CN108135418A - 具有受控递送的表面处理机器 - Google Patents

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CN108135418A CN201680050559.2A CN201680050559A CN108135418A CN 108135418 A CN108135418 A CN 108135418A CN 201680050559 A CN201680050559 A CN 201680050559A CN 108135418 A CN108135418 A CN 108135418A
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Abstract

一种表面处理机器(10),包括:框架(11),其被配置成相对于待处理的表面(12)进行平移;表面处理元件(13),其连接到所述框架(11)且被配置成用液体对表面(12)进行处理;储集器(14),其连接到所述框架(11)以通过递送口部(15)将液体提供到所述表面处理元件(13);调整元件(26),其被布置成将从所述储集器(14)供应的所述液体可调整地馈送到所述递送口部(15)。传感器(20)被配置成测量所述机器的操作参数P,例如所述储集器(14)中的剩余液体的液位,或者从所述储集器(14)朝向所述递送口部(15)的所述液体的流动速率,或者所述机器的速度。控制单元(30)通过所述传感器(20)接收与操作参数P成比例的信号且用于响应于操作参数P而调整所述调整元件(26),以便根据流动速率的优化的预定函数f(P)而递送所述液体。随后有可能最大化所述机器的范围,且优化操作者的工作时间。

Description

具有受控递送的表面处理机器
技术领域
本发明涉及具有被配置成以液体对表面进行处理的表面处理元件的类型的表面处理机器。
在此类机器当中包括可为电动或推动的骑乘式类型和后操纵式类型的那些机器,具有呈毛刷、圆盘、衬垫、喷射部件的形式的表面处理元件。
背景技术
存在用于以液体来处理表面的机器,所述机器借助于处理元件而提供液体的施加,其从机器机载的储集器取得液体。
一旦液体用完,操作者通常必须将机器带到补充点,用于再次填充储集器。
在一些情况下,由同一机器例如通过吸力系统从表面收集脏的液体,所述吸力系统通过吸力而向上排出液体到机器机载的收集容器。当储集器排空时收集容器通常也充满了,因为后者是根据储集器的容量而设定大小。
倘若这些表面处理机器必须覆盖宽表面,例如类似于机场、医院、学校、办公室等地方的整夜清洁的情况,这些表面处理机器的操作者常常遇到的问题是除了极粗略近似的情况外并不知道储集器中的残余液体量,且因而不知道在再次进行液体补充之前机器可处理的表面量的范围。
对机器的范围的精确了解是合意的,因为这将允许在处理液体用完之前规划到达最近补充点的最佳处理路线。
在WO2010/099968A2中,描述一种用于清洁表面的机器,其提供用于自动计算机器的范围的系统。所述系统响应于由操作者指示的许多参数而进行物理和运动学量的测量,具体来说机器的平移速度的测量,从中计算清洁的表面与进行清洁所必要的时间之间的比率,所述参数例如毛刷的大小或用于浸泡毛刷的喷嘴的大小。操作者通过知道机器的剩余范围而得到用于完成直到下一补充处的路线的有用信息。
在具有液体处理的表面处理机器中,会发生液体向表面处理元件的递送并不固定,且这不允许通过如空间、时间、速度等物理和运动学量的容易了解来精确计算机器的范围。
举例来说,如果通过重力馈送液体,那么随着储集器逐渐地排空,液体到处理元件的流动速率改变。即使在借助于将较重且昂贵的并非正排量类型的泵来馈送液体的情况下,液体到表面处理元件的流动速率可由于渗漏以及泵对供应压力的灵敏度而改变。随后为了确保有效处理,即足够量的液体对处理表面,操作者调整馈送管道区段的开放值,其方式为在最不利情形中也始终确保足够用于处理的液体量对处理表面。然而,由于流动速率的不稳定,这决定了机器的范围的减少。
