156的架腿上设置有升降机构159以实现手臂驱动架156及机械手臂本体151竖直方向的移动，升降机构159可为气缸。机械手臂本体151一端与手臂驱动架156的转盘158连接，机械手臂本体151另一端自由且设置有卡夹152，卡夹152用于卡合限位基片200且露出基片200表面便于对基片200进行相应的操作步骤及保护基片200表面，机械手臂本体151可为分段式手臂，各段手臂依次铰接连接而成，且相邻各段手臂间还可设置有气压杆154，机械手臂本体151的各段手臂可在控制系统21的控制移动。机械手臂15的结构不局限于前述描述。
碳氢清洗装置16设置于真空腔室12内某处，碳氢清洗装置16通过产生高能量的等离子体来去除基片200表面的污物及水印并使之气化，气化成二氧化碳、水蒸气。碳氢清洗装置16通过控制系统21控制开启及关闭。
超声雾化装置17设置于真空腔室12内某处，超声雾化装置17将聚氨酯或/和有机硅超声雾化喷射到基片200表面，经超声雾化装置17喷射的聚氨酯或/和有机硅具有更细更均匀的颗粒，在基片200表面形成更加均匀超声雾化加硬膜层。超声雾化的物质不限于聚氨酯和有机硅。
紫外照射装置18为紫外灯，紫外照射装置18可设置于真空腔室12的下表面，基片200表面经紫外照射装置18照射后超声雾化的聚氨酯或/和有机硅颗粒进行固化。紫外照射产生的高能量可将超声雾化加硬膜层更好的固化以提高硬度。
真空镀膜装置19设置于真空腔室12内某处，真空镀膜装置19为蒸发或溅射的真空镀膜装置，通常真空镀膜的膜层为多层，包括二氧化硅、二氧化锆、氧化铟锡(ITO)、低折射率金属氧化物、防水膜、超硬膜等。超硬膜可为类金刚石膜(Diamond-Like Carbon，DLC)，类金刚石具有比较高的硬度、高导热性、高绝缘性、良好的化学稳定性、从红外到紫外的高光学透过率和良好的减摩特性等。防水膜的成分可为氟化物。低折射率金属氧化物可为氧化铝。
检验装置20包括扫描仪202，扫描仪202架设于真空腔室12内某处，扫描仪202可扫描基片200表面，并将扫描数据传递给控制系统21，控制系统21将该扫描数据与控制系统21预存数据进行对比，对比结果在允许范围内即为检验合格，进入下一流程，而对比结果超出允许范围即为检验不合格，机械手臂15将不合格的基片200送入回收站22，而后进行回收处理及加工。检验装置20还包括指示灯，指示灯用于配合指示灯检验合格与否，检验合格配以绿色指示灯，检验不合格配以红色指示灯。进一步，检验装置20还可包括摄像头(图未示)和显示屏(图未示)，摄像头架设于真空腔室12内某处，显示屏设置于座体11或真空腔室12一侧且可通过可调节支架来调节显示屏的视觉角度，摄像头与显示屏电性连接，显示屏可显示摄像头拍摄到的画面(基片200表面的情况)，摄像头和扫描仪202架设于相同的位置，摄像头和显示屏便于人工监视基片200情况如疵点、杂质、划伤等。
控制系统21分别与真空泵13、机械手臂15、碳氢清洗装置16、超声雾化装置17、紫外照射装置18、真空镀膜装置19、检验装置20电性连接，控制系统21设置于真空腔室12腔壁中或真空腔室12外，控制系统21用于控制眼镜片制作装置100的相关部件，控制系统21控制真空泵13、机械手臂15、碳氢清洗装置16、超声雾化装置17、紫外照射装置18、真空镀膜装置19的工作，控制系统21预存经不同制作步骤加工后的基片200表面的数据，控制系统21接受检验装置20的扫描数据并自身存储的数据对比计算给出合格与否的指示进而指示进行下一步骤或送入回收站22。控制系统21预存数据包括清洁后基片200表面数据、加硬后基片200表面数据、镀膜后基片200表面数据等。
需要说明的，眼镜片制作装置100的部件可通过外接电源来提供动力，但不限于此。
眼镜片制作装置100还可包括压缩空气泵24，压缩空气泵24设置于真空腔室12内，通过压缩空气泵24泵出压缩空气对基片200表面进行初步清洁去除灰尘等。
本发明实施例的技术方案带来的有益效果是：上述眼镜片制作装置100，采用自动化智能控制，可实现连续化自动生产，节省人工物力，生产效率高，产品品质波动性小，操作方便。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (5)
1.一种眼镜片制作装置，其特征在于，所述眼镜片制作装置包括座体、内部中空封闭腔体的真空腔室、真空泵、机械手臂、碳氢清洗装置、超声雾化装置、紫外照射装置、真空镀膜装置、检验装置、以及控制系统，所述真空腔室设置于所述座体上部，所述真空泵设置于所述真空腔室外且与所述真空腔室的通孔连通，所述机械手臂、所述碳氢清洗装置、所述超声雾化装置、所述紫外照射装置、所述真空镀膜装置、以及所述检验装置设置于所述真空腔室内，所述机械手臂包括机械手臂本体和将所述机械手臂本体架设的手臂驱动架，所述机械手臂本体在所述手臂驱动架作用下可旋转、升降、水平移动，所述机械手臂本体上设置有用于卡合限位基片的卡夹，所述检验装置架设于所述真空腔室内某处以用于扫描所述基片表面，所述控制系统分别与所述真空泵、所述机械手臂、所述碳氢清洗装置、所述超声雾化装置、所述紫外照射装置、所述真空镀膜装置、以及所述检验装置分别电性连接，所述控制系统控制所述真空泵、所述机械手臂、所述碳氢清洗装置、所述超声雾化装置、所述紫外照射装置、及所述真空镀膜装置且接收所述检验装置传递的数据并对比计算发出指示。
