CN108318429A - 一种血液分析仪液流系统流动室 - Google Patents
一种血液分析仪液流系统流动室 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108318429A CN108318429A CN201710040037.0A CN201710040037A CN108318429A CN 108318429 A CN108318429 A CN 108318429A CN 201710040037 A CN201710040037 A CN 201710040037A CN 108318429 A CN108318429 A CN 108318429A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- polishing
- substrate
- polishing substrate
- temperature
- quartz glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 title claims abstract description 32
- 239000008280 blood Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 327
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 320
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 56
- 239000004568 cement Substances 0.000 claims abstract description 54
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims abstract description 36
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 73
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 24
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 20
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 15
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 claims description 5
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 claims description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000004927 fusion Effects 0.000 abstract description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 210000000601 blood cell Anatomy 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000017531 blood circulation Effects 0.000 description 1
- 238000009534 blood test Methods 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/0332—Cuvette constructions with temperature control
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
本发明公开了一种血液分析仪液流系统流动室及其制备方法，包括由第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片经过分批光胶、高温键合和抛光研磨加工形成一个整体的流动室，研磨抛光后的第二抛光基片和第三抛光基片的厚度和之间预留的距离分别为缝隙孔的高度和宽度，缝隙孔的两端设有圆形扩孔和与缝隙孔相连的过渡锥孔，制备过程中采用两次次高温烘烤键合，两次高温烘烤键合都分成四个阶段进行控制，经过不断优化改进测试得到加热阶段、恒温阶段、慢热阶段和快冷阶段中的温度曲线和保温时间参数；本发明由四个抛光基片高温键合形成一个整体的流动室，加工过程精度可控，融合后质量稳定、精度高、强度好、耐酸碱性能好。
Description
技术领域
本发明涉及光学器件加工技术领域，尤其涉及一种血液分析仪液流系统流动室及其制备方法。
背景技术
血液分析仪又称全自动血液分析仪（Automated hematology analyzer AHA）、血细胞自动计数仪（Automated blood cell counter，ABCC），是现代临床血液检验常用的检测仪器，能够进行全血细胞的分析及相关项目的检测。血液分析仪中包括光学系统、液流系统、自动上样系统、信号检测传输系统和软件分析系统等。液流系统中的核心部件称为流动室，当血液在一定的压力条件下流入流动室中，激光器发出的激光从流动室垂直穿射后能够呈现出不同颜色，能够利用颜色区分血液的成分含量来分析判断血液病变情况。
流动室通常由石英玻璃材料制成，以前常用的是整体式流动室，流动室内孔尺寸小、精度要求高，其加工难度大，加工时容易变形，导致国内许多厂家都无法批量生产出合格的流动室，大部分的流动室产品都需要从国外进口。
发明内容
为克服现有技术的不足，本发明提供了一种精度高、强度好、耐酸碱性能好的血液分析仪液流系统流动室及其制备方法。
本发明为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种血液分析仪液流系统流动室，包括第一抛光基片，所述第一抛光基片上设有两个平行的第二抛光基片、第三抛光基片，所述第二抛光基片和第三抛光基片上设有第四抛光基片，所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片之间设有构成流动室内孔的缝隙孔，所述第二抛光基片和第三抛光基片之间预留的距离为缝隙孔的宽度，研磨抛光后的所述第二抛光基片和第三抛光基片的厚度为缝隙孔的高度，所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片通过高温键合连接在一起形成一个整体，所述缝隙孔的两端设有圆形扩孔，所述圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔。
所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，其中λ为632.8nm；所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm；所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm。
构成流动室内孔的所述缝隙孔尺寸小于0.2x0.2mm。
所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10。
一种制备上述的血液分析仪液流系统流动室的制备方法，其特征在于：其包括如下步骤：
S1：第一次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的表面进行加工，加工后的质量要求为：基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm，基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm，基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，基片中四条长棱线崩边<0.02mm；
S2：第一次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第二抛光基片、第三抛光基片光胶在第一抛光基片的抛光表面光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片的两端左右靠齐，第二抛光基片和第三抛光基片之间预留距离作为流动室内孔的缝隙孔宽度，不得凹凸不平，光胶是根据分子间扩散原理使表面光滑的两件物体通过分子吸引力粘接在一起；
S3：第一次高温烘烤键合：将深化光胶后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第一次高温烘烤键合包括四个阶段：
A加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1120℃~1200℃，升温速率为1℃-20℃/分钟；
B恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为12-48小时；
C慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为0.1℃-5℃/分钟；
D快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在1℃-30℃/分钟；
