具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明进行具体描述。
实施例1:化合物1的合成:
合成路线:
在配有恒压滴液漏斗的1L三口瓶中,加入金属镁(0.21mol),将对溴碘苯(0.20mol)溶解在300mL四氢呋喃中,并置于恒压滴液漏斗中,使用氮气保护,加热三口瓶至瓶内温度达到65℃,通过恒压滴液漏斗加入对溴碘苯的四氢呋喃溶液,首先加入50mL,待反应引发后,慢慢滴入剩余部分,1h滴加完毕,回流温度下反应2h,降至室温后转移至恒压漏斗中待用;
将蒽醌(0.20mol)溶解在200mL四氢呋喃之中加到2L三口瓶中,而后缓慢滴加上述待用溶液,回流温度下反应3h,反应结束后,降温至25℃,将以上反应液慢慢倾入200g质量浓度为10%的稀盐酸中,搅拌15min,分液,收集有机相,减压脱去溶剂,得到粘稠液体,不进行精制,直接用于下一步反应中;
向上述所得粘稠液体中加入250g苯,搅拌下加入100mL三氟化硼乙醚溶液(1mol/L),60~65℃反应4h,淬灭反应,减压脱除溶剂,柱层析得到原料A1;
称取0.01mol的9H-三苯[b,d,f]吖庚因与0.015mol的原料A1溶解于150mL无水甲苯中,除氧后加入0.02mol叔丁醇钠和10-4mol Pd2(dba)3,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.5%,收率72.4%。
元素分析结构(分子式C44H29NO):理论值C,89.92;H,4.97;N,2.38;测试值:C,89.95;H,4.96;N,2.38;
MS m/z:588.75[M+H]+,理论值:588.72。
实施例2:化合物3的合成:
合成路线:
在配有恒压滴液漏斗的1L三口瓶中,加入金属镁(0.21mol),将溴苯(0.20mol)溶解在300mL四氢呋喃中,并置于恒压滴液漏斗中,使用氮气保护,加热三口瓶至瓶内温度达到65℃,通过恒压滴液漏斗加入溴苯的四氢呋喃溶液,首先加入50mL,待反应引发后,慢慢滴入剩余部分,1h滴加完毕,回流温度下反应2h,降至室温后转移至恒压漏斗中待用;
将2-溴蒽醌(0.080mol)溶解在200mL四氢呋喃之中加到2L三口瓶中,而后缓慢滴加上述待用溶液,回流温度下反应3h,反应结束后,降温至25℃,将以上反应液慢慢倾入200g质量浓度为10%的稀盐酸中,搅拌15min,分液,收集有机相,减压脱去溶剂,柱层析得到原料A2,HPLC纯度99.5%,收率65%;;
称取0.01mol的9H-三苯[b,d,f]吖庚因与0.015mol的原料A2溶解于150mL无水甲苯中,除氧后加入0.02mol叔丁醇钠和10-4mol Pd2(dba)3,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.4%,收率69.4%。
元素分析结构(分子式C44H29NO):理论值C,89.92;H,4.97;N,2.38;测试值:C,89.94;H,4.96;N,2.38;
MS m/z:588.81[M+H]+,理论值:588.72。
实施例3:化合物6的合成:
合成路线:
在配有恒压滴液漏斗的1L三口瓶中,加入金属镁(0.21mol),将对溴碘苯(0.20mol)溶解在300mL四氢呋喃中,并置于恒压滴液漏斗中,使用氮气保护,加热三口瓶至瓶内温度达到65℃,通过恒压滴液漏斗加入对溴碘苯的四氢呋喃溶液,首先加入50mL,待反应引发后,慢慢滴入剩余部分,1h滴加完毕,回流温度下反应2h,降至室温后转移至恒压漏斗中待用;
将蒽醌(0.08mol)溶解在200mL四氢呋喃之中加到2L三口瓶中,而后缓慢滴加上述待用溶液,回流温度下反应3h,反应结束后,降温至25℃,将以上反应液慢慢倾入200g质量浓度为10%的稀盐酸中,搅拌15min,分液,收集有机相,减压脱去溶剂,柱层析得到原料A3,HPLC纯度99.5%,收率50.3%
称取0.035mol的9H-三苯[b,d,f]吖庚因与0.015mol的原料A2溶解于150mL无水甲苯中,除氧后加入0.02mol叔丁醇钠和10-4mol Pd2(dba)3,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.4%,收率52.4%。
元素分析结构(分子式C62H40NO):理论值C,89.83;H,4.86;N,3.38;测试值:C,89.85;H,4.87;N,3.37;
MS m/z:830.87[M+H]+,理论值:830.00。
实施例4:化合物9的合成:
合成路线:
在250mL的三口瓶中,通氮气保护下,加入0.2mol 9H-三苯[b,d,f]吖庚因、0.25mol间二溴苯和500mL甲苯,搅拌混合,再加入0.2mol叔丁醇钠、0.02molPd2(dba)3和0.02mol三叔丁基膦,搅拌加热至115℃,回流反应24小时,自然冷却至室温,过滤,滤液减压旋蒸至无馏分,过中性硅胶柱,得到中间体M1;
