CN108162425A - 一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法 - Google Patents

一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108162425A
CN108162425A CN201711414786.1A CN201711414786A CN108162425A CN 108162425 A CN108162425 A CN 108162425A CN 201711414786 A CN201711414786 A CN 201711414786A CN 108162425 A CN108162425 A CN 108162425A
Authority
CN
China
Prior art keywords
soft mold
nano
micro
large scale
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201711414786.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108162425B (zh
Inventor
兰红波
许权
赵佳伟
周贺飞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Qingdao University of Technology
Original Assignee
Qingdao University of Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Qingdao University of Technology filed Critical Qingdao University of Technology
Priority to CN201711414786.1A priority Critical patent/CN108162425B/zh
Publication of CN108162425A publication Critical patent/CN108162425A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108162425B publication Critical patent/CN108162425B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C69/00—Combinations of shaping techniques not provided for in a single one of main groups B29C39/00 - B29C67/00, e.g. associations of moulding and joining techniques; Apparatus therefore
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C39/00—Shaping by casting, i.e. introducing the moulding material into a mould or between confining surfaces without significant moulding pressure; Apparatus therefor
    • B29C39/02—Shaping by casting, i.e. introducing the moulding material into a mould or between confining surfaces without significant moulding pressure; Apparatus therefor for making articles of definite length, i.e. discrete articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
    • B29C41/02—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of definite length, i.e. discrete articles
    • B29C41/08—Coating a former, core or other substrate by spraying or fluidisation, e.g. spraying powder
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

本发明公开了一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，包括以下步骤：步骤一：基板预处理；步骤二：热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构；根据所要制造的微纳模具图形结构，制造出与模具反形的牺牲结构；步骤三：图形复制和转移；采用旋涂或浇筑工艺，将液态软模材料均匀涂铺到牺牲结构上，并对液态软模材料进行预固化；步骤四：脱模；将软模具与打印的牺牲结构的结合体和基板完全分离，得到复合软模具；步骤五：复合软模具后处理；本发明结合热熔融电流体动力喷射打印和浇筑复制转移工艺的技术优势，实现大尺寸无拼接微纳尺度软模具的制造，尤其是具有能够实现米级尺度无拼接微纳复合软模具快速和低成本制造的独特优势。

Description

一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法