此外,改变表面处理机器相对于待处理表面的平移速度,存在供应液体量对处理表面的后续改变,并且这还需要馈送管道区段的调整,以便确保在机器的最大速度的情况下也足够的液体量,结果是减少机器的范围。
在US8551262中,考虑水储集器中的液位,相对于水投予化学清洁剂。液位传感器提供影响馈送化学清洁剂的正排量泵的控制器的液位信号。因此,无论水储集器的液位如何,化学清洁剂在水中的稀释都保持固定。
US2007192973描述了一种表面处理机器,其使用由含有至少两个储集器的系统供应的清洁液体,一个储集器用于稀释流体且另一储集器用于浓缩的化学清洁剂。系统提供液体与所述浓缩化学清洁剂成比例的受控计量以获得具有所需浓度的清洁溶液。
发明内容
本发明的特征是提供一种表面处理机器,其确保关于液体量对处理表面的有效处理且同时最大化机器的范围。
本发明的另一特征是提供此机器,其准许控制液体到表面处理元件的递送对存在于储集器中的液体液位以用于改善机器的范围。
本发明的另一特征是提供关于液体对处理表面以及对机器的平移速度具有相同处理效率的此机器。
本发明的特征还有提供此机器,其使得操作者能够实时确定机器的剩余范围。
这些和其它目的是通过一种表面处理机器来实现,所述机器包括:
-框架,其被配置成相对于待处理的表面进行平移,
-表面处理元件,其连接到所述框架且被配置成用液体对表面进行处理,所述框架相对于所述表面前进,
-储集器,其连接到所述框架且被布置成通过递送口部将液体提供到所述表面处理元件;
-调整元件,其被布置成将从所述储集器供应的所述液体可调整地脉冲馈送到所述递送口部;
-传感器,其被配置成测量所述机器的操作参数P,所述操作参数选自由以下各项组成的群组:所述储集器中的剩余液体的液位P1,与液体的脉冲馈送步骤同时地从储集器朝向递送口部的液体的实际流动速率P2,所述机器相对于所述表面的平移速度P3,或其组合;
-控制单元,其被配置成从所述传感器接收与操作参数P成比例的信号且被配置成响应于操作参数P而设定所述调整元件,以便用根据流动速率的优化的预定函数t%=f(P)确定的工作循环(占空比)t%来脉冲馈送所述液体,所述工作循环表达为脉冲馈送步骤的脉冲的持续时间和两个连续脉冲之间的时间之间的比率,其中所述函数f(P)选自由以下各项组成的群组:
t%=f(P1)=K1*P1 -1/2 (1)
t%=f(P2)=K2*P2 -1 (2)
t%=f(P3)=K3*P3 (3)。
因此,一旦计算出函数f(P),控制单元就自动调整所述调整元件使得其提供响应于操作参数P的改变的液体的量对时间。
在例如操作参数P是存在于储集器中的剩余液体的液位P1的情况下,由于液位影响在储集器的出口区段处由储集器中的剩余液体的不同高差(head)供应的液体量,因此剩余液体的液位越低且以非线性方式分配的液体量越低,但可根据管道的几何形状以及调整元件的特征来确定。因此,函数f(P1)被配置成使所供应液体的量尽可能保持固定,使得消除受到储集器中的液体液位影响的递送的不合意的作用且优化流动速率,从而实现响应于直到到达计划补充点时待处理的剩余空间而最大化机器的范围的目标。换句话说,函数f(P)是以直到补充点时待覆盖的距离或待覆盖的表面进行输入,且被配置成调整流动速率以使得机器实行处理直到此点,从而避免液体的不足。
而在操作参数P是在储集器的出口处液体的流动速率P2的情况下,则函数f(P)被配置成使流动速率尽可能保持恒定,即闭环流动速率反馈中的控制,使得其满足由操作者选择的预定范围,使得流动速率独立于可影响流动速率的外部因素。
始终举例来说,在操作参数P是机器的平移速度的情况下,则确定函数f(P)以使得所供应液体的量对处理表面是恒定的,无论速度如何。因此,在较低速度下,控制单元将设定调整元件以使得实际供应的液体量与处理表面之间的比率对时间满足预定值。