S4：第二次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的表面进行加工，将第二抛光基片和第三抛光基片的厚度研磨至流动室内孔要求的缝隙孔高度，加工后的质量要求为：组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S5：第二次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第四抛光基片光胶在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的抛光表面，光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端左右靠齐，不得凹凸不平；
S6：第二次高温烘烤键合：将深化光胶后的第四抛光基片和第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第二次高温烘烤键合包括四个阶段：
E加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1120℃~1200℃，升温速率为1℃-15℃/分钟；
F恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为12-48小时；
G慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为0.1℃-5℃/分钟；
H快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在1℃-20℃/分钟；
S7：第三次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对由第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温烘烤键合形成的整体组合件表面进行加工，加工后的质量要求为：整体组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，整体组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，整体组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，整体组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S8：整体组合件两端钻孔成型：在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端钻出圆形扩孔，圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔，钻孔后经过清洗烘干后处理得到血液分析仪液流系统流动室产品。
本发明的有益效果是：
1、通过利用第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温键合形成一个整体的流动室，流动室由四个基片分批光胶键合和抛光研磨加工而成，加工过程精度可控，融合后质量稳定、精度高；
2、制备方法中的第一次高温烘烤键合和第二次高温烘烤键合为制备的关键工序，两次高温烘烤键合都分成四个阶段进行控制，其工艺参数经过大量的分析对比试验和创新设计，经过不断优化改进测试得到加热阶段、恒温阶段、慢热阶段和快冷阶段中的温度曲线和保温时间参数，比常见的烘烤键合工艺能够更加有利于提高流动室产品性能；
3、通过四个阶段的高温烘烤键合，确保加工后的流动室产品具有高的机械强度，材质硬度高、耐磨损；流动室产品键合后形成一个整体，其耐酸碱性能优越，适合在各种分析条件下使用；
4、通过采用性能优良的石英玻璃键合形成整体的流动室产品纯度高，具有高抗激光损伤阈值特性；采用石英玻璃键合形成整体的流动室产品具有短波至长波范围的高透过率，有利于光谱分析；
5、第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片都为平板结构，其精度容易加工保证，适合大批稳定生产。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。其中：
图1是本发明血液分析仪液流系统流动室的端面示意图；
图2是本发明血液分析仪液流系统流动室的剖视示意图。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。
请参阅图1及图2所示，本发明血液分析仪液流系统流动室包括第一抛光基片1，所述第一抛光基片1上设有两个平行的第二抛光基片2、第三抛光基片3，所述第二抛光基片2和第三抛光基片3上设有第四抛光基片4，所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4之间设有构成流动室内孔的缝隙孔5，所述第二抛光基片2和第三抛光基片3之间预留的距离为缝隙孔5的宽度，研磨抛光后的所述第二抛光基片2和第三抛光基片2的厚度为缝隙孔5的高度，所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4通过高温键合连接在一起形成一个整体，所述缝隙孔5的两端设有圆形扩孔6，所述圆形扩孔6中设有与所述缝隙孔5相连的过渡锥孔61。
所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4中每个平面的平面度误差小于λ/8，其中λ为632.8nm；所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片2和第四抛光基片4中相对面的平行度误差小于0.0005mm；所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4中相邻面的垂直度误差小于0.001mm。
构成流动室内孔的所述缝隙孔5尺寸小于0.2x0.2mm。
所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，其检测标准参考美国军用标准MIL-PRF-13830B。
上述血液分析仪液流系统流动室的制备方法实施例1：制备血液分析仪液流系统流动室的制备方法包括如下步骤：
S1：第一次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的表面进行加工，加工后的质量要求为：基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm，基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm，基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，基片中四条长棱线崩边<0.02mm；
S2：第一次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第二抛光基片、第三抛光基片光胶在第一抛光基片的抛光表面光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片的两端左右靠齐，第二抛光基片和第三抛光基片之间预留距离作为流动室内孔的缝隙孔宽度，如缝隙孔宽度为0.2mm，基片表面不得凹凸不平；
S3：第一次高温烘烤键合：将深化光胶后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第一次高温烘烤键合包括四个阶段：
A加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1200℃，升温速率为1℃/分钟；
B恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为48小时；
C慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为0.1℃/分钟；
D快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在1℃/分钟；
S4：第二次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的表面进行加工，将第二抛光基片和第三抛光基片的厚度研磨至流动室内孔要求的缝隙孔高度，如缝隙孔高度为0.2mm，加工后的质量要求为：组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S5：第二次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第四抛光基片光胶在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的抛光表面，光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端左右靠齐，不得凹凸不平；
S6：第二次高温烘烤键合：将深化光胶后的第四抛光基片和第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第二次高温烘烤键合包括四个阶段：
E加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1200℃，升温速率为15℃/分钟；
F恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为48小时；
G慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为5℃/分钟；
H快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在5℃/分钟；
S7：第三次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对由第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温烘烤键合形成的整体组合件表面进行加工，加工后的质量要求为：整体组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，整体组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，整体组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，整体组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S8：整体组合件两端钻孔成型：在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端钻出圆形扩孔，圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔，钻孔后经过清洗烘干后处理得到血液分析仪液流系统流动室产品。
上述血液分析仪液流系统流动室的制备方法实施例2：制备血液分析仪液流系统流动室的制备方法包括如下步骤：
S1：第一次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的表面进行加工，加工后的质量要求为：基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm，基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm，基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，基片中四条长棱线崩边<0.02mm；
S2：第一次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第二抛光基片、第三抛光基片光胶在第一抛光基片的抛光表面光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片的两端左右靠齐，第二抛光基片和第三抛光基片之间预留距离作为流动室内孔的缝隙孔宽度，不得凹凸不平；
S3：第一次高温烘烤键合：将深化光胶后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第一次高温烘烤键合包括四个阶段：
A加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1200℃，升温速率为5℃/分钟；
B恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为12小时；
C慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为2℃/分钟；
D快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在5℃/分钟；
S4：第二次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的表面进行加工，将第二抛光基片和第三抛光基片的厚度研磨至流动室内孔要求的缝隙孔高度，加工后的质量要求为：组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S5：第二次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第四抛光基片光胶在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的抛光表面，光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端左右靠齐，不得凹凸不平；
S6：第二次高温烘烤键合：将深化光胶后的第四抛光基片和第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第二次高温烘烤键合包括四个阶段：
E加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1200℃，升温速率为1℃/分钟；
F恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为12小时；
G慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为3℃/分钟；
H快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在5℃/分钟；
S7：第三次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对由第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温烘烤键合形成的整体组合件表面进行加工，加工后的质量要求为：整体组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，整体组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，整体组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，整体组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S8：整体组合件两端钻孔成型：在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端钻出圆形扩孔，圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔，钻孔后经过清洗烘干后处理得到血液分析仪液流系统流动室产品。
上述血液分析仪液流系统流动室的制备方法实施例3：制备血液分析仪液流系统流动室的制备方法包括如下步骤：
S1：第一次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的表面进行加工，加工后的质量要求为：基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm，基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm，基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，基片中四条长棱线崩边<0.02mm；
S2：第一次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第二抛光基片、第三抛光基片光胶在第一抛光基片的抛光表面光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片的两端左右靠齐，第二抛光基片和第三抛光基片之间预留距离作为流动室内孔的缝隙孔宽度，不得凹凸不平；
S3：第一次高温烘烤键合：将深化光胶后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第一次高温烘烤键合包括四个阶段：
A加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1200℃，升温速率为20℃/分钟；
B恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为24小时；
C慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为5℃/分钟；
D快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在30℃/分钟；
S4：第二次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的表面进行加工，将第二抛光基片和第三抛光基片的厚度研磨至流动室内孔要求的缝隙孔高度，加工后的质量要求为：组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S5：第二次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第四抛光基片光胶在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的抛光表面，光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端左右靠齐，不得凹凸不平；
S6：第二次高温烘烤键合：将深化光胶后的第四抛光基片和第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第二次高温烘烤键合包括四个阶段：
