CN108227432A - 成像设备 - Google Patents

Abstract

提供一种成像设备，包括感光鼓、曝光头、基框架和弹簧。曝光头包括光发射器、透镜阵列和头框架，且能够在可暴露位置和缩回位置之间移动。基框架支撑感光鼓且包括基准面。基准面被构造为：当曝光头在可暴露位置处时，通过被曝光头的头框架接触，限定曝光头的就正交于来自光发射器的光的光轴方向和感光鼓的旋转轴线方向的副扫描方向而言的位置。弹簧被布置在头框架中且朝向基准面挤压头框架。

Description

成像设备

技术领域

本公开涉及一种包括曝光头的成像设备，该曝光头可以将感光鼓暴露于光。

背景技术

在例如日本专利临时公布特开2009-157142中公开了一种具有曝光头的成像设备。根据该公布，曝光头可以在其侧向端部处由被附接到主框架中的侧向区域的臂向前推压，从而曝光头的这些侧向端部可以在主框架中的这些侧向区域处被推压抵靠接触部。因此，曝光头可以就前后方向而言位于主框架中的正确位置处。

发明内容

同时，当组装该成像设备时，在曝光头被安设在成像设备中之后，用于推压曝光头的臂可以被可枢转地附接到主框架。因此，成像设备中的曝光头和其它邻近制品可以考虑到臂的布置被安设在主框架中，从而臂可以被附接到主框架而不与曝光头及其它制品干涉。在这方面，在成像设备的本体中的构件的布局的自由度可能被限制。

本公开有利之处在于提供一种成像设备，其中在成像设备的本体中的构件的布局的自由度可以被增加。

根据本公开，提供一种成像设备，所述成像设备包括感光鼓、曝光头、基框架和弹簧。所述曝光头包括：多个光发射器，所述多个光发射器沿着所述感光鼓的旋转轴线方向对准；透镜阵列，所述透镜阵列将来自所述光发射器的光聚焦在所述感光鼓上；和头框架，所述头框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列。所述曝光头能够在可暴露位置和缩回位置之间移动，在所述可暴露位置中所述感光鼓被暴露于光，在所述缩回位置中所述曝光头离所述感光鼓比在所述可暴露位置中的所述曝光头离所述感光鼓远。所述基框架支撑所述感光鼓，并且所述基框架包括基准面。所述基准面被构造为当所述曝光头在所述可暴露位置处时通过被所述曝光头的所述头框架接触而限定所述曝光头的就副扫描方向而言的位置，所述副扫描方向正交于所述光的光轴方向和所述旋转轴线方向。所述弹簧被布置在所述头框架中，所述弹簧将所述头框架朝向所述基准面挤压。

可选地，沿着所述旋转轴线方向观察，所述基准面可以呈凸弧形形状。

可选地，所述基准面可以包括第一基准面、第二基准面和第三基准面，所述第一基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的一侧上，所述第二基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的另一侧上，所述第三基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的所述一侧上。所述第一基准面和所述第三基准面可以被布置成在所述光轴方向上彼此隔开。

可选地，所述头框架可以包括第一框架和第二框架，所述第一框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列，所述第二框架支撑所述第一框架。所述弹簧可以被布置在所述第二框架中。

可选地，所述成像设备可以进一步包括挤压器，所述挤压器接触所述基框架。所述挤压器可以由树脂制成。所述弹簧可以挤压所述挤压器。

可选地，所述头框架可以包括引导部，所述引导部被构造为引导所述挤压器在所述副扫描方向上移动。

可选地，所述弹簧可以就所述旋转轴线方向而言被布置在用于所述曝光头的可暴露范围的外侧。

可选地，所述曝光头可以包括接触部，所述接触部被构造为接触所述基框架，以沿着所述光轴方向限定在所述透镜阵列和所述感光鼓之间的距离。所述弹簧可以沿着所述旋转轴线方向被布置在用于所述曝光头的可暴露范围的隔着所述接触部的相反的一侧上。

附图说明

图1是根据本公开的实施例的彩色打印机的例证剖视图。

图2是根据本公开的实施例的彩色打印机(其中盖打开)的例证剖视图。

图3是根据本公开的实施例的在可暴露位置处的曝光头和鼓单元的例证视图。

图4是根据本公开的实施例的在图3中所示的线X-X处截取的曝光头和鼓单元的剖视图。

图5是根据本公开的实施例的沿着图3中所示的箭头Y观察的曝光头和鼓单元的侧向视图。

图6A-图6B示意根据本公开的实施例的从缩回位置向可暴露位置移动的曝光头的过渡位置。

图7A-图7B示意根据本公开的实施例的从缩回位置向可暴露位置移动的曝光头的另一个过渡位置。

图8A-图8B示意根据本公开的实施例的从缩回位置向可暴露位置移动的曝光头的另一个过渡位置。

具体实施方式

在下文中，将参考附图描述本公开的实施例。将在以下段落中描述彩色打印机1的总体构造和详细构造，该彩色打印机1是成像设备的一个实例。

在以下说明中，将基于在每一幅绘图中由箭头指出的方向提及与彩色打印机1和在彩色打印机1中包括的每一个零件或制品相关的方向。例如，在图1中，观察者的左手侧和右手侧将分别被称为前侧和后侧。在图1中观察者的较近侧和较远侧将分别被称为彩色打印机1的右侧和左侧。图1中的从上到下或从下到上方向可以被称为竖直方向，并且从前到后或从后到前方向可以被称为前后方向。此外，从左到右或从右到左方向可以被称为宽度方向。