有利的是,如果操作参数P是存在于储集器中的液体液位的测量,那么参数P与存在于储集器中的液体量成比例,且例如是压力值P1,且传感器是与储集器连通的用于确定存在于储集器中的液体液位的压力传感器。
此解决方案允许对储集器中液体的液位的极精确控制。实际上,位于储集器的基底处的压力传感器在过滤掉由于机器的移动带来的可作为噪声而消除的波动之后给出液位的精确值,其由于储集器中的高差液体而可影响流动速率,即流体静压,以便优化流动速率。
替代地,存在于储集器中的液体液位可以用力传感器确定,具体来说是荷重计,其可被布置成保持所述储集器的支撑元件的重量。
替代地,存在于储集器中的液体的液位可以液位传感器确定,具体来说光学传感器或超声波脉冲传感器或浮动传感器,其位于所述储集器中,且被配置成测量液体的液体表面距储集器的底部或顶部壁的距离。
在可能的示例性实施例中,其中参数P是与存在于储集器中的液体的量或液位成比例的值P1,所述调整元件选自由以下各项组成的群组:
-先导阀,其中所述控制单元被配置成通过根据函数f(P1)响应于液位的减小而以增加方式调整所述调整阀的打开时间来用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体;
-泵,其中所述控制单元被配置成通过根据函数f(P1)响应于液位的减小而以增加方式调整所述泵的脉冲馈送速率来用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体。
因此,消除了造成供应到表面处理元件的液体的流动速率对存在于储集器中的液体液位的变化的不合意作用,且根据函数f(P)优化了流动速率。以此方式调整供应液体的量,以便具有理想处理效率而无过量或不足的液体供应,以便最大化机器的范围。
在可能的示例性实施例中,如果操作参数P是供应到递送口部的液体的流动速率的测量,且传感器是流动速率传感器,例如流量计或升计数器,其布置于储集器与递送口部之间的管道的一部分中且提供与流动速率成比例的信号P2,调整元件选自由以下各项组成的群组:
-先导阀,其中所述控制单元被配置成通过根据函数f(P2)在闭环反馈中调整所述调整阀的打开时间来用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体;
-泵,其中所述控制单元被配置成通过根据函数f(P2)在闭环反馈中调整泵的脉冲馈送速率来致使所述泵用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体。
在此情况下,控制单元影响所述调整元件,即阀或泵,使得存在流动速率的连续反馈调整,此处也消除了决定流动速率相对于理想操作参数的不合需要的变化的原因,且优化流动速率,以便实现机器的最大范围。
如果操作参数P是机器的框架相对于待处理的表面的速度P2的测量,那么传感器是被配置成提供与机器的速度成比例的值P3的速度传感器,且所述调整元件选自由以下各项组成的群组:
-先导阀,其中所述控制单元被配置成通过根据函数f(P3)响应于平移速度的增加而以增加方式调整所述调整阀的打开时间来用预定工作循环t%造成所述液体的脉冲馈送;
-泵,其中所述控制单元被配置成通过根据函数f(P3)响应于平移速度的增加而以增加方式调整脉冲馈送速率来致使所述泵用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体。
因此,确保了液体的量对处理表面的递送以用于实现表面的最佳处理,且将流动速率保持在最小必要范围内,以使得获得机器的最大范围。
有利的是,所述框架被配置成借助于若干个轮而相对于待处理的表面进行平移,且被配置成提供与机器的平移速度成比例的值P3的所述传感器是被布置成测量所述轮中的一个的速度的编码器。
