CN108281364A - 一种垂直led芯片的导电膜测试方法 - Google Patents

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张海旭
陈党盛
王亚洲
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    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/10Measuring as part of the manufacturing process
    • H01L22/12Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions

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Abstract

本发明公开了一种垂直LED芯片的导电膜测试方法,该方法包含以下过程:将待测试的垂直LED芯片放置在作为衬台物的导电膜上;更换测试机的平台及测试机接线方式;将放置有待测试的垂直LED芯片导电膜进行翻转,将所述待测试的垂直LED芯片翻转至其他的导电膜;测试所述其他的导电膜上的待测试的垂直LED芯片。本发明通过使用导电膜+测试机平台改造,实现垂直LED芯片的背面导电测试,有效降低成本,提升产品品质,本发明还可以涵盖不同条件下抽测、全测及QC检验测试。

Description

一种垂直LED芯片的导电膜测试方法
技术领域
本发明涉及垂直LED芯片的测试领域,特别涉及一种垂直LED芯片的导电膜测试方法。
背景技术
传统的LED芯片通常呈四边形,并且其结构有两种:横向结构(Lateral))和垂直结构(Vertical)。其中,垂直结构LED芯片的两个电极分别在LED外延层的两侧,由于图形化电极和全部的p型氮化镓层作为第二电极,使得电流几乎全部垂直流过LED外延层,极少有横向流动的电流,因而可改善平面结构的电流分布问题,提高发光效率,也可以解决P电极的遮光问题,提升LED的发光面积。
目前垂直LED芯片的制备工艺主要为,在衬底上(一般为蓝宝石材料)生长GaN在该GaN基外延层上制作接触层和金属反光镜层,然后采用电镀或基板键合(Waferbonding)的方式制作导热性能良好的导热基板,同时也作为GaN基外延层的新衬底,再通过激光剥离的方法使蓝宝石衬底和GaN基外延层分离,外延层转移到金属基板上,这样使得LED芯片的散热性能会更好,之后再形成N型电极和P型电极。
具体地,图1所示为现有技术中垂直LED芯片的结构示意图;垂直LED芯片包括依次连接的P型电极10、P型GaN层20、量子阱层30、N型GaN层40以及N型电极50。
芯片测试是指在芯片封装前,先进行一部分的测试以排除掉一些坏掉的芯片,保证出厂的芯片都是没问题的。
综上所述,受垂直LED芯片产品工艺结构特性限制,正常测试探针无法测至芯片背面电极层,导致垂直产品回测检验时,无法有效检测出产品的质量,为了解决这一问题,人们通常需要使用特制机器设备,或是人工手动进行单颗测试,效率低且成本较高。
发明内容
本发明的目的是提供一种垂直LED芯片的导电膜测试方法,通过将绝缘的蓝膜替换成一种可导电的蓝膜,并对应的将测试机平台进行改造,实现垂直LED的背面导电测试,可减少异常芯片的流出风险,有效提升芯片产品的可靠性。
为了达到上述目的,本发明提供的一种垂直LED芯片的导电膜测试方法,该方法包含以下过程:
将待测试的垂直LED芯片放置在作为衬台物的导电膜上;
更换测试机的平台及测试机接线方式;
将放置有待测试的垂直LED芯片的导电膜进行翻转,将所述待测试的垂直LED芯片翻转至其他的导电膜上;
测试所述其他的导电膜上的待测试的垂直LED芯片。
优选地,所述导电膜包含金属或合金。
优选地,所述导电膜由金属丝或合金丝编制而成。
优选地,金属的导电膜包含Ni、Br、Au、Cu、Sn、Ag中的任意一种或者它们的组合。
优选地,所述导电膜的大小与待测试的垂直LED芯片的数量和分布相匹配。
优选地,翻转前的导电膜上的垂直LED芯片的正面为发光层,背面为金属导电层。
优选地,所述导电膜上待测试的垂直LED芯片形状为方形。
优选地,所述垂直LED芯片包括依次连接的P型电极、P型GaN层、量子阱层、N型GaN层以及N型电极。
优选地,更换后的测试机的平台表面上镀有导电金属;更换后的测试机的接线方式为:将垂直LED芯片的P型电极、N型电极的导线接在一侧,并从所述测试机的平台再接入一根导线,使得所述接线方式形成垂直维度回路。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:(1)本发明通过使用导电膜+测试机平台改造,实现垂直LED芯片的背面导电测试,有效降低成本,提升产品品质。(2)本发明的垂直LED芯片产品测试使用导电膜测试,可以涵盖不同条件下抽测、全测及QC检验测试。
附图说明
图1现有技术的垂直LED芯片的结构示意图;
图2本发明的蓝膜上的垂直LED芯片结构示意图;
图3本发明的垂直LED芯片的导电膜测试方法流程示意图;
具体实施方式
本发明提供了一种垂直LED芯片的导电膜测试方法,为了使本发明更加明显易懂,以下结合附图和具体实施方式对本发明进一步说明。
如图2所示,本发明的待测试的芯片为垂直LED芯片,垂直LED芯片包括依次连接的P型电极、P型GaN层、量子阱层、N型GaN层以及N型电极。
由于垂直LED芯片的P极、N极是相互垂直的,该垂直LED芯片的正面为发光层,背面为可导电的金属层面。
芯片出厂前需要放置在蓝膜(相当于衬台物)上。其中,本发明制备的垂直LED芯片为圆片结构,当出厂时放置在蓝膜上的垂直LED芯片的形状方形,垂直LED芯片还可以是其他合理形状,本发明对此不做限制。
由于垂直LED芯片的两极P、N极是相互垂直,垂直LED芯片的背面与蓝膜的表面接触。
根据本发明的一个实施例,作为衬台物的蓝膜采用导电膜,则垂直LED芯片的背面与该导电膜进行接触,可实现垂直LED芯片的背面的导电作用,使得测试时直接测至芯片背面电极层,避免了现有技术中因绝缘材质的蓝膜与垂直LED芯片的背面接触使得背面绝缘而导致无法直接测试该垂直LED芯片的背面的问题。
其中,导电膜可以为金属材质或合金材料,例如,Ni、Br、Au、Cu、Sn、Ag中的任意一种或者它们的组合。该导电膜是由金属丝或合金丝编制而成的膜状结构。
导电膜上的待测试的垂直LED芯片一颗颗地分布在导电膜上。且导电膜的大小与待测试的垂直LED芯片的数量和分布相匹配。
根据本发明的另外一个实施例,如图3所示,本发明的垂直LED芯片的导电膜测试方法的步骤包含:
S1、将垂直LED芯片放置在作为衬台物的导电膜上;
S2、更换测试机平台及接线:
将测试垂直LED芯片的测试机以及接线方式对应地进行更换,使得能够正常测试。其中,在测试机的平台表面上镀上导电金属,通过将测试机平台的探针、导线等进行连接,形成测试回路。具体地,由于本发明的芯片为垂直LED芯片,则将垂直LED芯片的P、N极的导线接在一侧,并从测试机的平台上再接入一根导线,使得该接线方式形成垂直维度回路,用于后续的垂直LED芯片的测试。
S3、导电膜翻转:
将放置有待测试的垂直LED芯片的一片导电膜(即相当于可导电的蓝膜)进行翻转,将该片导电膜上的垂直LED芯片翻转至另一导电膜上,待测试的垂直LED芯片被翻转到另外一导电膜上后,则垂直LED芯片的背面朝上。
S4、垂直LED芯片测试:
将带有垂直LED芯片的导电膜放置到更换后的测试机的平台表面进行测试,即可实现对翻转后的垂直LED芯片进行测试,使得该垂直LED芯片的背面也能实现测试。
尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍,但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后,对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此,本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。

