CN108267899A - 一种阵列基板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种阵列基板,包括本体,该本体上形成有位于本体四周边缘上并用于封框胶涂布的封胶涂布区以及位于本体中部并由封胶涂布区包围而成的液晶填充区;其中,在封胶涂布区中,设有位于本体上的金属走线结构,且金属走线结构均包括多个间隔设置的金属线;封胶涂布区包括对应于多个金属线之间的间隙的透光区;在封胶涂布区靠近液晶填充区一侧的区域内,靠近液晶填充区的透光区的占比大于远离液晶填充区的透光区的占比,透光区的占比为透光区的面积与对应的封胶涂布区的面积比值。实施本发明,通过优化封框胶近液晶侧金属线设计,提高近液晶侧封框胶固化率,用以降低未完全固化的封框胶对液晶的污染。
Description
技术领域
本发明涉及显示装置技术领域,尤其涉及一种阵列基板及显示装置。
背景技术
液晶显示装置通常由彩膜基板、阵列基板以及填充在彩膜基板和阵列基板之间的液晶和封框胶组成。封框胶涂覆在彩膜基板或阵列基板上,并靠近彩膜基板和阵列基板的四周边缘分布,通过封框胶固化将彩膜基板和阵列基板结合在一起形成液晶盒,能够保持彩膜基板和阵列基板之间的盒厚,实现液晶盒的密封用以切断液晶分子与外界的接触。
封框胶固化通常需要通过紫外光固化和热固化两道工艺,如果封框胶固化异常,则未完全固化的封框胶就会对液晶造成污染。在现有技术中,为了降低封框胶对液晶的污染,要求封框胶内金属线的设计有较高的开口率,却很少考虑封框胶涂布位置与金属线设置位置对液晶污染的影响。然而,随着显示装置分辨率的提高,封框胶开口率会越来越小,如果仅通过提高封框胶开口率来提高封框胶固化率用以降低液晶污染,势必越来越困难。
因此,有必要优化封框胶近液晶侧金属线设计,提高近液晶侧封框胶固化率,用以降低未完全固化的封框胶对液晶的污染。
发明内容
本发明实施例所要解决的技术问题在于,提供一种阵列基板及显示装置,通过优化封框胶近液晶侧金属线设计,提高近液晶侧封框胶固化率,用以降低未完全固化的封框胶对液晶的污染。
为了解决上述技术问题,本发明实施例提供了一种阵列基板,包括本体,所述本体上形成有位于所述本体四周边缘并用于封框胶涂布或固化的封胶涂布区以及位于所述本体中部并由所述封胶涂布区包围而成的液晶填充区;其中,
在所述封胶涂布区中,设有位于所述本体上的金属走线结构,且所述金属走线结构均包括多个间隔设置的金属线;其中,所述封胶涂布区包括对应于所述多个金属线之间的间隙的透光区;
在所述封胶涂布区靠近所述液晶填充区一侧的区域内,靠近所述液晶填充区的所述透光区的占比大于远离所述液晶填充区的所述透光区的占比;其中,所述透光区的占比为所述透光区的面积与对应的所述封胶涂布区的面积比值。
其中,所述金属走线结构中所含多个金属线的宽度会以线性递减规律或非线性递减规律在由所述金属走线结构朝向所述液晶填充区方向上进行递减,且所述金属走线结构中每两相邻的金属线的间距均相等。
其中,所述金属走线结构中所含多个金属线的宽度均相等,且所述金属走线结构中每两相邻的金属线的间距会以线性递增规律或非线性递增规律在由所述金属走线结构朝向所述液晶填充区方向上进行递增。
其中,所述金属走线结构中所含多个金属线的宽度会以线性递减规律或非线性递减规律在由所述金属走线结构朝向所述液晶填充区方向上进行递减,且所述金属走线结构中每两相邻的金属线的间距会以线性递增规律或非线性递增规律在由所述金属走线结构朝向所述液晶填充区方向进行递增。
其中,所述金属走线结构中所含多个金属线均由单层结构的金属线组成;或
金属走线结构中所含多个金属线由单层结构的金属线和叠层结构的金属线混合组成;或
所述金属走线结构中所含多个金属线均由叠层结构的金属线组成。
其中,还包括:涂布于所述本体的封胶涂布区上并覆盖于所述金属走线结构上的封框胶。
其中,所述本体包括由下往上依序设置的第一衬底基板、第一金属层、栅极绝缘层、有源层、第二金属层、钝化层和像素电极层。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括前述的阵列基板和彩膜基板。
其中,所述彩膜基板包括第二衬底基板、位于所述第二衬底基板上的黑色矩阵、彩色滤光层和金属电极层。
其中,所述彩色滤光层包括红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层。