如在图1中所示，彩色打印机1包括主框架10、盖11、片材馈送器20和成像单元30。片材馈送器20和成像单元30被容纳在主框架10中。

盖11被布置在曝光头40的就竖直方向而言与感光鼓51相反的一侧上，即，在主框架10的上侧上的位置处。盖11由主框架10支撑，以能够相对于主框架10绕枢转轴线11A枢转，以打开或关闭在主框架10中的上区域处形成的开口10A。特别地，盖11能够绕在沿着前后方向从感光鼓51隔开的位置处位于感光鼓51的后侧上且与宽度方向平行地延伸的枢转轴线11A枢转。盖11能够在盖11关闭开口10A的关闭位置(见图1)和盖11打开开口10A的打开位置(见图2)之间枢转。

片材馈送器20被布置在主框架10中的下位置处。片材馈送器20包括用于存储片材P的馈送器托盘21和用于将片材P馈送到成像单元30的馈送器装置22。馈送器托盘21中的片材P可以被馈送器装置22彼此分离并被馈送到成像单元30。

成像单元30包括：多个例如四个(4个)曝光头40；多个例如四个(4个)处理盒PC；转印单元70；和定着单元80。在以下说明中，两个或更多个相同的制品可以由它们中的一个制品代表，并且可以省略其它相同制品的说明。例如，所述四个曝光头40的说明可以由一个曝光头40代表，并且可以省略其它三个(3个)曝光头40的说明。

每一个曝光头40在其一端处包括多个LED，并且在另一端处由盖11(更具体地将在以后详细描述的保持器12)支撑，以从盖11垂下。换言之，盖11通过保持器12保持曝光头40。曝光头40被布置成当盖11在关闭位置中时从上方面对四个(4个)感光鼓51中的一个感光鼓51。特别地，曝光头40能够随同盖11一起在可暴露位置(见图1)和缩回位置(见图2)之间移动，在该可暴露位置中，感光鼓51可以被暴露于来自曝光头40的光，在该缩回位置中，曝光头40离感光鼓51隔开得比在可暴露位置中的曝光头40离感光鼓51隔开得远。曝光头40中的LED可以基于图像数据选择性地闪烁，从而感光鼓51的表面可以被暴露于来自LED的光。曝光头40的详细构造将在以后描述。

处理盒PC被布置在盖11和馈送器托盘21之间，以沿着前后方向对准。当盖11在打开位置(见图2)中时，每一个处理盒PC(特别地，处理盒PC中的鼓框架55)能够通过开口10A附接到主框架10和从主框架10拆卸。处理盒PC包括鼓单元50和能够附接到鼓单元50和从鼓单元50拆卸的显影盒60。

鼓单元50包括：具有筒形形状的感光鼓51；用于对感光鼓51充电的充电器52；用于朝向感光鼓51推压显影盒60的可扩展弹簧53；清洁辊54；以及用于支撑感光鼓51和其它零件的鼓框架55。

清洁辊54是用于从感光鼓51移除障碍物(诸如残余调色剂)的辊。清洁辊54接触感光鼓51，且能够在感光鼓51上旋转。

显影盒60包括用于包含调色剂的调色剂容器61和用于将调色剂从调色剂容器61供应到感光鼓51的显影辊62。

转印单元70被布置在馈送器托盘21和处理盒PC之间。转印单元70包括：驱动辊71；从动辊72；输送器皮带73，该输送器皮带73是绕驱动辊71和从动辊72拉紧的无端皮带；和四个(4个)转印辊74。输送器皮带73呈如下布置，所述布置使得：输送器皮带73的外表面接触感光鼓51，并且转印辊74被布置在输送器皮带73的内侧上，以与感光鼓51一起夹压输送器皮带73。

定着单元80被布置在从处理盒PC和转印单元70向后的位置处。定着单元80包括加热辊81和压力辊81，该压力辊81被布置成面对该加热辊81。压力辊82被挤压抵靠加热辊81。

在如上构造的成像单元30中，感光鼓51的表面可以均匀地被充电器52充电并被选择性地暴露于来自曝光头40的光，从而可以在感光鼓51上形成基于图像数据的静电潜像。此后，可以将调色剂从显影辊62供应到感光鼓51，从而静电潜像可以在感光鼓51上被显影成可视调色剂图像。

在感光鼓51上形成的调色剂图像可以被转印辊74分层地相继地转印到在输送器皮带73上输送的片材P上。带有转印的调色剂图像的片材P可以被输送通过在加热辊81和压力辊82之间的位置，从而调色剂图像可以被热定影在片材P上。片材P可以被输送辊91排出到主框架10的外部并安置于在盖11的顶部上形成的排出托盘11B上。