替代地,所述框架被配置成由马达操作而相对于待处理的表面进行平移,且被配置成提供与机器的平移速度成比例的值P3的传感器是被配置成测量马达的脉宽调制(PWM)的传感器。
在可能的示例性实施例中,操作参数P是框架的平移速度的测量P3以及存在于储集器中的液体液位的测量P1或者供应到递送口部的液体的流动速率的测量P2的组合,函数f(P)被配置成从由表面的性质和/或由环境条件给定的机器的设定开始最大化机器的范围。在可能的实施例中,响应于参数P3,函数f(P1,P3)被配置成无论机器的速度如何都使液体的量对处理表面保持恒定,而响应于参数P1,函数f(P1,P3)被配置成无论存在于储集器中的剩余液体的液位如何都使液体的量对处理表面保持恒定。
类似地,响应于参数P2,函数f(P1,P2)被配置成通过流动速率的闭环反馈中的控制使液体的量对处理表面保持恒定。
有利的是,控制单元与操作参数以及基于函数f(P)的即时值计算的机器的范围值的显示单元相关联。
因此,使操作者能够在显示单元上看见机器的剩余范围的值对时间,或者待处理的表面,以便确定允许到达补充点而无时间损失或不会覆盖无用路线的最佳路线。
在一实施例中调整元件是先导阀,且储集器相对于递送口部而布置以用于通过阀借助重力将液体递送到表面处理元件。
此解决方案使得有可能最小化制造所述机器的成本,因为不需要用于将液体递送到处理元件的泵,而是简单地利用重力,从而实现避免响应于处理表面而供应的液体的不可控的量的目标。
而且,使操作者能够在显示单元上看见机器的剩余范围值对时间,或待处理的剩余表面,且又设定允许最大化机器范围且最终进行补充而无时间损失或不覆盖无用路线的处理路线。确切地说,操作者可设定机器的范围,使得直到下一补充点时液体的流动速率是恒定的且使用存在于储集器中的所有液体。
附图说明
本发明现参照附图,通过其具有说明性而非限制性的示例性实施例的以下描述进行展示,其中:
-图1示出了根据现有技术的通用表面处理机器的框图;
-图2示出了根据本发明的通用表面处理机器的框图;
-图3示出了本发明的第一示例性实施例的框图;
-图4示出了本发明的第二示例性实施例的框图;
-图5示出了本发明的第三示例性实施例的框图;
-图6示出了本发明的第四示例性实施例的框图。
具体实施方式
如图1中所示,已知图解概略图且被指示为1的表面处理机器包括框架11,所述框架被配置成相对于待处理的表面12进行平移。
在箭头2的方向上的平移可通过把手或通过单独的手柄(未图示)进行推动或者以电动方式通过轮或轨道(未图示)来实行,且所述机器可为骑乘式类型和后操纵式类型。待处理的表面12可为地面,但也可为竖直的,如窗口或竖直墙壁,在竖直导引件上或通过提升平台(未图示)移动。
机器1包括表面处理元件13,所述表面处理元件连接到框架11且被配置成以液体处理表面12,框架11相对于所述表面前进。
大体上指示为块13的表面处理元件可为旋转的毛刷或其它毛刷元件,且可为振动衬垫或其它处理元件,例如喷射液体分配器。可提供马达或其它致动元件13a以用于致动链接到表面处理元件13的连接元件13b,例如旋转轴。
此外,机器1包括储集器14,所述储集器连接到框架11且被布置成通过递送口部15将液体提供到表面处理元件13。随后提供调整元件16,所述调整元件被布置成将从储集器14供应的液体可调整地馈送到递送口部15,且定位于两个分支15a和15b之间,所述分支被布置成用于将液体从储集器14馈送到递送口部15。
储集器14中的处理液体可为水、具有清洁剂的水、纯清洁剂或其它处理液体,例如保护膜、涂层膜等。也可提供化学清洁剂的又一储集器,以在递送之前与水混合(未图示)。
大体上以块16指示的调整元件可为阀或泵。其可简单地为接通/断开装置或可调整的装置,例如可调整的旋塞阀。所述调整元件为脉冲馈送类型,具有预定工作循环t%。
在图1中,还示出了收集元件17,例如与吸力装置相关联的刮片或所谓的“橡胶滚轴”,其当机器1在箭头2的方向上逐渐移动时排放浸透表面12的过剩处理液体18。收集元件17液压地连接到被布置成用于收集剩余液体和可能的尘土的容器19。