实施本发明实施例,具有如下有益效果:本发明在封框胶总设计宽度有限的情况下,通过增大封框胶近液晶侧金属线间距(即金属线的间距均会以线性递增规律或非线性递增规律在由金属走线结构朝向液晶填充区方向进行递增)或减小近液晶侧金属线宽度(即金属线的宽度均会以线性递减规律或非线性递减规律在由金属走线结构朝向液晶填充区方向进行递减)来提高近液晶侧UV光(紫外光)透过率,提高近液晶侧封框胶固化率,用以降低未完全固化的封框胶对液晶的污染。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,根据这些附图获得其他的附图仍属于本发明的范畴。
图1为本发明实施例一提供的阵列基板的局部剖视图;
图2为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构在封胶涂布区上投影成遮光区和透光区的局部平面结构示意图;
图3为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构的一平面结构示意图;
图4为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构的另一平面结构示意图;
图5为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构的又一平面结构示意图;
图6为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构的又一平面结构示意图;
图7为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构的又一平面结构示意图;
图8为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构的又一平面结构示意图;
图9为本发明实施例二提供的显示装置的局部剖视图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。
如图1和图2所示,为本发明实施例一中,提供的一种阵列基板,包括本体1,该本体1上形成有位于本体1四周边缘并用于封框胶涂布的封胶涂布区2以及位于本体1中部并由封胶涂布区2包围而成的液晶填充区3;其中,
在封胶涂布区2中,设有位于本体1上的金属走线结构4,且金属走线结构4均包括多个间隔设置的金属线;其中,封胶涂布区2包括对应于多个金属线之间的间隙的透光区;
在封胶涂布区2靠近液晶填充区3一侧的区域内,靠近液晶填充区3的透光区L2的占比大于远离液晶填充区3的透光区L2的占比;其中,透光区L2的占比为透光区L2的面积与对应的封胶涂布区2的面积比值。
应当说明的是,透光区L2的占比越大,则越说明UV光透过率越高,因此在封胶涂布区2靠近液晶填充区3一侧的区域内,靠近液晶填充区3的透光区的占比大于远离液晶填充区3的透光区的占比,则表示相对于传统的金属走线结构4的布线规律,金属线在封胶涂布区2形成的透光区L2面积逐渐在增大,使得透光区L2增大的面积,特别是在靠近液晶填充区3一侧的封胶涂布区2内,体现的更明显。
在本发明实施例一中,在封胶涂布区2总设计宽度有限的情况下,通过增大封框胶近液晶侧金属线间距或减小近液晶侧金属线宽度来提高透光区L2的占比,从而提高近液晶侧UV光透过率来提高近液晶侧封框胶固化率,用以降低未完全固化的封框胶对液晶的污染。
在一个实施例中,金属走线结构4中所含多个金属线的宽度会以线性递减规律或非线性递减规律在由金属走线结构4朝向液晶填充区3方向上进行递减,且金属走线结构4中每两相邻的金属线的间距均相等。
在另一个实施例中,金属走线结构4中所含多个金属线的宽度均相等,且金属走线结构4中每两相邻的金属线的间距会以线性递增规律或非线性递增规律在由金属走线结构4朝向液晶填充区3方向上进行递增。
在又一个实施例中,金属走线结构4中所含多个金属线的宽度会以线性递减规律或非线性递减规律在由金属走线结构4朝向液晶填充区3方向上进行递减,且金属走线结构4中每两相邻的金属线的间距会以线性递增规律或非线性递增规律在由金属走线结构4朝向液晶填充区3方向进行递增。
可以理解的是,金属走线结构4中所含多个金属线的宽度也可以由某一个位于中间的金属线起往朝向液晶填充区3方向以线性递减规律或非线性递减规律进行递减,或者金属走线结构4中每两相邻的金属线的间距也可以由某一个位于中间的金属线起往朝向液晶填充区3方向以线性递增规律或非线性递增规律进行递增,只要满足透光区L2的占比沿朝向液晶填充区3方向逐渐增大即可。
