CN108153110A - 一种紫外光固化纳米压印的方法 - Google Patents

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徐晓轩
王斌
梁菁
车颖
徐阳阳
时金蒙
文虹镜
杨江涛
林宝志
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
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Abstract

一种紫外光固化纳米压印的方法，包括以下步骤，步骤一，压印材料附着，将压印材料涂覆在压印模具的压印部的表面；步骤二，紫外线初次固化，在18℃～22℃环境温度下对所述压印模具的压印部表面进行紫外线照射，固化所述压印材料；步骤三，预压印，对基板进行加热，并保持所述基板温度在60℃～70℃，而后使用预压模具对所述基板表面进行预压以对所述基板表面增加预压纹；步骤四，压印固化，加热所述基板至80℃～100℃后使用所述压印模具对所述基板进行压印，而后使用紫外线对所述基板进行曝光固化。本发明通过加热法与紫外线固化法按照步序进行操作，从而提高固化的效果。

Description

一种紫外光固化纳米压印的方法
技术领域
本发明涉及纳米压印技术领域，具体涉及一种紫外光固化纳米压印的方法。
背景技术
纳米压印技术为将一具有纳米图案的模版以机械力(高温、高压)在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案，其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制，目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设备的成本。因此NIL技术具有低成本、高产出的经济优势。此外，NIL技术可应用的范围相当广泛，涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置(微混合器、微反应器)，超高存储密度磁盘、微光学元件等领域。现有的纳米压印技术的转移效率不过，固化效果不佳。
发明内容
本发明的目的是提供一种紫外光固化纳米压印的方法，本发明通过加热法与紫外线固化法按照步序进行操作，从而提高固化的效果。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种紫外光固化纳米压印的方法，包括以下步骤，
步骤一，压印材料附着，将压印材料涂覆在压印模具的压印部的表面；
步骤二，紫外线初次固化，在18℃～22℃环境温度下对所述压印模具的压印部表面进行紫外线照射，固化所述压印材料；
步骤三，预压印，对基板进行加热，并保持所述基板温度在60℃～70℃，而后使用预压模具对所述基板表面进行预压以对所述基板表面增加预压纹；
步骤四，压印固化，加热所述基板至80℃～100℃后使用所述压印模具对所述基板进行压印，而后使用紫外线对所述基板进行曝光固化。
作为本发明的优选，所述的预压模具预压方向与所述压印模具的压印方向相反。
作为本发明的优选，所述的预压纹为矩形阵列排列的凸点纹路。
作为本发明的优选，所述的压印固化步骤中紫外线的照射强度为所述紫外线初次固化步骤中的紫外线的照射强度的80％～90％。
作为本发明的优选，所述的压印模具为压辊形，所述的压印模具由转动轴心向外侧方向依次为压辊主体与所述压印部，所述压印部透明结构。
作为本发明的优选，所述的压印部为石英制材质制成。
作为本发明的优选，所述的压印材料附着步骤中，在涂覆所述压印材料之前先对所述压印模具的所述压印部的表面进行脱模剂涂覆。
作为本发明的优选，所述的压印材料为压印胶中参入光敏剂构成。
综上所述，本发明具有如下有益效果：
本发明拥有固化效果好、固化效率高的优点。
具体实施方式
本发明实施例首先准备好需要压印的基板、压印模具、压印材料，然后进行包括以下的步骤，
步骤一，压印材料附着，将压印材料涂覆在压印模具的压印部的表面，涂覆均匀，在涂覆压印材料之前先进行脱模剂涂覆；
步骤二，紫外线初次固化，在18℃～22℃环境温度下对压印模具的压印部表面进行紫外线照射，固化压印材料；
步骤三，预压印，对基板进行加热，并保持基板温度在60℃～70℃，优选为70℃，而后使用预压模具对基板表面进行预压以对基板表面增加用于增大与压印材料的接触面的粗糙度提升结合效果的预压纹，预压模具与压印模具的结构相同，仅仅是模具的压印部的表面纹理区别，预压纹的最大凸起、凹陷尺寸不能超过压印模具的压印图案的最小凸起、凹陷尺寸；
步骤四，压印固化，加热基板至80℃～100℃后使用压印模具对基板进行压印，而后使用紫外线对基板进行曝光固化。紫外线的照射强度为紫外线初次固化步骤中的紫外线的照射强度的80％～90％。
在以上步骤中，预压模具预压方向与压印模具的压印方向相反，既是压印轮和预压轮的行进方向反向。预压纹为矩形阵列排列的凸点纹路。压印模具为压辊形，压印模具由转动轴心向外侧方向依次为压辊主体与压印部，压印部透明结构。压印部为石英制材质制成。压印材料为压印胶中参入光敏剂构成。
本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。

Claims (8)

1.一种紫外光固化纳米压印的方法，其特征在于：包括以下步骤，
步骤一，压印材料附着，将压印材料涂覆在压印模具的压印部的表面；
步骤二，紫外线初次固化，在18℃～22℃环境温度下对所述压印模具的压印部表面进行紫外线照射，固化所述压印材料；
步骤三，预压印，对基板进行加热，并保持所述基板温度在60℃～70℃，而后使用预压模具对所述基板表面进行预压以对所述基板表面增加预压纹；
步骤四，压印固化，加热所述基板至80℃～100℃后使用所述压印模具对所述基板进行压印，而后使用紫外线对所述基板进行曝光固化。
2.根据权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印的方法，其特征在于：所述的预压模具预压方向与所述压印模具的压印方向相反。
3.根据权利要求1或2所述的一种紫外光固化纳米压印的方法，其特征在于：所述的预压纹为矩形阵列排列的凸点纹路。
4.根据权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印的方法，其特征在于：所述的压印固化步骤中紫外线的照射强度为所述紫外线初次固化步骤中的紫外线的照射强度的80％～90％。
5.根据权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印的方法，其特征在于：所述的压印模具为压辊形，所述的压印模具由转动轴心向外侧方向依次为压辊主体与所述压印部，所述压印部透明结构。
6.根据权利要求5所述的一种紫外光固化纳米压印的方法，其特征在于：所述的压印部为石英制材质制成。
7.根据权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印的方法，其特征在于：所述的压印材料附着步骤中，在涂覆所述压印材料之前先对所述压印模具的所述压印部的表面进行脱模剂涂覆。
8.根据权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印的方法，其特征在于：所述的压印材料为压印胶中参入光敏剂构成。
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