在某些型号的机器中也可不存在收集元件17。
如图2中所展示,根据本发明,从图1的表面处理机器1开始,修改表面处理机器10以便包括调整元件26,所述调整元件被布置成将由储集器14供应的液体可调整地馈送到递送口部。调整元件26可例如为电方式的调整阀或具有可调整速度的电动泵,其为根据预定工作循环t%的液体脉冲馈送类型,所述预定工作循环是脉冲馈送步骤的脉冲持续时间和两个连续脉冲之间的时间之间的平均比率。
此外,其包括被配置成测量机器的操作参数P的传感器20,所述操作参数选自由以下各项组成的群组:储集器14中的剩余液体的液位,从储集器14朝向递送口部15的液体流动速率,机器相对于表面12的平移速度,或其组合。此外,其包括控制单元30,所述控制单元被布置成从传感器20接收与操作参数P成比例的信号且被配置成响应于操作参数P而设定调整元件26,以便根据流动速率的优化的预定函数f(P)以工作循环t%脉冲馈送液体以用于最大化机器的范围。
参考图3,操作参数P可为存在于储集器14中的液体液位的测量。在此情况下,传感器是例如相对于存在于储集器14中的液体量的值P1的传感器21。在此情况下,工作循环t%将为
t%=f(P1)=K1*P1 -1/2(1)
即与液位的平方根的倒数成比例。
举例来说,相对于存在于储集器14中的液体量的值P1是压力值,且传感器21是与储集器14的下部部分连通的被布置成提供压力P1的信号的压力传感器。此压力传感器21是与液体表面14a的液位直接相关的流体静压的传感器。
在此情况下,调整元件26选自由以下各项组成的群组:
-先导阀,其中控制单元30被配置成根据函数f(P1)响应于压力P1的减小而以增加方式用具有工作循环t%的所述阀的脉冲馈送方式调整打开区段;
-泵,其中控制单元30被配置成根据函数f(P1)响应于压力P1的减小而以增加方式调整脉冲馈送泵的流动速率。
此函数如上所示可为分析函数,其允许计算用于操作参数P1的每一值的调整参数。或者其可为使调整参数关联到逐渐减小的每一压力P1的值的表,所述调整参数例如先导阀的逐渐增加的打开参数或泵的逐渐增加的转数。
响应于储集器的几何形状,测量液位P1与剩余液体的体积直接相关。这还允许计算剩余液体的体积,并且接着计算机器的范围对体积。此体积值可有利地在机器上显示,作为给操作者的有用信息。由于函数f(P),操作者可随后管理机器的剩余范围。
替代地,传感器21是力传感器,例如荷重计,其例如位于储集器14下方,或被布置成保持储集器14的支撑元件的重量,能够即刻测量储集器的重量,所述重量从等于充满的储集器14的重量值改变到等于空的储集器14的重量值。剩余液体的重量容易地相关于可用作机器的范围值的剩余液体量且相关于液位以用于确定调整参数。随后,一旦从测得的重量确定初始液位,便有可能计算上方指示的公式(1)。
作为进一步替代实施例,传感器20以未图示的方式可以是液位传感器,例如定位于储集器上方或储集器中且被配置成测量液体的液体表面14a距储集器14的上壁的距离的光学传感器、超声波脉冲传感器、电磁、机械浮动传感器。
而且在后两个情况中,响应于储集器的重量的减小或液体表面14a中的液位,呈分析形式(1)或被实施为表的函数f(P1),其提供用于液体的每一流动速率值的调整参数的增加值,所述调整参数即脉冲馈送步骤的工作循环。此流动速率值也可称为比流动速率,即为由机器覆盖的每一表面单元供应的液体的体积。
在图4的示例性实施例中,操作参数P是供应到递送口部15的液体的流动速率的直接测量,且传感器是流动速率传感器22,例如流量计,其布置于储集器14到递送口部15之间的管道的一部分中,且提供与流动速率成比例的信号P2,且调整元件26选自由以下各项组成的群组:
-先导阀,其中控制单元30被配置成根据函数f(P2)以预定工作循环t%在液体脉冲馈送类型的闭环反馈中调整阀的打开区段;