2.如权利要求1所述的眼镜片制作装置，其特征在于，所述检验装置还包括摄像头和显示屏，所述摄像头架设于所述真空腔室内某处，所述摄像头与所述显示屏电性连接，所述显示屏设置于所述座体或所述真空腔室一侧且可通过可调节支架来调节所述显示屏的视觉角度，所述摄像头架设于所述真空腔室内某处。
3.如权利要求1所述的眼镜片制作装置，其特征在于，所述手臂驱动架的架腿下端设置有水平滑动机构以实现所述手臂驱动架及所述机械手臂本体的水平移动，所述手臂驱动架顶部的连接梁下方设置有可旋转的转盘，所述机械手臂本体的一端固定于所述转盘上且可随所述转盘的旋转而旋转，所述手臂驱动架的架腿上设置有升降机构以实现所述手臂驱动架及所述机械手臂本体竖直方向的移动。
4.如权利要求1所述的眼镜片制作装置，其特征在于，所述真空腔室上部开设有开口，所述开口上盖设有密封盖。
5.如权利要求1所述的眼镜片制作装置，其特征在于，所述眼镜片制作装置还包括压缩空气泵，所述压缩空气泵设置于所述真空腔室内，所述压缩空气泵泵出压缩空气对所述基片表面进行初步清洁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810181473.4A CN108385060B (zh) | 2018-03-06 | 2018-03-06 | 眼镜片制作方法及制作装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810181473.4A CN108385060B (zh) | 2018-03-06 | 2018-03-06 | 眼镜片制作方法及制作装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108385060A CN108385060A (zh) | 2018-08-10 |
| CN108385060B true CN108385060B (zh) | 2020-08-07 |
Family
ID=63069934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810181473.4A Expired - Fee Related CN108385060B (zh) | 2018-03-06 | 2018-03-06 | 眼镜片制作方法及制作装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108385060B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109913840B (zh) * | 2019-05-06 | 2021-06-04 | 成都精密光学工程研究中心 | 应用于多腔体镀膜装置的机械手及多腔体镀膜装置 |
| CN110286426A (zh) * | 2019-05-13 | 2019-09-27 | 江苏新唯尊光学眼镜有限公司 | 一种变色镜片的浸泡生产工艺 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1871180A (zh) * | 2002-01-14 | 2006-11-29 | 埃西勒国际通用光学公司 | 用于处理眼镜片的方法 |
| CN101241238A (zh) * | 2007-09-12 | 2008-08-13 | 江苏明月光电科技有限公司 | 运动型抗冲击光学树脂眼镜片的制造工艺 |
| CN103076690A (zh) * | 2013-01-18 | 2013-05-01 | 临海市天和眼镜有限公司 | 一种滤光眼镜片的制造方法 |
| CN105820361A (zh) * | 2016-04-15 | 2016-08-03 | 宁波威霖住宅设施有限公司 | 一种塑性件表面处理方法 |
| CN107096703A (zh) * | 2016-02-23 | 2017-08-29 | 宋琇莹 | 镜片防雾薄膜制造方法及镜片防雾薄膜的光硬化装置 |
| CN107611315A (zh) * | 2017-08-10 | 2018-01-19 | 无锡沄沨科技有限公司 | 一种电池隔膜的pdvf涂覆方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070264426A1 (en) * | 2006-05-12 | 2007-11-15 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Optical lens coating apparatus and method |