Claims (9)

1.一种垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,该方法包含以下过程:
将待测试的垂直LED芯片放置在作为衬台物的导电膜上;
更换测试机的平台及测试机接线方式;
将放置有待测试的垂直LED芯片的导电膜进行翻转,将所述待测试的垂直LED芯片翻转至其他的导电膜上;
测试所述其他的导电膜上的垂直LED芯片。
2.如权利要求1所述的垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,
所述导电膜为金属或合金。
3.如权利要求2所述的垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,
所述导电膜由金属丝或合金丝编制而成。
4.如权利要求2或3所述的垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,
金属的导电膜为Ni、Br、Au、Cu、Sn、Ag中的任意一种或者它们的组合。
5.如权利要求1或2或3所述的垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,
所述导电膜的大小与待测试的垂直LED芯片的数量和分布相匹配。
6.如权利要求1所述的垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,
翻转前的导电膜上的垂直LED芯片的正面为发光层,背面为金属导电层。
7.如权利要求1所述的垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,
所述导电膜上的待测试的垂直LED芯片形状为方形。
8.如权利要求1所述的垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,
所述垂直LED芯片包括依次连接的P型电极、P型GaN层、量子阱层、N型GaN层以及N型电极。
9.如权利要求8所述的垂直LED芯片的导电膜测试方法,其特征在于,
更换后的测试机的平台表面上镀有导电金属;
更换后的测试机的接线方式为:将垂直LED芯片的P型电极、N型电极的导线接在一侧,并从所述测试机的平台再接入一根导线,使得所述接线方式形成垂直维度回路。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112053969A (zh) * 2020-09-10 2020-12-08 矽电半导体设备(深圳)股份有限公司 一种外延片测试方法

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