可以理解的是,上述多个金属线的形状包括但不限于矩形、椭圆形等。
在本发明实施例一中,上述金属走线结构4中所含多个金属线可以是都由单层结构的金属线组成,也可以是由单层结构和叠层结构的金属线混合组成,还可以是都由叠层结构的金属线组成。为了叙述方便,下面以矩形状的金属线进行举例说明。应当说明的是,在图2至图8中,液晶填充区3位于金属走线结构4的右侧。
(1)单层结构金属线组成:
如图3所示,为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构4的一平面结构示意图,多个金属线中每两相邻之间的间距会以线性递增规律(直线)由中间某一金属线起往朝向液晶填充区3进行递增,此时金属线的宽度不变,通过间距改变,使得近液晶填充区3的间距比中间的间距大,如d3>d2>d1>d,提高近液晶侧UV光透过率。
如图4所示,为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构4的另一平面结构示意图,多个金属线中每两相邻之间的间距会以非线性递增规律(折线)由中间某一金属线往朝向液晶填充区3进行递增,此时金属线的宽度不变,通过间距改变,使得近液晶填充区3的间距比中间的间距大,如d2>d1>d,也能提高近液晶侧UV光透过率。
如图5所示,为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构4的又一平面结构示意图,多个金属线的宽度会以线性递减规律(直线)由中间某一金属线往朝向液晶填充区3进行递减,此时金属线的间距不变,通过宽度改变,使得近液晶填充区3的宽度比中间的宽度小,如d3>d2>d1>d,并改变面积,也能提高近液晶侧UV光透过率。
如图6所示,为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构4的又一平面结构示意图,多个金属线的宽度会以非线性递增规律(折线)由中间某一金属线往朝向液晶填充区3进行递减,此时金属线的间距不变,通过宽度改变,使得近液晶填充区3的宽度比中间的宽度小,如d3>d2>d1>d,并改变面积,也能提高近液晶侧UV光透过率。
应当说明的是,金属走线结构4中所含多个金属线还可以通过间距和宽度同时进行改变来实现提高近液晶侧UV光透过率,间距递增改变可以参考图3和图4的方式,宽度递减改变可以参考图5和图6的方式。
(2)单层结构和叠层结构的金属线混合组成:
这种混合结构可以参照上述情况(1)单层结构的多种方式来提高近液晶侧UV光透过率,即也是通过间距或宽度改变来提高近液晶侧UV光透过率。
如图7所示,为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构4的又一平面结构示意图,是对图5的一种变形,多个金属线的宽度会以线性递减规律(直线)由中间某一金属线往朝向液晶填充区3进行递减,此时金属线的间距不变,通过宽度改变,使得近液晶填充区3的宽度比中间的宽度小,如d3>d2>d1>d,提高近液晶侧UV光透过率。
(3)叠层结构的金属线组成:
这种叠层结构可以参照上述情况(1)单层结构的多种方式来提高近液晶侧UV光透过率,即也是通过间距或宽度改变来提高近液晶侧UV光透过率。
如图8所示,为本发明实施例一提供的阵列基板中金属走线结构4的又一平面结构示意图,是对图3的一种变形,将图3中的单层结构都转换成图8中相同的叠层结构,提高近液晶侧UV光透过率。
在本发明实施例一中,阵列基板为TFT基板,因此阵列基板的本体1包括由下往上依序设置的第一衬底基板11、第一金属层12、栅极绝缘层13、有源层14、第二金属层15、钝化层16和像素电极层17。当然,为了制程方便,可以将框胶材料设置在阵列基板上,因此还包括:涂布于本体1的封胶涂布区2上并覆盖于每一金属走线结构4上的封框胶5。
如图9所示,相应于本发明实施例一提供的阵列基板,本发明实施例二还提供了一种显示装置,包括本发明实施例一提供的阵列基板1以及彩膜基板5。由于本发明实施例二中的阵列基板与本发明实施例一中的阵列基板具有相同的结构及连接关系,具体请参考本发明实施例一中的阵列基板的相关内容,因此在此不再一一赘述。
在本发明实施例二中,阵列基板1通过其上设置的封框胶5与彩膜基板6粘合在一起,使得其上的液晶填充区3与彩膜基板6密封形成用于填充液晶分子的液晶盒。