| US10550474B1 (en) * | 2010-02-26 | 2020-02-04 | Quantum Innovations, Inc. | Vapor deposition system |
-
2018
- 2018-03-06 CN CN201810181473.4A patent/CN108385060B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1871180A (zh) * | 2002-01-14 | 2006-11-29 | 埃西勒国际通用光学公司 | 用于处理眼镜片的方法 |
| CN101241238A (zh) * | 2007-09-12 | 2008-08-13 | 江苏明月光电科技有限公司 | 运动型抗冲击光学树脂眼镜片的制造工艺 |
| CN103076690A (zh) * | 2013-01-18 | 2013-05-01 | 临海市天和眼镜有限公司 | 一种滤光眼镜片的制造方法 |
| CN107096703A (zh) * | 2016-02-23 | 2017-08-29 | 宋琇莹 | 镜片防雾薄膜制造方法及镜片防雾薄膜的光硬化装置 |
| CN105820361A (zh) * | 2016-04-15 | 2016-08-03 | 宁波威霖住宅设施有限公司 | 一种塑性件表面处理方法 |
| CN107611315A (zh) * | 2017-08-10 | 2018-01-19 | 无锡沄沨科技有限公司 | 一种电池隔膜的pdvf涂覆方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108385060A (zh) | 2018-08-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108385060B (zh) | 眼镜片制作方法及制作装置 | |
| TWI330733B (zh) | ||
| CN105424717B (zh) | 多重瑕疵检出的光学检测设备 | |
| CN103323971B (zh) | 贴合玻璃面板的方法及使用该方法的真空贴合机 | |
| CN105467777A (zh) | 曝光机及光罩洁净设备 | |
| KR20090048206A (ko) | 입체영상용 디스플레이 패널 합착시스템 | |
| CN1789874A (zh) | 被加热体的干燥方法、加热炉及设备的制造方法 | |
| CN101617262B (zh) | 利用镭射的液晶显示器的黑化装置及方法 | |
| CN112845387B (zh) | 一种超薄网格薄膜用激光清洗装置及薄膜用激光清洗方法 | |
| US11504905B2 (en) | Methods of reducing distortion of additively manufactured objects | |
| KR100891290B1 (ko) | 액정표시장치용 배향막 형성장치 및 이를 이용한 배향막형성방법 | |
| CN100437220C (zh) | 微小图案观察装置及采用该装置的微小图案修正装置 | |
| KR20110032991A (ko) | 냉장고 내부 판넬 트리밍 장치 | |
| CN105044990B (zh) | 光配向设备与光配向方法 | |
| CN207031530U (zh) | 一种真空光学镀膜装置 | |
| CN206052135U (zh) | 一种用于手机镜头薄型树脂滤光片真空蒸镀装置 | |
| JPH10282322A (ja) | 基板の部分欠陥修正方法およびその装置並びにカラーフィルターの製造方法および製造装置 | |
| CN114296157A (zh) | 一种智能化的镜片蓝膜贴合设备 | |
| CN106773095A (zh) | 一种光栅贴合方法及装置 | |
| CN115999872A (zh) | 一种uv固化加硬眼镜片的制备方法及其制备装置 | |
| CN112014215A (zh) | 一种水泥石微观抗压强度与弹性模量的测试装置与方法 | |
| CN206178336U (zh) | 一种曲面产品的曝光设备 | |
| KR20210004426A (ko) | 기판 접합 프레스 장치 및 방법 | |
| KR100931605B1 (ko) | 액정표시장치용 배향막 형성장치 및 이를 이용한 배향막형성방법 | |
| CN1189739C (zh) | 保持架机构 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20200807 |