技术领域
本发明涉及一种制造方法，更具体涉及一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法。
背景技术
高清平板显示、高效太阳能电池板、抗反射和自清洁玻璃、LED图形化、晶圆级微纳光学器件等领域为了改进和提高产品的性能和品质，对于大面积微纳图形化技术有着非常巨大的产业需求，这些产品其共同特征是需要在大尺寸非平整刚性衬底上(硬质基材或者基板)或者易碎衬底高效、低成本制造出大面积复杂三维微纳米结构。大尺寸OLED、LCD、光伏太能电池板等领域对于透明电极等超微细导电图形也有着巨大产业需求。纳米压印为高效和低成本制造大面积复杂微纳米结构提供了一种具有工业化应用前景的解决方案，尤其基于软模具的纳米压印光刻工艺具有在非平整表面、曲面、易碎衬底上实现大面积微纳图形化的独特优势。但是大尺寸微纳模具(母模)，尤其是大尺寸无拼接微纳软模具的制造是当前大面积纳米压印和大面积微纳图形化技术所面临的一项挑战性难题。现有的电子束光刻、聚焦离子束制造、干涉光刻等微纳制造技术在实现大尺寸无拼接微纳模具制造方面面临许多不足和局限性，诸如加工成本、制造周期、最大图形化面积等，尤其是现有的技术几乎无法实现8英寸以上大尺寸无拼接纳尺度模具(母模)和软模具的制造，这已经成为制约当前大面积纳米压印和微纳图案化广泛工业化应用的最大技术瓶颈。
电流体动力喷射打印(亦称为电喷印)是近年新出现的一种大面积微纳图形化技术，它具有成本低、分辨率高、超大图形化面积(米级尺度)、效率高、可用材料种类多、适用于软、硬等多种衬底或者基材的显著特点和优势。这为大尺寸无拼接微纳软模具制造提供了一种全新的解决方案。
发明内容
本发明的目的解决大尺寸无拼接微纳尺度软模具制造的技术难题，提供了一种基于热熔融电流体动力喷射打印的大尺寸无拼接微纳尺度复合软模具高效和低成本的制造方法，它能够实现8英寸以上甚至米级尺度的超大尺寸无拼接微纳尺度复合软模具的高效和低成本制造。
本发明实现大尺寸无拼接微纳复合软模具制造的技术方案是：首先采用热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构；随后通过浇注聚二甲基硅氧烷(PDMS)将热熔融电流体动力喷射打印制作的牺牲结构进行复制和转移；最后，脱模和去除牺牲结构后，获得大尺寸无拼接微纳尺度复合软模具。
为了实现上述目的，本发明采用以下技术措施：
一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，包括以下步骤：
步骤一：基板预处理；
步骤二：热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构；
牺牲结构为制作软模具的辅助结构。
根据所要制造的微纳模具图形结构，采用热熔融电流体动力喷射打印在基板上制造出与模具反形的牺牲结构；
步骤三：图形复制和转移；
图形的复制和转移，是将牺牲结构的形状复制和转移到软模具上。
采用旋涂或浇筑工艺，将液态软模材料均匀涂铺到牺牲结构上，涂铺液态软模材料的厚度范围100nm-10μm，并对液态软模材料进行预固化；
步骤四：脱模；
将软模具与打印的牺牲结构的结合体和基板完全分离，得到复合软模具；
步骤五：复合软模具后处理；
进一步的，所述基板采用硅基板或玻璃基板，对基板清洗和干燥后，并对基板表面进行抗粘附处理，使基板表面形成抗粘附层。
进一步的，所述抗粘附处理包括去离子水超声处理10min；异丙醇超声处理20min；异辛烷超声处理20min；以异辛烷为溶剂，配置1％浓度的十七氟癸基三氯硅烷溶液FDTS，静置15min；然后，将玻璃基板放入其中浸泡30min；然后分别用异辛烷、丙酮、异丙醇于超声条件下各清洗20min；最后进行氮气吹干。
进一步的，所述步骤二中用热熔融电流体动力喷射打印工艺，以聚己内酯PCL或聚乙烯醇PVA为打印材料，在基板上打印出牺牲结构。
进一步的，当步骤二中的打印材料为聚乙烯醇PVA时，进行脱模工艺后，需要增加去除牺牲结构工艺。
进一步的，所述去除牺牲结构工艺包括：将软模材料和PVA材料的复合结构置于去离子水中，水浴加热，保持温度在90℃，同时进行超声处理30min，将残留在软模材料上的牺牲结构PVA材料完全溶解在去离子水中，得到复合软模具。
进一步的，所述软模材料采用聚二甲基硅氧烷PDMS、乙烯-四氟乙烯共聚物ETFE、聚氨酯丙烯酸酯PUA中的任意一种。
进一步的，所述步骤三图形复制和转移后还包括附加支撑层工艺。
进一步的，所述附加支撑层工艺包括以聚对苯二甲酸乙二醇酯PET作为支撑层，PET的厚度范围0.1mm-8mm；首先在PET上涂覆一层透明的偶联剂材料或者进行表面粘附性处理；然后，将PET贴合到PDMS之上；最后，将基板、PCL牺牲结构、PDMS复制结构、PET背衬整体放置到真空加热箱中，加热完全固化PDMS，并确保PET背衬和PDMS牢固结合，在真空环境下，40℃-60℃下加热固化10-18小时。
进一步的，所述步骤四脱模工艺采用揭开式脱模方法。
本发明结合热熔融电流体动力喷射打印和浇筑复制转移工艺的技术优势，实现大尺寸无拼接微纳尺度软模具的制造，尤其是具有能够实现米级尺度无拼接微纳复合软模具快速和低成本制造的独特优势，本发明的显著优势包括：
(1)实现超大尺寸米级尺度无拼接微纳复合软模具快速和低成本制造。
(2)具有制造成本低，效率高的突出特点。
(3)工艺简单，不需要专用的设备，充分利用现有的设备。
(4)本发明制造的大尺寸模具没有拼接误差，精度高。
(5)该方法可扩展性和灵活性高，适合批量化制造。
(6)本发明尤其适合光栅结构、网格结构大尺寸微纳模具制造。