接着，以下将描述曝光头40的构造。如在图3中所示的感光鼓51能够绕在宽度方向上延伸的旋转轴线X1旋转。在以下说明中，对感光鼓51而言的旋转轴线X1的方向即宽度方向可以被称为旋转轴线方向。

感光鼓51包括呈筒形形状的基管51A和被装配到基管51A的内周表面的两个(2个)装入部件400。基管51A可以由导电材料诸如金属制成。在基管1A的外周表面上，形成未示出的感光层。在以下说明中，基管51A的包括感光层的外周表面可以被称为感光鼓51的表面。感光层被形成为就旋转轴线方向而言延伸超过曝光头40的可暴露范围ER。基管51A与被布置在主框架10中的金属零件导通以被连接到地电位。

一个装入部件400和另一个装入部件400分别被布置在基管51A中的在沿着旋转轴线方向的一侧和另一侧上的端区域中。装入部件400由树脂制成。装入部件400被装配到基管51A的内周表面，且能够随同基管51A一起旋转。每一个装入部件400包括一体地形成的装入部410和外部420。装入部410被布置在基管51A的端面的就旋转轴线方向而言的内侧上。外部420被布置在基管51A的端面的就旋转轴线方向而言的外侧上。

感光鼓51在其每一个轴向端部处可旋转地由旋转支撑部件500支撑。旋转支撑部件500被布置在感光鼓51的在沿着旋转轴线方向的一侧和另一侧上的轴向端区域处，并且旋转支撑部件500由鼓框架55支撑。当被附接到主框架10时，鼓框架55由主框架10支撑。

根据本实施例，用于通过旋转支撑部件500可旋转地支撑感光鼓51的鼓框架55和用于支撑鼓框架55的主框架10可以形成基框架。换言之，用于支撑感光鼓51的基框架包括鼓框架55和主框架10。

每一个旋转支撑部件500可旋转地支撑装入部件400中的被支撑部421的外周表面。旋转支撑部件500由树脂制成，且包括套筒轴承。特别地，旋转支撑部件500包括支承部510和延伸部530，该支承部510呈筒形形状，以可旋转地支撑装入部件400，该延伸部530从支承部510朝向曝光头40延伸。

延伸部530在其末端处包括可以被曝光头40接触的接触面531。接触面531可以接触曝光头40中的间隙调节部件300，以限定在透镜阵列102和感光鼓51之间在以下将描述的光轴方向上的距离。

曝光头40包括第一框架100、第二框架200、被布置在第二框架200和鼓单元50(特别地，鼓单元50中的旋转支撑部件500)之间的间隙调节部件300以及第一挤压器600。

第一框架100和第二框架200一起形成作为曝光头40的框架的头框架。换言之，头框架包括第一框架100和第二框架200。第一框架100和第二框架200由树脂制成。

第一框架100包括一体地形成的基部110和两个(2个)延伸部120。基部110由树脂制成，并且基部110大致以在宽度方向上较长的矩形形状延伸。延伸部120从基部110的宽度方向端面在宽度方向上向外延伸。基部110由树脂制成，并且基部110竖直地打开。

在基部110的内部，布置包括沿着旋转轴线方向对准的多个LED的LED阵列101。在基部110的下开口处，布置镜阵列102，来自LED阵列101的光可以通过该透镜阵列102被聚焦在感光鼓51的表面上。换言之，基部110支撑LED阵列101和透镜阵列102。

LED阵列101是包括沿着旋转轴线方向对准的多个光发射器(LED)的半导体装置。光发射器可以闪烁并在感光鼓51处发射光，以扫描感光鼓51的表面。同时，透镜阵列102的下面面向旋转轴线X1并形成发射面，可以从该发射面发射光。

在以下说明中，在LED阵列101中所述多个光发射器沿着对准以沿着旋转轴线方向扫描感光鼓51的方向可以被称为主扫描方向。同时，从LED阵列101发射的光的光轴的方向可以被称为光轴方向。该光轴方向与延伸通过任何一个光发射器和在感光鼓51A上的用于所述一个光发射器的焦点的位置的方向一致。正交于光轴方向且正交于主扫描方向的方向可以被称为副扫描方向。在这方面，副扫描方向可以与在本实施例中的前后方向一致，并且光轴方向可以与竖直方向一致。

第二框架200支撑第一框架100。第二框架200从由树脂制成且可枢转地由盖11支撑的保持器12垂下，以由保持器12支撑。第二框架200包括一体地形成的大致以在宽度方向上较长的矩形形状延伸的基部210、两个(2个)突出部220、第一端部230、第二端部240和第三端部250。

基部210包括凹部211和孔213。孔213包括在关于基部210的沿着宽度方向的宽度中央对称地彼此隔开的位置处形成的两个(2个)孔213。在前后方向上穿过基部210形成孔213。

同时，保持器12在与孔213一致的位置处包括将与基部210钩挂的钩12A。每一个钩12A的下端就前后方向而言向内突出以与孔213接合。保持器12就前后方向和竖直方向而言有游隙地保持基部210。在这方面，曝光头40通过保持器12被可移动地支撑以相对于盖11在前后方向上和在竖直方向上移动。