-泵,其中控制单元30被配置成根据函数f(P2)在闭环反馈中以预定工作循环t%调整液体脉冲馈送类型的泵26的速度。
函数f(P2)可表达为:
t%=f(P2)=K2*P2 -1(2)
其中流动速率P2是在馈送脉冲期间的流动速率。
换句话说,脉冲馈送速率被实施为一连串的其中存在可测量流动速率的时刻以及其中流动速率静止、即大体上等同于零的时刻,且值P2是当存在递送时从流动速率传感器22确定的流动速率,且递送脉冲的持续时间相对于两个脉冲之间的时间越长,在馈送脉冲期间的瞬时流动速率越低。
因此,如果例如储集器中的液位减小,那么由于流体静压,瞬时流动速率也减小,并且接着脉冲馈送类型的阀或泵的工作循环增加。
随后,控制单元30在存储器中具有流动速率阈值,从流动速率传感器22接收实际流动速率信号,随后将所述信号与流动速率阈值进行比较,且如果实际流动速率信号较低,那么其提供调整参数,例如先导阀或脉冲馈送泵的增加的工作循环。
如图5中所示,操作参数P可替代地为与框架11相对于待处理的表面12的平移速度成比例的值P3。在此情况下,传感器是被配置成提供与速度成比例的值P3的速度传感器23,调整元件26可选自由以下各项组成的群组:
-先导阀,其中控制单元30被配置成根据函数f(P3)响应于速度的增加而以增加方式调整具有预定工作循环t%的液体脉冲馈送类型阀的打开区段;
-具有预定工作循环t%的脉冲馈送泵,其中控制单元30被配置成根据函数f(P3)响应于速度的增加而以增加方式调整脉冲馈送泵的工作循环,
其中函数f(P3)可表达为:
t%=f(P3)=K3*P3(3)
在此实施例中,框架11被配置成借助于若干个轮40而相对于待处理表面12进行平移,且被配置成提供与机器的平移速度成比例的值P3的传感器23可为被布置成测量一个轮40的速度的编码器。
举例来说,速度越高,呈表或分析函数形式的函数f(P3)提供调整参数的增加值,以便保持供应液体的量对处理表面恒定。
可通过推动或以电动方式来实行所述平移。在一个轮40上具有编码器23的此解决方案即使通过推动进行平移情况下也精确地调整处理液体的递送,通过推动进行平移可能尤其不规则,因为相对于受驱动的平移,操作者可以较困难方式保持速度的恒定值。
在受驱动平移的情况下,如图6中概略地示出,框架11被配置成由马达50操作而相对于待处理的表面12进行平移。替代于图5描述的编码器,传感器在图6的情况下可为电流分析传感器24,其被布置成测量马达50的脉宽调制(PWM)作为与速度成比例的参数P3。即使在此情况下,驱动电流越高,呈表或分析函数形式的函数f(P3)提供调整参数的增加值,以便保持供应液体的量对处理表面恒定。
操作参数P也可为框架11的平移速度的测量P3和存在于储集器14中的液体液位的测量P1或供应到递送口部15的液体的流动速率的测量P2的组合。在此情况下,从由表面的性质和/或由环境条件给定的机器的设定开始,函数f(P)可响应于机器范围的最大化。
根据图中未图示的又一示例性实施例,控制单元30可与操作参数以及基于函数f(P)的即时值而计算的机器的范围值的显示单元相关联。
图2的调整元件26可为阀,例如先导阀,且储集器14相对于递送口部15布置以用于通过调整阀26借助重力将液体递送到表面处理元件13。在此情况下,液位或流动速率的控制是必要的以确保恒定的供应液体的量,因为借助重力的馈送受到水储集器中的液位变化的极端影响。
确切地说,操作者可设定机器的范围值,使得直到下一补充时液体的流动速率是恒定的且使用存在于储集器中的所有液体。
具体示例性实施例的前述描述根据概念性观点如此充分地公开了本发明,以便其他人通过应用当前的知识而能够在不进一步研究且不偏离本发明的情况下修改和/或适应这些具体示例性实施例的不同应用,且相应地,因此理解这类适应和修改须被视为等效于具体实施例。因此,实现本文所述的不同功能的方式和材料可以具有不背离本发明领域的不同性质。应了解,本文中所采用的措词或术语是出于描述而非限制的目的。