本发明为大面积纳米压印领域所需要的大尺寸无拼接微纳复合软模具的制造提供了一种全新的解决方案，尤其是为大尺寸OLED、触控屏、太阳能电池板、LCD等领域所需要的大尺寸和大面积电极(透明电极)和超微细电路的制造提供一种具有广泛工业化应用前景的全新解决方案，而且具有精度高、无拼接、超大尺寸、低成本、高效的独特优势。本发明尤其特别适合制造大面积纳米压印和大面积转印工艺需要的工作软模具制造。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明制作大尺寸无拼接微纳复合软模具原理示意图。
图中：1—基板，2—抗粘附层，3—牺牲结构，4—软模材料，5—支撑层。
具体实施方式
应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
正如背景技术所介绍的，现有技术中存在的是现有的电子束光刻、聚焦离子束制造、干涉光刻等微纳制造技术在实现大尺寸无拼接微纳模具制造方面面临许多不足和局限性，诸如加工成本、制造周期、最大图形化面积等，尤其是现有的技术几乎无法实现8英寸以上大尺寸无拼接纳尺度模具(母模)和软模具的制造，这已经成为制约当前大面积纳米压印和微纳图案化广泛工业化应用的最大技术瓶颈。为了解决如上的技术问题，本申请提出了一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法。
以下结合附图，对本发明的结构作进一步描述。
实施实例1
本实施例的用于大尺寸无拼接复合软模具的制作，如图1所示，具体制备步骤如下：
(1)基板1预处理：A1对玻璃基板1进行抗粘附处理，形成抗粘附层2
玻璃作为基板1，对玻璃基板1表面进行抗粘附处理。首先对玻璃基板1进行清洗，去离子水超声处理10min；异丙醇超声处理20min；异辛烷超声处理20min；以异辛烷为溶剂，配置1％浓度的十七氟癸基三氯硅烷溶液(FDTS)，静置15min；然后，将玻璃基板1放入其中浸泡30min；然后分别用异辛烷、丙酮、异丙醇于超声条件下各清洗20min；使基板1表面形成抗粘附层2，最后进行氮气吹干。
(2)热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构3：A2采用热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构3
牺牲结构为制作软模具的辅助结构。
以聚乙烯醇(PVA)作为电喷印打印材料，根据所要制造的微纳模具图形结构，采用热熔融电流体动力喷射打印在玻璃基板1上打印出模具反形结构(牺牲结构3)。
打印牺牲结构3图形：线宽400nm，周期400nm，高度200nm的线栅结构，有效图形区域面积为700mm X 700mm。
(3)图形复制和转移：A3在牺牲结构3上涂PDMS进行图形转移和复制
图形的复制和转移，是将牺牲结构的形状复制和转移到软模具上。
以打印的PVA牺牲结构3为母模，通过浇筑工艺，在玻璃基板1和其上的PVA牺牲结构3均匀涂铺厚度100nm的PDMS材料，在60℃下固化8小时。
(4)附加支撑层5：A4在软模材料4上附加支撑层5
以PET作为支撑层5，PET的厚度为2mm。首先在PET上涂覆一层透明的偶联剂材料(如KH550，KH560，KH570，KH792，DL602，DL171)，然后贴合到PDMS之上；最后，将基板1、PVA牺牲结构3、PDMS复制结构、PET背衬整体放置到真空加热箱中，在真空环境下，40℃下固化10小时。确保PDMS完全固化，以及PET背衬和PDMS牢固结合。
(5)脱模：A5将软模材料4和支撑层5的复合结构与打印的牺牲结构3和玻璃基板1完全分离
采用揭开式脱模方法，将PET和PDMS复合软模具与打印的PVA牺牲结构3和玻璃基板1完全分离。
(6)去除牺牲结构3：A6清除复合软模具上残留的牺牲结构3
将PDMS—PET复合结构置于去离子水中，水浴加热，保持温度在90℃，同时进行超声处理30min，将残留在PDMS上的牺牲结构3PVA材料完全溶解在去离子水中，得到微纳复合软模具。
(7)复合软模具后处理
将步骤6所得软模具置于去离子水中超声处理20min，最后氮气吹干，制得具有所需微纳结构图案的复合软模具。
实施实例2
本实施例的用于大尺寸无拼接软模具的制作，具体制备步骤如下：
(1)基板1预处理
玻璃作为基板1，对玻璃基板1表面进行抗粘附处理。首先对玻璃基板1进行清洗，去离子水超声处理10min；异丙醇超声处理20min；异辛烷超声处理20min；以异辛烷为溶剂，配置1％浓度的十七氟癸基三氯硅烷溶液(FDTS)，静置15min；然后，将玻璃基板1放入其中浸泡30min；然后分别用异辛烷、丙酮、异丙醇于超声条件下各清洗20min；；使基板1表面形成抗粘附层2，最后进行氮气吹干。
(2)热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构3
以聚己内酯(PCL)作为电喷印打印材料，根据所要制造的微纳模具图形结构，采用热熔融电流体动力喷射打印在玻璃基板1上打印出模具反形结构(牺牲结构3)。
打印牺牲结构3图形：线宽400nm，周期400nm，高度200nm的线栅结构，有效图形区域面积为700mm X 700mm。
(3)图形复制和转移
以打印的PCL牺牲结构3为母模，通过旋涂工艺，在玻璃基板1和其上的PCL牺牲结构3均匀涂铺厚度10μm的PDMS材料，在60℃下固化8小时。
(4)附加支撑层5
以PET作为支撑层5，PET的厚度为2mm。首先在PET上涂覆一层透明的偶联剂材料(如KH550，KH560，KH570，KH792，DL602，DL171)，然后贴合到PDMS之上；最后，将基板1、PCL牺牲结构3、PDMS复制结构、PET背衬整体放置到真空加热箱中，在真空环境下，40℃下固化10小时。确保PDMS完全固化，以及PET背衬和PDMS牢固结合。
(5)脱模
采用揭开式脱模方法，将PET和PDMS复合软模具与打印的PCL牺牲结构3和玻璃基板1完全分离。
(6)复合软模具后处理
将所得软模具置于去离子水中超声处理20min，最后氮气吹干，制得具有所需微纳结构图案的复合软模具。