E加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1200℃，升温速率为5℃/分钟；
F恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为24小时；
G慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为0.1℃/分钟；
H快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在20℃/分钟；
S7：第三次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对由第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温烘烤键合形成的整体组合件表面进行加工，加工后的质量要求为：整体组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，整体组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，整体组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，整体组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S8：整体组合件两端钻孔成型：在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端钻出圆形扩孔，圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔，钻孔后经过清洗烘干后处理得到血液分析仪液流系统流动室产品。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (6)
1.一种血液分析仪液流系统流动室，其特征在于：包括第一抛光基片，所述第一抛光基片上设有两个平行的第二抛光基片、第三抛光基片，所述第二抛光基片和第三抛光基片上设有第四抛光基片，所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片之间设有构成流动室内孔的缝隙孔，所述第二抛光基片和第三抛光基片之间预留的距离为缝隙孔的宽度，研磨抛光后的所述第二抛光基片和第三抛光基片的厚度为缝隙孔的高度，所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片通过高温键合连接在一起形成一个整体，所述缝隙孔的两端设有圆形扩孔，所述圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔。
2.根据权利要求1所述的一种血液分析仪液流系统流动室，其特征在于：所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，其中λ为632.8nm；所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm；所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm。
3.根据权利要求1所述的一种血液分析仪液流系统流动室，其特征在于：构成流动室内孔的所述缝隙孔尺寸小于0.2x0.2mm。
4.根据权利要求1所述的一种血液分析仪液流系统流动室，其特征在于：所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10。
5.一种制备权利要求1所述的血液分析仪液流系统流动室的制备方法，其特征在于：其包括如下步骤：
S1：第一次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的表面进行加工，加工后的质量要求为：基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm，基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm，基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，基片中四条长棱线崩边<0.02mm；
S2：第一次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第二抛光基片、第三抛光基片光胶在第一抛光基片的抛光表面光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片的两端左右靠齐，第二抛光基片和第三抛光基片之间预留距离作为流动室内孔的缝隙孔宽度，不得凹凸不平，光胶是根据分子间扩散原理使表面光滑的两件物体通过分子吸引力粘接在一起；
S3：第一次高温烘烤键合：将深化光胶后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第一次高温烘烤键合包括四个阶段：
A加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1120℃~1200℃，升温速率为1℃-20℃/分钟；
B恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为12-48小时；
C慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为0.1℃-5℃/分钟；
D快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在1℃-30℃/分钟；
S4：第二次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的表面进行加工，将第二抛光基片和第三抛光基片的厚度研磨至流动室内孔要求的缝隙孔高度，加工后的质量要求为：组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S5：第二次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第四抛光基片光胶在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的抛光表面，光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端左右靠齐，不得凹凸不平；
S6：第二次高温烘烤键合：将深化光胶后的第四抛光基片和第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第二次高温烘烤键合包括四个阶段：
E加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1120℃~1200℃，升温速率为1℃-15℃/分钟；
F恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为12-48小时；
G慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为0.1℃-5℃/分钟；
H快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在1℃-20℃/分钟；
S7：第三次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对由第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温烘烤键合形成的整体组合件表面进行加工，加工后的质量要求为：整体组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，整体组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，整体组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，整体组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；
S8：整体组合件两端钻孔成型：在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端钻出圆形扩孔，圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔，钻孔后经过清洗烘干后处理得到血液分析仪液流系统流动室产品。
6.根据权利要求5所述的一种血液分析仪液流系统流动室的制备方法，其特征在于：所述步骤S3第一次高温烘烤键合与S6第二次高温烘烤键合中的加热阶段升温速率、慢热阶段降温速率和快冷阶段降温速率各自选取不同的参数值。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710040037.0A CN108318429B (zh) | 2017-01-18 | 一种血液分析仪液流系统流动室 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710040037.0A CN108318429B (zh) | 2017-01-18 | 一种血液分析仪液流系统流动室 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108318429A true CN108318429A (zh) | 2018-07-24 |