Claims (10)

1.一种表面处理机器(10),包括:
框架(11),其被配置成相对于待处理的表面(12)进行平移,
表面处理元件(13),其连接到所述框架(11)且被配置成用液体对表面(12)进行处理,所述框架(11)相对于所述表面(12)前进,
储集器(14),其连接到所述框架(11)且被布置成通过递送口部(15)将液体提供到所述表面处理元件(13);
调整元件(26),其被布置成将从所述储集器(14)提供的所述液体可调整地脉冲馈送到所述递送口部(15);
其特征在于所述表面处理机器进一步包括:
传感器(20),其被配置成测量所述机器的操作参数P,所述操作参数选自由以下各项组成的群组:所述储集器(14)中剩余的液体液位P1,与脉冲同时地从所述储集器(14)朝向所述递送口部(15)的所述液体的实际流动速率P2,所述机器相对于所述表面(12)的速度P3,或其组合;
控制单元(30),其被布置成从所述传感器(20)接收与所述操作参数P成比例的信号且被配置成响应于所述操作参数P而调整所述调整元件(26),以便用根据所述流动速率的优化的预定函数t%=f(P)确定的工作循环t%来脉冲馈送所述液体,所述工作循环表达为脉冲馈送步骤的脉冲的持续时间和两个连续脉冲之间的时间之间的比率,其中所述函数f(P)选自由以下各项组成的群组:
t%=f(P1)=K1*P1 -1/2 (1)
t%=f(P2)=K2*P2 -1 (2)
t%=f(P3)=K3*P3 (3)
2.根据权利要求1所述的表面处理机器,其中所述操作参数P是存在于所述储集器(14)中的液体液位的测量,且所述传感器(20)是与存在于所述储集器(14)中的所述液体液位成比例的值P1的传感器,且所述函数f(P)是基于所述值P1计算的所述流动速率的优化的函数f(P1),所述传感器选自由以下各项组成的组:
压力传感器(21),其与所述储集器(14)连通且被布置成由于从所述储集器(14)的液体表面开始的液体高差而提供压力信号;
力传感器(21),具体来说是荷重计,其能够被布置成保持所述储集器(14)的支撑元件的重量;
液位传感器,具体来说是光学传感器或超声波脉冲传感器或浮动传感器,其位于所述储集器中,且被配置成测量所述液体的所述液体表面(14a)距所述储集器(14)的底部壁或顶部壁的距离。
3.根据权利要求2所述的表面处理机器,其中所述调整元件(26)选自由以下各项组成的群组:
先导阀,其中所述控制单元(30)被配置成通过根据所述函数f(P1)响应于所述液体液位P1的减小而以增加方式调整打开所述阀的时间来用预定工作循环t%以所述阀的脉冲馈送方式调整打开区段;
可调整泵,其中所述控制单元(30)被配置成通过根据所述函数f(P1)响应于所述液体液位P1的减小而以增加方式调整所述泵的脉冲馈送速率来致使所述泵用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体。
4.根据权利要求1所述的表面处理机器,其中所述操作参数P是到达所述递送口部(15)的液体的流动速率P2的测量,且所述传感器(20)是流动速率传感器(22),具体来说是流量计或升计数器,其定位于所述储集器(14)到所述递送口部(15)之间且被配置成提供与所述流动速率成比例的信号P2,所述函数f(P)是基于所述值P2计算的所述流动速率的优化的函数f(P2),且所述调整元件(26)选自由以下各项组成的群组:
先导阀,其被配置成用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体,其中所述控制单元(30)被配置成根据所述函数f(P2)调整所述工作循环t%;
可调整泵,其被配置成用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体,其中所述控制单元(30)被配置成根据所述函数f(P2)调整所述泵的脉冲馈送速率。