实施实例3
本实施例的用于大尺寸无拼接软模具的制作，具体制备步骤如下：
(1)基板1预处理
玻璃作为基板1，对玻璃基板1表面进行抗粘附处理。首先对玻璃基板1进行清洗，去离子水超声处理10min；异丙醇超声处理20min；异辛烷超声处理20min；以异辛烷为溶剂，配置1％浓度的十七氟癸基三氯硅烷溶液(FDTS)，静置15min；然后，将玻璃基板1放入其中浸泡30min；然后分别用异辛烷、丙酮、异丙醇于超声条件下各清洗20min；使基板1表面形成抗粘附层2，最后进行氮气吹干。
(2)热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构3
以聚己内酯(PCL)作为电喷印打印材料，根据所要制造的微纳模具图形结构，采用热熔融电流体动力喷射打印在玻璃基板1上打印出模具反形结构(牺牲结构3)。
打印牺牲结构3图形：线宽300nm，周期300nm，高度100nm的线栅结构，有效图形区域面积为500mm X 500mm。
(3)图形复制和转移
以打印的PCL牺牲结构3为母模，通过浇筑工艺，在玻璃基板1和其上的PCL牺牲结构3均匀涂铺厚度5μm的PDMS材料，在60℃下固化10小时。
(4)脱模
采用“揭开式”脱模方法，将PDMS软模具与打印的PCL牺牲结构3和玻璃基板1完全分离。
(5)软模具后处理
将所得软模具置于去离子水中超声处理20min，最后氮气吹干，制得具有所需微纳结构图案的复合软模具。
上述虽然结合附图对本发明的具体实施方式进行了描述，但并非对本发明保护范围的限制，所属领域技术人员应该明白，在本发明的技术方案的基础上，本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本发明的保护范围以内。

Claims (10)

1.一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：基板预处理；
步骤二：热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构；
根据所要制造的微纳模具图形结构，以PCL和PVA为打印材料，采用热熔融电流体动力喷射打印在基板上制造出与模具反形的牺牲结构；
步骤三：图形复制和转移；
采用旋涂或浇筑工艺，将液态软模材料均匀涂铺到牺牲结构上，并对液态软模材料进行预固化；
步骤四：脱模；
将软模具与打印的牺牲结构的结合体和基板完全分离，得到复合软模具；
步骤五：复合软模具后处理。
2.如权利要求1所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，所述基板采用硅基板或玻璃基板，对基板清洗和干燥后，并对基板表面进行抗粘附处理，使基板表面形成抗粘附层。
3.如权利要求2所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，所述抗粘附处理包括首先按照规定的时间依次对基板进行去离子水超声处理、异丙醇超声处理、异辛烷超声处理；接着以异辛烷为溶剂，配置一定浓度的十七氟癸基三氯硅烷溶液，将溶液静置一段时间；然后，将玻璃基板放入其中浸泡一段时间；然后分别用异辛烷、丙酮、异丙醇于超声条件下各清洗一段时间；最后进行氮气吹干。
4.如权利要求1所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，所述步骤二中用热熔融电流体动力喷射打印工艺，以PCL或PVA为打印材料，在基板上打印出牺牲结构。
5.如权利要求4所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，当步骤二中的打印材料为PVA时，进行脱模工艺后，需要增加去除牺牲结构工艺。
6.如权利要求5所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，所述去除牺牲结构工艺包括：将软模材料和PVA材料的复合结构置于去离子水中，水浴加热，保持温度在一定温度，同时进行超声处理，将残留在软模材料上的牺牲结构PVA材料完全溶解在去离子水中，得到复合软模具。
7.如权利要求1所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，所述软模材料采用聚二甲基硅氧烷PDMS、乙烯-四氟乙烯共聚物、聚氨酯丙烯酸酯中的任意一种。
8.如权利要求1所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，所述步骤三图形复制和转移后还包括附加支撑层工艺。
9.如权利要求8所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，所述附加支撑层工艺包括以PET作为支撑层；首先在PET上涂覆一层透明的偶联剂材料或者进行表面粘附性处理；然后，将PET贴合到PDMS之上；最后，将基板、牺牲结构、PDMS复制结构、PET背衬整体放置到真空加热箱中，加热完全固化PDMS，并确保PET背衬和PDMS牢固结合，在真空环境下加热固化。
10.如权利要求1所述的大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，其特征在于，所述步骤四脱模工艺采用揭开式脱模方法。
CN201711414786.1A 2017-12-22 2017-12-22 一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法 Active CN108162425B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711414786.1A CN108162425B (zh) 2017-12-22 2017-12-22 一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711414786.1A CN108162425B (zh) 2017-12-22 2017-12-22 一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108162425A true CN108162425A (zh) 2018-06-15