凹部211朝向保持器12打开。凹部211包括两个(2个)凹部211，一个凹部211和另一个凹部211分别被形成在孔213的就宽度方向而言的一个外侧和另一个外侧上的位置处。在每一个凹部211的底部和保持器12之间的位置中，布置可以朝向感光鼓51推压曝光头40的压缩螺旋弹簧SP。

突出部220可以支撑第一框架100的就旋转轴线方向而言的宽度方向端部并从基部210的下面朝向感光鼓51突出。特别地，突出部220突出超过透镜阵列102，以就光轴方向而言离感光鼓51比透镜阵列102离感光鼓51近。在延伸部120被附接到第二框架200的突出部200的情况下，第一框架100由第二框架200支撑。

第一端部230和第三端部250就旋转轴线方向而言被布置在基部210的一侧上的位置处(特别地，在右侧上的端区域处)。就光轴方向而言，如在图4中所示，第一端部230被布置在第二框架200的一侧上(例如上侧上)的位置处。就前后方向而言，第一端部230被布置在第二框架200中的大致中央区域中。第一端部230在就副扫描方向而言的一侧上(例如后侧上)包括基本平的第一头侧接触面231。第一头侧接触面231被布置成接触将在以后描述的第一基准面710。

第三端部250被布置在就光轴方向而言从第一端部230隔开的位置处。特别地，第三端部250被布置在第二框架200的就光轴方向而言的另一侧上例如下侧上。换言之，就曝光头40从缩回位置移动到可暴露位置的移动方向(即向下)而言，第三端部250被布置在第一端部230的下游的位置处。

第三端部250被布置在就前后方向而言从第一端部230移位的位置处。特别地，就前后方向而言，第三端部250被布置在从第二框架200的就前后方向而言的中央移位的另一侧上(例如前方)的位置处。第三端部250的下端部252渐缩，以朝向感光鼓51在就前后方向而言的尺寸上变小。在这方面，在图4中，可以指出，为了更好理解，感光鼓51被添加到在图3中的线X-X处截取的剖视图。

第三端部250在其后侧上包括第三头侧接触面251，该第三头侧接触面251是基本平的，且被构造为接触第三基准面730。第三基准面730将在以后描述。第三头侧接触面251被布置在就前后方向而言与第一头侧接触面231不同的位置处。特别地，第三头侧接触面251被布置在从第一头侧接触面231向前移位的位置处。

如在图3中所示，第二端部240被布置在基部210的就旋转轴线方向而言的另一侧上例如左侧上的位置处。如在图5中所示，第二端部240被布置在第二框架200内的下侧上和后侧上的位置处。

第二端部240包括下端部242，该下端部242渐缩使得：随着下端部242朝向感光鼓51(即向下向后)延伸，下端部242的前面向后倾斜。第二端部240在其前侧上包括第二头侧接触面241，该第二头侧接触面241是基本平的，且被构造为接触第二基准面720。第二基准面720将在以后描述。

如在图3中所示，作为接触部的一个实例的间隙调节部件300可以接触旋转支撑部件500中的接触面531，以限定在透镜阵列102和感光鼓51之间在光轴方向上的距离。

间隙调节部件300由树脂制成。每一个间隙调节部件300包括一体地形成的本体310A和从本体310A向上突出的凸部310B。本体310A在前后方向上渐缩以朝向感光鼓51更小，即，在感光鼓51处指向下(见图4)。在凸部310B被从下方插入到基部210的宽度方向端部时，间隙调节部件300被附接到第二框架200。

如在图4中所示，第一挤压器600被布置在第二框架200中，并且第一挤压器600可以朝向第一基准面710和第三基准面730挤压曝光头40的头框架(特别地，第二框架200)。第一挤压器600包括挤压器610和弹簧620。

挤压器610由具有较高的可滑动性质的树脂诸如聚缩醛(POM)制成。当曝光头40在可暴露位置中时，挤压器610可以接触被布置在支撑鼓框架55的主框架10中的头引导件800。挤压器610包括一体地形成的接触本体611和一对延伸部612。

挤压器610可以在接触本体611处接触头引导件800。沿着旋转轴线方向观察，接触本体611的接触头引导件800的面可以呈凸弧形形状。延伸部612从接触本体611的就竖直方向而言的一端和另一端向后延伸。在每一个延伸部612A的末端处，形成就竖直方向而言向外突出的爪613。

挤压器610被布置在第二框架200中形成的引导部260中，以相对于第二框架200在前后方向上可移动地由第二框架200支撑。引导部260包括：在上、下、右和左边缘处在前后方向上延伸的引导壁261；和竖直壁262。在右和左边缘处的引导壁261未示出。

引导壁261可以引导挤压器610在前后方向上移动。挤压器610可以相对于引导部260被向后推动，并且随着通过爪612的倾斜使延伸部612变形，挤压器610可以装配在引导部260中。一旦爪613通过引导壁261，延伸部612便可以恢复到初始形状，并且爪613可以与引导壁261钩挂，从而挤压器610可以停留于引导部260中而不从引导部260脱出。