| CN108318429B CN108318429B (zh) | 2024-05-10 |
Family
ID=
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108675620A (zh) * | 2018-05-21 | 2018-10-19 | 许昌市红外技术研究所有限公司 | 一种石英玻璃的精密退火方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101356441A (zh) * | 2005-10-25 | 2009-01-28 | 株式会社岛津制作所 | 流通池及其制造方法 |
| CN102353631A (zh) * | 2010-06-04 | 2012-02-15 | 株式会社堀场制作所 | 光学测量用池 |
| CN104428656A (zh) * | 2012-07-13 | 2015-03-18 | 株式会社日立高新技术 | 生物体物质分析用流动池和生物体物质分析装置 |
| JP2016001135A (ja) * | 2014-06-11 | 2016-01-07 | 株式会社堀場製作所 | 光学測定セル及び光学分析計 |
| CN206399810U (zh) * | 2017-01-18 | 2017-08-11 | 福州荣德光电科技有限公司 | 一种血液分析仪液流系统流动室 |
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101356441A (zh) * | 2005-10-25 | 2009-01-28 | 株式会社岛津制作所 | 流通池及其制造方法 |
| CN102353631A (zh) * | 2010-06-04 | 2012-02-15 | 株式会社堀场制作所 | 光学测量用池 |
| CN104428656A (zh) * | 2012-07-13 | 2015-03-18 | 株式会社日立高新技术 | 生物体物质分析用流动池和生物体物质分析装置 |
| JP2016001135A (ja) * | 2014-06-11 | 2016-01-07 | 株式会社堀場製作所 | 光学測定セル及び光学分析計 |
| CN206399810U (zh) * | 2017-01-18 | 2017-08-11 | 福州荣德光电科技有限公司 | 一种血液分析仪液流系统流动室 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108675620A (zh) * | 2018-05-21 | 2018-10-19 | 许昌市红外技术研究所有限公司 | 一种石英玻璃的精密退火方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11649187B2 (en) | Glass ceramic articles having improved properties and methods for making the same | |
| TWI679183B (zh) | 具有深的壓縮深度之強化玻璃 | |
| Li et al. | Morphology and distribution of subsurface damage in optical fused silica parts: Bound-abrasive grinding | |
| TW201619088A (zh) | 含有金屬氧化物濃度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷 | |
| Yang et al. | Investigation of scratching sequence influence on material removal mechanism of glass-ceramics by the multiple scratch tests | |
| CN101893734B (zh) | 大尺寸光纤面板的制作方法 | |
| TWI725603B (zh) | 製作三維玻璃陶瓷製品的方法 | |
| Fang et al. | Numerical study of the micro-pulling-down process for sapphire fiber crystal growth | |
| Krol et al. | High-temperature light scattering and the glass transition in vitreous silica | |
| CN108318429A (zh) | 一种血液分析仪液流系统流动室 | |
| Tang et al. | Research on single point diamond turning of chalcogenide glass aspheric lens | |
| CN108318429B (zh) | 一种血液分析仪液流系统流动室 | |
| US20200299185A1 (en) | Laminated glass article with aperture formed therein and methods for forming the same | |
| Smith et al. | Controlling stress in sapphire optics | |
| CN206399810U (zh) | 一种血液分析仪液流系统流动室 | |
| JP2008056496A (ja) | マイクロ化学チップ用ガラス基板およびその製造方法ならびにマイクロ化学チップの製造方法 | |
| CN101923188B (zh) | 保偏光纤应力定轴方法 | |
| Mohammadi et al. | A first investigation of green lasers in micro-laser assisted scratch tests on silicon | |
| Döhring et al. | Properties of Zerodur mirror blanks for extremely large telescopes | |
| CN112338346B (zh) | 一种采用瞬间液相扩散焊连接蓝宝石的方法 | |
| Mohammadi et al. | Scratch Tests on Granite Using Micro-Laser Assisted Machining Technique | |
| Li et al. | The optical response of the silver nano-sphere with two spindle-shaped cavities in a sub-wavelength quartz fiber | |
| VanBrocklin et al. | Corning's approach to segment blank manufacturing for an extremely large telescope | |
| CN206230369U (zh) | 打砂磨头及其组件 | |
| VanBrocklin et al. | Review of Corning's capabilities for ULE mirror blank manufacturing for an extremely large telescope |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| TA01 | Transfer of patent application right | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20240407 Address after: No. 101-102, Building 11, Zhongmeng Science and Technology Park, No. 54 Hongta East Road, Caoban Village, Jingcheng Town, High tech Zone, Zhangzhou City, Fujian Province, 363099 Applicant after: Fujian Rongde Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Country or region after: China Address before: North side of 2nd floor, Building 4, No. 18 Majiang Road (M9511 Industrial Park), Mawei District, Fuzhou City, Fujian Province, 350000 (within the Free Trade Zone) Applicant before: FUZHOU RD PHOTONICS Co.,Ltd. Country or region before: China |
|
| GR01 | Patent grant |