在本发明实施例二中,彩膜基板6包括第二衬底基板61、位于第二衬底基板61上的黑色矩阵62、彩色滤光层63、保护层64和金属电极层65。其中,彩色滤光层61包括红色色阻层631、绿色色阻层632和蓝色色阻层633。
实施本发明实施例,具有如下有益效果:本发明在封框胶总设计宽度有限的情况下,通过增大封框胶近液晶侧金属线间距(即金属线的间距均会以线性递增规律或非线性递增规律在由金属走线结构朝向液晶填充区方向进行递增)或减小近液晶侧金属线宽度(即金属线的宽度均会以线性递减规律或非线性递减规律在由金属走线结构朝向液晶填充区方向进行递减)来提高近液晶侧UV光透过率,提高近液晶侧封框胶固化率,用以降低未完全固化的封框胶对液晶的污染。
以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,因此依本发明权利要求所作的等同变化,仍属本发明所涵盖的范围。
Claims (10)
1.一种阵列基板,其特征在于,包括本体(1),所述本体(1)上形成有位于所述本体(1)四周边缘并用于封框胶涂布的封胶涂布区(2)以及位于所述本体(1)中部并由所述封胶涂布区(2)包围而成的液晶填充区(3);其中,
在所述封胶涂布区(2)中,设有位于所述本体(1)上的金属走线结构(4),且所述金属走线结构(4)包括多个间隔设置的金属线;其中,所述封胶涂布区(2)包括对应于所述多个金属线之间的间隙的透光区;
在所述封胶涂布区(2)靠近所述液晶填充区(3)一侧的区域内,靠近所述液晶填充区(3)的所述透光区的占比大于远离所述液晶填充区(3)的所述透光区的占比;其中,所述透光区的占比为所述透光区的面积与对应的所述封胶涂布区(2)的面积比值。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述金属走线结构(4)中所含多个金属线的宽度会以线性递减规律或非线性递减规律在由所述金属走线结构(4)朝向所述液晶填充区(3)方向上进行递减,且所述金属走线结构(4)中每两相邻的金属线的间距均相等。
3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述金属走线结构(4)中所含多个金属线的宽度均相等,且所述金属走线结构(4)中每两相邻的金属线的间距会以线性递增规律或非线性递增规律在由所述金属走线结构(4)朝向所述液晶填充区(3)方向上进行递增。
4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述金属走线结构(4)中所含多个金属线的宽度会以线性递减规律或非线性递减规律在由所述金属走线结构(4)朝向所述液晶填充区(3)方向上进行递减,且所述金属走线结构(4)中每两相邻的金属线的间距会以线性递增规律或非线性递增规律在由所述金属走线结构(4)朝向所述液晶填充区(3)方向进行递增。
5.如权利要求2-4中任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述金属走线结构(4)中所含多个金属线均由单层结构的金属线组成;或
所述金属走线结构(4)中所含多个金属线由单层结构的金属线和叠层结构的金属线混合组成;或
所述金属走线结构(4)中所含多个金属线均由叠层结构的金属线组成。
6.如权利要求5中所述的阵列基板,其特征在于,还包括:涂布于所述本体(1)的封胶涂布区(2)上并覆盖于所述金属走线结构(4)上的封框胶(5)。
7.如权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述本体(1)包括由下往上依序设置的第一衬底基板(11)、第一金属层(12)、栅极绝缘层(13)、有源层(14)、第二金属层(15)、钝化层(16)和像素电极层(17)。
8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-7中任一项所述的阵列基板和彩膜基板。
9.如权利要求8所述的显示装置,其特征在于,所述彩膜基板包括第二衬底基板、位于所述第二衬底基板上的黑色矩阵、彩色滤光层和金属电极层。
10.如权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述彩色滤光层包括红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层。
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