5.根据权利要求1所述的表面处理机器,其中所述操作参数P是所述框架(11)相对于待处理的所述表面(12)的平移速度的测量,其中所述传感器(20)是被配置成提供与所述速度成比例的值P3的速度传感器(23),且所述函数f(P)是基于所述值P3计算的所述流动速率的优化的函数f(P3),所述调整元件(26)选自由以下各项组成的群组:
先导阀,其中所述控制单元(30)被配置成通过根据所述函数f(P3)以响应于所述速度的增加而增加的工作循环t%调整打开所述阀来用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体;
可调整泵,其中所述控制单元(30)被配置成用预定工作循环t%脉冲馈送所述液体,其中所述控制单元(30)被配置成根据所述函数f(P3)响应于所述速度的增加而以增加方式调整脉冲馈送速率。
6.根据权利要求5所述的表面处理机器,其中所述框架(11)被配置成借助于轮(40)相对于待处理的所述表面(12)进行平移,且被配置成提供与所述机器的速度成比例的值P3的所述传感器(23)是被布置成测量所述轮(40)中的一个的速度的编码器(24)。
7.根据权利要求5所述的表面处理机器,其中所述框架(11)被配置成由马达(50)操作而相对于待处理的所述表面(12)进行平移,且被配置成提供与所述机器的速度成比例的值P3的所述传感器(24)是被配置成测量所述马达(50)的脉宽调制即PWM的传感器。
8.根据权利要求2、4或5所述的表面处理机器,其中所述操作参数P是所述框架(11)的所述平移速度的测量P3以及存在于所述储集器(14)中的所述液体液位的测量P1或到达所述递送口部(15)的液体的所述流动速率的测量P2的组合,所述函数f(P)被配置成从由所述表面的性质和/或由环境条件给定的所述机器的设定开始最大化所述机器的所述机器的范围,所述机器的所述范围被计算为在所述储集器中的液体的补充之前所述机器能够处理的剩余时间或剩余表面。
9.根据权利要求1所述的表面处理机器,其中所述控制单元(30)与所述操作参数以及基于所述函数f(P)的即时值计算的所述机器的范围值的显示单元(60)相关联,所述机器的所述范围被计算为在所述储集器中的液体的补充之前所述机器能够处理的剩余时间或剩余表面。
10.一种表面处理的方法(10),包括以下步骤:
使表面处理机器相对于待处理的表面(12)进行平移,所述机器具有连接到框架(11)的表面处理元件(13);
在所述表面处理元件(13)处馈送处理液体,使得所述表面处理元件(13)在所述平移期间用所述液体处理所述表面(12);
所述处理液体从连接到所述框架(11)的储集器(14)被抽吸,以便通过递送口部(15)将所述液体提供到所述表面处理元件(13);
调整(26)从所述储集器(14)提供的液体向所述递送口部(15)的所述递送;
其特征在于所述方法进一步包括:
通过传感器(20)测量所述机器的操作参数P,所述操作参数选自由以下各项组成的群组:所述储集器(14)中的剩余液体的液位P1,从所述储集器(14)朝向所述递送口部(15)的所述液体的实际流动速率P2,所述机器相对于所述表面(12)的速度P3,或其组合;
其中所述调整(30)是基于与所述操作参数P成比例的信号以及响应于所述操作参数P的所述调整元件(26)而实行,以便用根据所述流动速率的优化的预定函数t%=f(P)确定的工作循环t%来脉冲馈送所述液体,所述工作循环表达为脉冲馈送步骤的脉冲的持续时间和两个连续脉冲之间的时间之间的比率,其中所述函数f(P)选自由以下各项组成的群组:
t%=f(P1)=K1*P1 -1/2 (1)
t%=f(P2)=K2*P2 -1 (2)
t%=f(P3)=K3*P3 (3)。
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