CN108162425B CN108162425B (zh) 2020-08-28

Family

ID=62523976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711414786.1A Active CN108162425B (zh) 2017-12-22 2017-12-22 一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108162425B (zh)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108803124A (zh) * 2018-06-27 2018-11-13 武汉华星光电技术有限公司 曲面液晶显示屏及其制造方法
CN109041563A (zh) * 2018-09-03 2018-12-18 青岛理工大学 利用3d打印制造柔性透明电磁屏蔽膜方法
CN109219174A (zh) * 2018-11-14 2019-01-15 青岛理工大学 一种高透光率、低方阻透明电加热玻璃的制造方法
CN109247005A (zh) * 2018-09-03 2019-01-18 青岛理工大学 利用电场驱动喷射3d打印制造电磁屏蔽光学窗方法
CN109659419A (zh) * 2018-10-30 2019-04-19 东莞市谷麦光学科技有限公司 一种led灯封胶印刷工艺
CN112026073A (zh) * 2020-08-24 2020-12-04 青岛理工大学 一种ar衍射光波导压印模具的制备方法及软模具和应用
US20210197507A1 (en) * 2019-12-25 2021-07-01 Qingdao university of technology Method and apparatus for mass production of ar diffractive waveguides
CN113199673A (zh) * 2020-01-15 2021-08-03 通用汽车环球科技运作有限责任公司 具有在其中形成的近表面通道的模具及其制造方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1562731A (zh) * 2004-04-01 2005-01-12 上海交通大学 基于旋涂的纳米复制方法
CN1885168A (zh) * 2005-06-24 2006-12-27 Lg.菲利浦Lcd株式会社 软模及其制造方法
US20090139960A1 (en) * 2006-12-04 2009-06-04 Jin Wuk Kim Method of fabricating an apparatus of fabricating an flat panel display device and method for fabricating flat panel display device
CN102854741A (zh) * 2012-09-29 2013-01-02 青岛理工大学 用于非平整衬底晶圆级纳米压印的复合软模具及制造方法
CN103009534A (zh) * 2012-12-19 2013-04-03 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种集成微结构的pdms薄膜制作方法
CN103869611A (zh) * 2014-03-27 2014-06-18 西安交通大学 整片纳米压印用三层复合结构透明软模具原位制造方法
CN106738896A (zh) * 2016-12-22 2017-05-31 青岛理工大学 一种微纳尺度3d打印机及方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1562731A (zh) * 2004-04-01 2005-01-12 上海交通大学 基于旋涂的纳米复制方法
CN1885168A (zh) * 2005-06-24 2006-12-27 Lg.菲利浦Lcd株式会社 软模及其制造方法
US20090139960A1 (en) * 2006-12-04 2009-06-04 Jin Wuk Kim Method of fabricating an apparatus of fabricating an flat panel display device and method for fabricating flat panel display device
CN102854741A (zh) * 2012-09-29 2013-01-02 青岛理工大学 用于非平整衬底晶圆级纳米压印的复合软模具及制造方法
CN103009534A (zh) * 2012-12-19 2013-04-03 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种集成微结构的pdms薄膜制作方法
CN103869611A (zh) * 2014-03-27 2014-06-18 西安交通大学 整片纳米压印用三层复合结构透明软模具原位制造方法