在250ml的三口瓶中,通氮气保护下,依次加入0.04mol中间体M1、0.05mol联硼酸频那醇酯、0.06mol乙酸钾、0.002mol Pd(dppf)Cl2和100ml 1,4-二氧六环,搅拌混合,加热至80℃,反应24小时,取样点板,显示无中间体M1剩余,反应完全;自然冷却至室温,旋蒸除去溶剂,用二氯甲烷萃取,旋干,然后过中性硅胶柱,得到原料B1;
称取0.015mol的原料B1与0.01mol的原料A1溶解于混合溶剂(180mL甲苯,90mL乙醇),然后加入15mLK2CO3水溶液(2mol/L),然后加入0.0001mol Pd(PPh3)4,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.5%,收率64.1%。
元素分析结构(分子式C50H33NO):理论值C,90.47;H,5.01;N,2.11;测试值:C,90.50;H,5.00;N,2.11;
MS m/z:664.98[M+H]+,理论值:664.81。
实施例5:化合物11的合成:
合成路线:
称取0.035mol的原料B1与0.015mol的原料A2溶解于混合溶剂中(180ml甲苯,90ml乙醇),然后加入15mLK2CO3水溶液(2mol/L),然后加入0.0001mol Pd(PPh3)4,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.5%,收率62.7%。
元素分析结构(分子式C50H33NO):理论值C,90.47;H,5.01;N,2.11;测试值:C,90.51;H,5.00;N,2.11;
MS m/z:664.89[M+H]+,理论值:664.81。
实施例6:化合物22的合成:
合成路线:
在250ml的三口瓶中,通氮气保护下,加入0.2mol 9H-三苯[b,d,f]吖庚因、0.25mol 3,4’-二溴联苯和500mL甲苯,搅拌混合,再加入0.2mol叔丁醇钠、0.02molPd2(dba)3和0.02mol三叔丁基膦,搅拌加热至115℃,回流反应24小时;自然冷却至室温,过滤,滤液减压旋蒸至无馏分,过中性硅胶柱,得到中间体M2;
在250ml的三口瓶中,通氮气保护下,依次加入0.04mol中间体M2、0.05mol联硼酸频那醇酯、0.06mol乙酸钾、0.002mol Pd(dppf)Cl2和100mL1,4-二氧六环,搅拌混合,加热至80℃,反应24小时,取样点板,显示无中间体M2剩余,反应完全;自然冷却至室温,旋蒸除去溶剂,用二氯甲烷萃取,旋干,然后过中性硅胶柱,得到原料B2;
称取0.035mol的原料B2与0.015mol的原料A1溶解于混合溶剂中(180mL甲苯,90mL乙醇),然后加入15mLK2CO3水溶液(2mol/L),然后加入0.0001mol Pd(PPh3)4,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.5%,收率60.5%。
元素分析结构(分子式C56H37NO):理论值C,90.90;H,5.04;N,1.89;测试值:C,90.93;H,5.03;N,1.89;
MS m/z:740.95[M+H]+,理论值:740.91。
实施例7:化合物48的合成:
合成路线:
称取0.035mol的9H-三苯[b,d,f]吖庚因与0.015mol的原料A4溶解于150mL无水甲苯中,除氧后加入0.02mol叔丁醇钠和10-4mol Pd2(dba)3,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.4%,收率53.1%。
元素分析结构(分子式C49H30N2O2):理论值C,86.70;H,4.45;N,4.13;测试值:C,86.73;H,4.44;N,4.13;
MS m/z:379.98[M+H]+,理论值:679.78。
实施例8:化合物50的合成:
合成路线:
称取0.015mol的原料B3与0.01mol的原料A4溶解于混合溶剂(180mL甲苯,90mL乙醇),然后加入15mLK2CO3水溶液(2mol/L),然后加入0.0001mol Pd(PPh3)4,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.5%,收率65.8%。
元素分析结构(分子式C37H23NO2):理论值C,86.53;H,4.51;N,2.73;测试值:C,86.55;H,4.50;N,2.74;
MS m/z:514.68[M+H]+,理论值:514.59。
实施例9:化合物59的合成:
合成路线:
在250mL的三口瓶中,通氮气保护下,加入0.2mol 9H-三苯[b,d,f]吖庚因、0.25mol对二溴苯和500mL甲苯,搅拌混合,再加入0.2mol叔丁醇钠、0.02molPd2(dba)3和0.02mol三叔丁基膦,搅拌加热至115℃,回流反应24小时;自然冷却至室温,过滤,滤液减压旋蒸至无馏分,过中性硅胶柱,得到中间体M3;
在250ml的三口瓶中,通氮气保护下,依次加入0.04mol中间体M3、0.05mol联硼酸频那醇酯、0.06mol乙酸钾、0.002mol Pd(dppf)Cl2和100ml 1,4-二氧六环,搅拌混合,加热至80℃,反应24小时,取样点板,显示无中间体M3剩余,反应完全;自然冷却至室温,旋蒸除去溶剂,用二氯甲烷萃取,旋干,然后过中性硅胶柱,得到原料B3;
称取0.015mol的原料B3与0.01mol的原料A4溶解于混合溶剂(180mL甲苯,90mL乙醇),然后加入15mLK2CO3水溶液(2mol/L),然后加入0.0001mol Pd(PPh3)4,加热回流12小时,取样点板,原料反应完全;自然冷却至室温(20~25℃),过滤,收集滤液进行减压旋蒸(-0.09MPa,85℃),进行柱层析,得到目标产物,HPLC纯度99.5%,收率67.2%。
元素分析结构(分子式C61H38N2O2):理论值C,88.17;H,4.61;N,3.37;测试值:C,88.20;H,4.60;N,3.37;
MS m/z:832.14[M+H]+,理论值:831.97。
本发明化合物可以作为发光层材料使用,对本发明化合物1、化合物50和现有材料CBP分别进行热蒸镀状态、T1能级的测定,检测结果如表1所示:
表1
化合物 |
热蒸镀状态 |
T1(eV) |
功用 |
化合物1 |
熔融型 |
2.85 |
主体材料 |
化合物50 |
熔融型 |
2.90 |
主体材料 |
化合物CBP |
升华型 |
2.70 |
主体材料 |
注:热蒸镀状态由韩国ANS-INC(100*100)蒸镀设备进行测定,真空度<5×10-7Torr,第一升温区(0-200℃),升温速率10℃/min;第二升温区(200-400℃),升温速率5℃/min,以
的蒸镀速率蒸镀10min后自然降至室温。T1是先测试化合物的磷光发射光谱,并由磷光发射峰计算得到(测试设备:利用Edinburgh Instruments的FLS980荧光光谱仪,Oxford Instruments的OptistatDN-V2低温组件)。
由上表数据可知,本发明化合物具有较高的热蒸镀速率稳定性,较升华型材料,其材料内部传热较好,避免了因传热不均局部过热引起的材料变质,有利于实现长时间蒸镀。此外,本发明化合物具有较高的T1能级,避免能量由掺杂材料回传到主体材料,适合作为发光层材料;同时,本发明化合物含有电子给体(donor,D)与电子受体(acceptor,A),使得应用本发明化合物的OLED器件电子和空穴达到平衡状态,保证了电子和空穴的复合率,使得器件效率和寿命得到提升。
通过量子化学从头计算软件ORCA对本发明化合物的HOMO、LUMO能级进行计算并进行可视化,计算方法采用B3LYP杂化泛函,基组6-31g(d)。化合物1、化合物9、化合物50以及化合物CBP的可视化HOMO、LUMO分布图如图2a-5b所示;
从HOMO、LUMO在分子中的空间分布可以看出,相比较化合物CBP本发明化合物的HOMO和LUMO能级处于空间分离状态,且HOMO、LUMO重叠度小。即本发明化合物同时具有电子给体(donor,D)与电子受体(acceptor,A)两个部分,这使得发明化合物的OLED器件电子和空穴更易达到平衡状态,保证了电子和空穴的复合率,使得器件效率和寿命得到提升。
以下结合图1,通过实施例10-18和比较例1-3详细说明本发明合成的化合物在器件中作为发光层主体材料的应用效果。实施例11-18以及比较例1-3与实施例10相比,所述器件的制作工艺完全相同,并且所采用了相同的基板材料和电极材料,电极材料的膜厚也保持一致,所不同的是器件中发光层材料发生了改变。
实施例10
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物1和GD-19按照100:5的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。相关材料的分子结构式如下所示:
具体制备过程如下:
透明基板层1采用透明材料。对ITO阳极层2(膜厚为150nm)进行洗涤,即依次进行碱洗涤、纯水洗涤、干燥后再进行紫外线-臭氧洗涤以清除透明ITO表面的有机残留物。
在进行了上述洗涤之后的ITO阳极层2上,利用真空蒸镀装置,蒸镀膜厚为10nm的三氧化钼MoO3作为空穴注入层3使用。紧接着蒸镀80nm厚度的TAPC作为空穴传输层4。
上述空穴传输材料蒸镀结束后,制作OLED发光器件的发光层5,其结构包括OLED发光层5所使用材料化合物1作为主体材料,GD-19作为掺杂材料,掺杂材料掺杂比例为5%重量比,发光层膜厚为30nm。
在上述发光层5之后,继续真空蒸镀电子传输层材料为TPBI。该材料的真空蒸镀膜厚为40nm,此层为电子传输层6。
在电子传输层6上,通过真空蒸镀装置,制作膜厚为1nm的氟化锂(LiF)层,此层为电子注入层7。
在电子注入层7上,通过真空蒸镀装置,制作膜厚为80nm的铝(Al)层,此层为阴极反射电极层8使用。
如上所述地完成OLED发光器件后,用公知的驱动电路将阳极和阴极连接起来,测量器件的发光效率,发光光谱以及器件的电流-电压特性。
实施例11
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物3和GD-19按照100:5的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
实施例12
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物48和GD-19按照100:5的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
实施例13
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物6和Ir(PPy)3按照100:10的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
实施例14
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物9和Ir(PPy)3按照100:10的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
实施例15
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物50和Ir(PPy)3按照100:10的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
实施例16
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物11和GD-PACTZ按照100:5的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
实施例17
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物22和GD-PACTZ按照100:5的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
实施例18
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(化合物59和GD-PACTZ按照100:5的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
比较例1
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(CBP和GD-19按照100:5的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
比较例2
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(CBP和Ir(PPy)3按照100:10的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极反射电极层8(Al)。
比较例3
透明基板层1/ITO阳极层2/空穴注入层3(三氧化钼MoO3,厚度10nm)/空穴传输层4(TAPC,厚度80nm)/发光层5(CBP和GD-PACTZ按照100:5的重量比混掺,厚度30nm)/电子传输层6(TPBI,厚度40nm)/电子注入层7(LiF,厚度1nm)/阴极电极层8(Al)。
所制作的OLED发光器件的测试结果见表3。
表2
表3
说明:比较例1的电流效率为6.5cd/A(@10mA/cm2);5000nit亮度下LT95寿命衰减为3.8Hr。比较例2的电流效率为24.6cd/A(@10mA/cm2);5000nit亮度下LT95寿命衰减为4.3Hr。比较例3的电流效率为25.1cd/A(@10mA/cm2);5000nit亮度下LT95寿命衰减为7.8Hr。寿命测试系统为本发明所有权人与上海大学共同研究的OLED器件寿命测试仪。
表3的结果可以看出,本发明所述化合物作为发光层主体材料可应用于OLED发光器件制作;并且与比较例1相比,无论是效率还是寿命均比已知OLED材料获得较大改观,特别是器件的驱动寿命获得较大的提升。
为进一步体现本发明化合物在产业化应用的优势,本发明比较了不同掺杂材料比例下器件的性能变化情况,定义掺杂浓度依赖系数
进行表示;
它表示驱动电流为10mA/cm
2下不同掺杂浓度的器件,其效率最大值μmax、最小值和平均值之间的均匀程度,
值越大,说明掺杂比例对器件的效率影响越大,在产业化应用时要严格控制材料的蒸镀速率,工业应用窗口较小;反之,说明器件性能对掺杂比例的要求不好,容易实现工业化生产,降低生产成本,具有良好的产业化应用前景。
参考实施例14-21的制备方法,并且采用了相同的基板材料和电极材料,电极材料的膜厚也保持一致,所不同的是对掺杂比例做了变换;各器件的结构及测试结果如表4所示:
表4
从以上数据应用来看,本发明化合物作为发光层材料在OLED发光器件中具有良好的应用效果,具有良好的产业化前景。
虽然已通过实施例和优选实施方式公开了本发明,但应理解,本发明不限于所公开的实施方式。相反,本领域技术人员应明白,其意在涵盖各种变型和类似的安排。因此,所附权利要求的范围应与最宽的解释相一致以涵盖所有这样的变型和类似的安排。