当曝光头40在可暴露位置中时，弹簧620可以朝向头引导件800挤压挤压器610。弹簧620可以包括例如压缩螺旋弹簧。弹簧620被布置在挤压器610和引导部260中的竖直壁262之间。

如在图3中所示，就旋转轴线方向而言，第一挤压器600被布置在用于曝光头40的可暴露范围ER的外侧和间隙调节部件300的外侧上。换言之，第一挤压器600沿着旋转轴线方向被布置在可暴露范围ER的隔着间隙调节部件300的相反的一侧上。

同时，如在图4和5中所示，主框架10包括基准部700、头引导件800和第二挤压器900。当曝光头40在可暴露位置中时，基准部700可以被第二框架200接触，并且被第二框架200接触的基准部700可以就前后方向而言在正确的位置处定位曝光头40。换言之，通过当曝光头40在可暴露位置中时由第二框架200接触基准部700，基准部700可以限定曝光头40的就前后方向而言的位置。基准部700包括较早提及的第一基准面710、第二基准面720和第三基准面730。

如在图3中所示，第一基准面710和第三基准面730被布置成面对曝光头40的右端部，并且第二基准面720被布置成面对曝光头40的左端部。换言之，第一基准面710和第三基准面730被布置在曝光头40的就宽度方向而言的同一侧上，并且第二基准面720被布置在曝光头40的就宽度方向与第一基准面710及第二基准面730相反的另一侧上。

此外，如在图4中所示，第一基准面710和第二基准面730被布置在从第二框架200中的第一端部230和第三端部250向后的一侧上的位置处，并且如在图5中所示，第二基准面720被布置在从第二框架200中的第二端部240向前的位置处。换言之，第二基准面720被布置在第二端部240的就前后方向而言与端部230、250的布置第一基准面710和第三基准面730的那一侧相反的一侧上。

如在图4中所示，第一基准面710和第三基准面730被布置成从被布置在主框架10中的定位部701向前突出。当曝光头40在可暴露位置处时，包括第一基准面710和第三基准面730的定位部701可以面对第一端部230、引导部260和第三端部250。

第一基准面710和第三基准面730被布置成竖直地彼此隔开。特别地，第一基准面710被布置在上位置处，并且第三基准面730被布置在下位置处。换言之，第三基准面730被布置在就曝光头从缩回位置移动到可暴露位置的移动方向而言第一基准面710的下游的下位置处。

第一基准面710包括第一框架侧接触面711，该第一框架侧接触面711可以被第二框架200中的第二端部230中的第一头侧接触面231接触。第三基准面730包括第三框架侧接触面731，该第三框架侧接触面731可以被第三端部250中的第三头侧接触面251接触。沿着旋转轴线方向观察，第一框架侧接触面711和第三框架侧接触面731可以呈凸弧形形状。

头引导件800可以引导从缩回位置向可暴露位置移动的曝光头40。头引导件800被布置成：当曝光头40在缩回位置中时，在相对于定位部701而言的前方位置处面对定位部701。当曝光头40在可暴露位置中时，曝光头被介入在定位部701和头引导件800之间。

头引导件800包括第一引导面810、第二引导面820和第三引导面830。第二引导面820可以引导在第一引导面810处的曝光头40，并且第三引导面830可以引导在第二引导面820处的曝光头40。沿着旋转轴线方向观察，随着第一引导面810、第二引导面820、第三引导面830向上(即向上向前和向下向后)延伸，第一引导面810、第二引导面820、第三引导面830向前倾斜。第一引导面810、第二引导面820和第三引导面830相对于竖直方向的倾斜角度按照给定的次序变大。换言之，在第一引导面810、第二引导面820和第三引导面830相对于竖直方向的倾斜角度中，第一引导面810的角度最大，并且第三引导面830的角度最小。

如在图5中所示，第二基准面720包括可以被第二框架200中的第二端部240中的第二头侧接触面241接触的第二框架侧接触面721。类似于第一框架侧接触面711和第三框架侧接触面731，沿着旋转轴线方向观察，第二框架侧接触面721可以呈凸弧形形状。

沿着旋转轴线方向观察，第二基准面720被布置在与第三基准面730一致的位置处。换言之，就曝光头40从缩回位置移动到可暴露位置的移动方向而言，第二基准面720位于与第三基准面730基本相同的位置处。同时，第一基准面710位于第二基准面720的就曝光头40从缩回位置移动到可暴露位置的移动方向而言的上游的上方位置处。

第二挤压器900可以朝向第二基准面720挤压曝光头40的头框架(特别地，第二框架200)。第二挤压器900包括可枢转臂910和抗扭弹簧920。

可枢转臂910可枢转地由被布置在主框架10中的枢转轴13支撑。可枢转臂910在其上位置处包括向前突出的突出部911。该突出部911在其末端处被形成为向上向后且向下向前倾斜。抗扭弹簧920可以对可枢转臂910施加可以在图5中的顺时针方向上作用的推压力。

第二挤压器900呈如下布置，该布置使得：当曝光头40在可暴露位置处时，可枢转臂910中的突出部911可以将第二端部240挤压抵靠第二基准面720。当曝光头40不在可暴露位置处时，如在图6B中所示，突出部911抵接在第二基准面720上以被限制枢转。

第二挤压器900朝向第二基准面720挤压第二框架200的方向不同于第一挤压器600朝向第一基准面710和第三基准面730挤压第二框架200的方向。特别地，第二挤压器900可以朝向第二基准面720侧例如向前挤压第二框架200中的第二端部240。同时，如在图4中所示，由于对来自弹簧620的将挤压器610挤压抵靠头引导件800的压力的反作用力，第一挤压器600可以朝向第一基准面710和第三基准面730侧例如向后挤压第二框架200的第一端部230和第三端部250。

在以下段落中，将描述与从缩回位置(见图2)和可暴露位置(见图1)移动的曝光头40相关联的上述制品的移动。

随着盖11从图2中所示的打开位置朝向图1中所示的关闭位置移动以被关闭时，曝光头40可以如在图6A-图6B中所示向下移动。在该关闭运动的流程中，如由图6A中的点划线示意，第三端部250中的下端部252可以首先接触头引导件800中的第三引导面830。

随着曝光头40下降时，第三端部250中的下端部252可以在头引导件800中的第三引导面830上滑动且连续地在头引导件800中的第二引导面820上滑动，并且第三端部250可以移动通过在第一引导面810和定位部701之间的中间区域。此外，如在图7A-图7B中所示，第三端部250中的下端部252可以从第二引导面820分离，并且第三端部250可以进入在第一引导面810和定位部701之间的中间区域。此后，第一挤压器600中的挤压器610可以接触第一引导面830。

随着曝光头40进一步下降低，如在图8A-图8B中所示，第一挤压器600可以进入在定位部701和头引导件800之间的中间区域，并且挤压器610可以压缩弹簧620以被推动到引导部260的内部。在该运动中，挤压器610可以通过弹簧620的推压力挤压第一引导面810，第二框架200可以被对该推压力的反作用力向后推压，并且第三端部250中的第三头侧接触面251可以接触第三基准面730中的第三框架侧接触面731。

到该运动流程中的该瞬时，第二端部240尚未进入在第二基准面720和第二挤压器900中的突出部911之间的中间区域。如在图4中所示，随着曝光头40进一步下降，由于来自第一挤压器600的压力，第一端部230中的第一头侧接触面231可以接触第一基准面710中的第一框架侧接触面711。

同时，当曝光头40从图8B中所示的位置移动到图5中所示位置时，第二端部240的下端部242可以推动突出部911的倾斜端面，从而可枢转臂910可以克服抗扭弹簧920的推压力而在图5中逆时针枢转并进入在突出部911和第二基准面720之间的中间区域。因此，由于来自第二挤压器900的压力，第二端部240中的第二头侧接触面241可以接触第二基准面720中的第二框架侧接触面721。

而且，如在图3中所示，在间隙调节部件300接触旋转支撑部件500中的接触面531的情况下，在透镜阵列102和感光鼓51之间在光轴方向上的距离可以被限定的同时，曝光头40可以到达可暴露位置。

根据上述构造，可以能够实现以下描述的益处。

即，第一基准面710被布置在第二框架200的后方，而第二基准面720被布置在第二框架200的前方。因此，用于基准部700的布局的自由度可以被提高，并且用于曝光头40的周围的布局的自由度可以被提高。例如，因为处理盒PC能够附接到主框架10和从主框架10拆卸，所以主框架10可以具有用于沿着主框架10将处理盒PC附接到主框架10或者从主框架10拆卸的引导件。在这种构造中，第二挤压器900可以被布置在避免与这些引导件干涉的位置中。

沿着旋转轴线方向观察，第一框架侧接触面711和第二框架侧接触面721以凸弧形形状形成。因此，第二框架200和基准部700可以彼此点接触或线接触。因此，第二框架200可以被放置成接触基准部700中的优选位置，并且曝光头40的就前后方向而言的位置可以被正确地限定。同时，在第二框架200和基准部700之间的滑动阻力可以减小，从而曝光头40可以顺利地在可暴露位置和缩回位置之间移动。

基准部700包括三个(3个)基准面，这三个(3个)基准面是第一基准面710、第二基准面720和第三基准面730。在这方面，第二框架200可以在三个位置处接触基准部700。因此，曝光头40可以正确地且稳定地就前后方向而言被放置在正确的位置中。

第一基准面710位于第二基准面720的就曝光头40从缩回位置移动到可暴露位置的移动方向而言的上游的位置处。因此，在曝光头40在可暴露位置处的同时，用于将第二框架200挤压抵靠第一基准面710的第一挤压器600可以位于可以将第二框架200挤压抵靠第二基准面720的第二挤压器900的就曝光头40的移动方向而言的上游的位置处。在这方面，当曝光头40被从缩回位置移动到可暴露位置时，仅第一挤压器600中的挤压器610可以被放置成较早抵抗弹簧620的推压力而动作，并且第二挤压器900中的可枢转臂910可以被放置成在以后抵抗抗扭弹簧920的推压力而动作。换言之，第一挤压器600和第二挤压器900可以在分开的时刻被启动。因此，与可以同时启动两个挤压器的构造相比较，抵抗向可暴露位置移动的曝光头40的阻力可以被减小，从而可以以更低的强度即更容易将曝光头40移动到可暴露位置。

用于支撑曝光头40的盖11能够绕枢转轴线11A枢转；因此，通过枢转盖11，曝光头40可以沿着盖11的枢转轨迹在可暴露位置和缩回位置之间移动。

曝光头40被支撑为能够在前后方向上移动，并且当曝光头40被从缩回位置移动到可暴露位置时，每一个第二框架200可以接触基准部700并沿着基准部700移动。因此，曝光头40可以就前后方向而言位于正确的位置处。此外，在曝光头40能够在竖直方向上移动并被压缩螺旋弹簧SP朝向感光鼓51推压的同时，曝光头40可以就竖直方向而言位于正确的位置处。因此，曝光头40可以更好地将感光鼓51暴露于光。

位于就曝光头40从缩回位置移动到可暴露位置的移动方向而言在第一端部230的下游的位置处的第三端部250位于从第一端部230向前移位的位置处。因此，当曝光头40从缩回位置移动到可暴露位置时，可以抑制较早地接近第一基准面710的第三端部250与第一基准面710干涉。

曝光头40的第二框架200具有第一挤压器600；因此，用于将第二框架200挤压抵靠基准面710、730的挤压器可以不必被布置在主框架10中。在这方面，在彩色打印机1中的布局的自由度可以被提高。例如，可以呈与第二挤压器900类似的结构的用于将第二框架200挤压抵靠基准面710、730的挤压器可以被布置在曝光头40的就旋转轴线方向而言的一侧上。在该情况下，制造商可能需要考虑到可能由主框架10中的挤压器引起的限制而考虑修改曝光头40周围的其它制品的布局或形式，从而挤压器不应该与这些制品干涉。在这方面，根据上述实施例，可以将制造商从这种限制释放。

在第一框架100支撑包括LED阵列101和透镜阵列102的光学零件的同时，第一挤压器600被布置在从第一框架100分开地形成的第二框架200中。在该布置中，用于将第二框架200挤压抵靠基准面710、730的力可以被施加到第二框架200，同时可以抑制第一框架100受该力影响。因此，可以抑制第一框架100由于该力而变形，从而感光鼓51可以优选地被暴露于来自LED阵列101并通过透镜阵列102的光。

可以接触第一基准面710和第三基准面730的第一挤压器600中的挤压器610由树脂制成。因此，在第一挤压器600与主框架10中的第一基准面710和第三基准面730之间的可滑动性可以被提高，并且曝光头40可以顺利地在可暴露位置和缩回位置之间移动。

第二框架200包括用于引导挤压器610沿其移动的引导部260。在这方面，与不具有这种引导部的框架相比较，挤压器610可以被稳定地移动。因此，用于曝光头40的第二框架200可以正确地被挤压器610挤压抵靠第一基准面710和第三基准面730，并且曝光头40可以就前后方向而言被放置在正确的位置中。

第一挤压器600和第二挤压器900被布置在用于曝光头40的可暴露范围ER的就旋转轴线方向而言的外侧。因此，可以抑制用于曝光头40的暴露范围ER受用于通过第一挤压器600和第二挤压器900挤压第二框架200的力影响，并且感光鼓51可以良好地被暴露于来自曝光头40的光。

虽然已经描述了实施本发明的一个实例，但是本领域技术人员将理解：有落入如在权利要求中阐述的本公开的精神和范围内的成像设备的多个变体和置换。要理解在权利要求中限定的主题不必被限制于上述具体特征或动作。而是公开上述具体特征和动作作为实现权利要求的实例形式。

以下将描述能够从上述实施例推导的改变的实例。在以下实例中，与在以上实施例中描述的制品或结构基本相同或类似的制品或结构可以由相同的附图标记标注，并且那些制品或结构的说明可以被省略。

例如，第一、第二和第三头侧接触面231、241、251与第一、第二和第三框架侧接触面711、721、731可以不必分别呈平坦的平面的形式和圆化的形式，而是可以呈颠倒的形式，即，第一、第二和第三头侧接触面231、241、251可以呈圆化的形式，而第一、第二和第三框架侧接触面711、721、731可以呈平的形式。对于另一个实例，圆化的面可以呈球形或半球形形式，基准部和曝光头40的头框架可以通过该形式彼此此点接触而非面接触。

对于另一个实例，曝光头40的头框架可以不必用包括第一框架100和第二框架200的所述多个框架构造，而是可以用用于保持光学部件(诸如LED阵列101)、间隙调节部件300和第一挤压器600的单一框架构造。

对于另一个实例，第一挤压器600中的挤压器610可以不必能够沿着前后方向线性移动，而是可以例如能够枢转。

对于另一个实例，用于朝向感光鼓51推压曝光头40的压缩螺旋弹簧SP和同样第一挤压器600中的弹簧620可以被例如片簧或抗扭弹簧取代。

对于另一个实例，限定在透镜阵列102和感光鼓51之间在光轴方向上的距离的间隙调节部件300可以不必被布置成接触旋转支撑部件500。例如，间隙调节部件可以被布置成接触鼓框架55或主框架10。对于另一个实例，限定在透镜阵列102和感光鼓51之间在光轴方向上的距离的部件可以不必是被附接到第二框架200的间隙调节部件300，而是曝光头40的头框架的一部分可以用于限定在透镜阵列102和感光鼓51之间在光轴方向上的距离。

对于另一个实例，用于包括装入部件400和旋转支撑部件500的上述制品的材料可以不必被限制于上述那些材料，而是可以被其它可利用的材料取代。对于另一个实例，旋转支撑部件500可以不必是套筒轴承，而是可以是例如滚珠轴承。

对于另一个实例，用于在感光鼓51处发射光的LED阵列101可以不必包括所述多个光发射器(例如，LED)，而是可以包括例如单一光发射器和可以打开或关闭用于光的光路的多个遮蔽器。

对于另一个实例，第一基准面710可以不必位于第二基准面720的就曝光头40从缩回位置移动到可暴露位置的移动方向而言的上游的位置处，而是可以位于第二基准面720的就移动方向而言的下游的位置处；即，第二基准面720可以位于第一基准面710的就曝光头40从缩回位置移动到可暴露位置的移动方向而言的上游的位置处。

对于另一个实例，基准部700可以不必被布置在主框架10中，而是可以被布置在例如鼓框架55中。对于另一个实例，彩色打印机1可以具有可以支撑感光鼓51且可以能够相对于主框架10移动的抽屉，并且基准部可以被布置在该抽屉上。换言之，用于支撑感光鼓51的鼓支撑部件可以包括抽屉。

对于另一个实例，第一挤压器600可以不必被布置在曝光头40的就旋转轴线方向而言的一个端区域中的位置处，而是可以被布置在曝光头40中的就旋转轴线方向而言的一个端区域和另一个端区域中的位置处。对于另一个实例，挤压器可以被布置在曝光头40的就副扫描方向而言的一侧和另一侧上。

对于另一个实例，本公开可以不必被应用于彩色打印机1，而是可以被应用于另一种类型的成像设备(包括例如复印机和多功能周边机器)。

此外，在上述实施例的构造和示范构造中的制品和零件可以被任意地或者选择性地组合。

Claims (8)

1.一种成像设备，包括：

感光鼓；

曝光头，所述曝光头包括：

多个光发射器，所述多个光发射器沿着所述感光鼓的旋转轴线方向对准；

透镜阵列，所述透镜阵列将来自所述光发射器的光聚焦在所述感光鼓上；和

头框架，所述头框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列，

所述曝光头能够在可暴露位置和缩回位置之间移动，在所述可暴露位置中所述感光鼓被暴露于光，在所述缩回位置中所述曝光头离所述感光鼓比在所述可暴露位置中的所述曝光头离所述感光鼓远；

基框架，所述基框架支撑所述感光鼓，所述基框架包括基准面，所述基准面被构造为当所述曝光头在所述可暴露位置处时通过被所述曝光头的所述头框架接触而限定所述曝光头的就副扫描方向而言的位置，所述副扫描方向正交于所述光的光轴方向和所述旋转轴线方向；和

弹簧，所述弹簧被布置在所述头框架中，所述弹簧将所述头框架朝向所述基准面挤压。

2.根据权利要求1所述的成像设备，

其中沿着所述旋转轴线方向观察，所述基准面呈凸弧形形状。

3.根据权利要求1所述的成像设备，

其中所述基准面包括第一基准面、第二基准面和第三基准面，所述第一基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的一侧上，所述第二基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的另一侧上，所述第三基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的所述一侧上；并且

其中所述第一基准面和所述第三基准面被布置成在所述光轴方向上彼此隔开。

4.根据权利要求1所述的成像设备，

其中所述头框架包括第一框架和第二框架，所述第一框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列，所述第二框架支撑所述第一框架；并且

其中所述弹簧被布置在所述第二框架中。

5.根据权利要求1所述的成像设备，进一步包括：

挤压器，所述挤压器接触所述基框架，所述挤压器由树脂制成，

其中所述弹簧挤压所述挤压器。

6.根据权利要求5所述的成像设备，

其中所述头框架包括引导部，所述引导部被构造为引导所述挤压器在所述副扫描方向上移动。

7.根据权利要求1所述的成像设备，

其中所述弹簧就所述旋转轴线方向而言被布置在用于所述曝光头的可暴露范围的外侧。

8.根据权利要求1所述的成像设备，

其中所述曝光头包括接触部，所述接触部被构造为接触所述基框架，以沿着所述光轴方向限定在所述透镜阵列和所述感光鼓之间的距离；并且

其中所述弹簧沿着所述旋转轴线方向被布置在用于所述曝光头的可暴露范围的隔着所述接触部的相反的一侧上。