CN106738896A (zh) * 2016-12-22 2017-05-31 青岛理工大学 一种微纳尺度3d打印机及方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108803124A (zh) * 2018-06-27 2018-11-13 武汉华星光电技术有限公司 曲面液晶显示屏及其制造方法
CN109041563A (zh) * 2018-09-03 2018-12-18 青岛理工大学 利用3d打印制造柔性透明电磁屏蔽膜方法
CN109247005A (zh) * 2018-09-03 2019-01-18 青岛理工大学 利用电场驱动喷射3d打印制造电磁屏蔽光学窗方法
CN109041563B (zh) * 2018-09-03 2020-05-05 青岛理工大学 利用3d打印制造柔性透明电磁屏蔽膜方法
CN109659419A (zh) * 2018-10-30 2019-04-19 东莞市谷麦光学科技有限公司 一种led灯封胶印刷工艺
CN109219174A (zh) * 2018-11-14 2019-01-15 青岛理工大学 一种高透光率、低方阻透明电加热玻璃的制造方法
CN109219174B (zh) * 2018-11-14 2021-06-25 青岛理工大学 一种高透光率、低方阻透明电加热玻璃的制造方法
US20210197507A1 (en) * 2019-12-25 2021-07-01 Qingdao university of technology Method and apparatus for mass production of ar diffractive waveguides
US11577480B2 (en) * 2019-12-25 2023-02-14 Qingdao university of technology Method and apparatus for mass production of AR diffractive waveguides
CN113199673A (zh) * 2020-01-15 2021-08-03 通用汽车环球科技运作有限责任公司 具有在其中形成的近表面通道的模具及其制造方法
CN112026073A (zh) * 2020-08-24 2020-12-04 青岛理工大学 一种ar衍射光波导压印模具的制备方法及软模具和应用
CN112026073B (zh) * 2020-08-24 2022-04-08 青岛理工大学 一种ar衍射光波导压印模具的制备方法及软模具和应用

Also Published As

Publication number Publication date
CN108162425B (zh) 2020-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108162425A (zh) 一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法
CN104937695B (zh) 使用纳米结构化转印带的方法及其制成的制品
CN101446762B (zh) 非接触式模板约束下的电场诱导微复型方法
CN103209812B (zh) 用于生产纳米结构的或平滑的聚合物制品的方法和装置
CN109483780A (zh) 一种大高宽比微结构转印方法
CN102145875B (zh) 一种聚二甲基硅氧烷微纳流控芯片的制备方法
CN105159029A (zh) 大面积微纳图形化的装置和方法
CN105706242A (zh) 用于oled装置的纳米结构
US20120244246A1 (en) Injection molding tools with micro/nano-meter pattern
KR101358988B1 (ko) 3차원 나노구조를 이용한 물질 고유 한계 이상의 고신축성 재료 및 이의 제조방법
CN103172019B (zh) 一种干粘附微纳复合两级倾斜结构的制备工艺
CN108153108A (zh) 一种大尺寸无拼接微纳模具制造方法
CN112927862B (zh) 一种高性能大面积柔性透明电极及其制备方法和应用
CN101823690A (zh) Su-8纳米流体系统的制作方法
KR20130135198A (ko) 클리쉐 및 이를 포함하는 인쇄 장치
KR101565835B1 (ko) 복제 몰드 제조 방법 및 이를 이용한 미세 구조 및 그 활용.
KR20180094057A (ko) Ｏｌｅｄ 조명의 추출 효율을 향상시키기 위한 다기능 계층적 나노 및 마이크로렌즈
CN103676473A (zh) 纳米压印结合湿法刻蚀在曲面上制备金属图案的方法
Fernández et al. Residual layer-free Reverse Nanoimprint Lithography on silicon and metal-coated substrates
CN106226846A (zh) 一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法
CN101837950A (zh) 两嵌段共聚物直接组装纳米结构的装置和方法
Nakamura et al. Fabrication of micro-lens array with antireflection structure
CN106611638A (zh) 一种低温转移导电微米和/或纳米线网络方法
WO2013119083A1 (ko) 관통홀을 가지는 프리스탠딩한 고분자 멤브레인 및 그 제조방법
CN102253435A (zh) 一种利用电场诱导制造聚合物柱面微透镜的微加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant