CN108134207A - 常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及FSS天线罩制作技术领域,具体公开一种常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法。制作方法包括步骤:S1、通过三维建模软件对三维掩膜壳体进行三维建模;S2、输入3D打印设备中成型;S3、将成型的三维掩膜壳体附于基底介质壳体上,使两层壳体紧密贴合,在未被三维掩膜壳体遮挡的基底介质壳体表面制备金属膜层,形成金属贴片图形阵列;S4、将三维掩膜壳体取下,对基底介质壳体进行清洗、干燥。本发明的制作方法可以更加方便快捷地制作常规贴片型曲面FSS阵列。

Description

常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法
技术领域
本发明涉及FSS天线罩制作技术领域,特别涉及一种常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法。
背景技术
频率选择表面(Frequency Selective Surfaces,简称FSS)是由周期排列的金属图形单元构成的新型人工电磁材料,它具有空间滤波的功能,最重要的应用领域是FSS天线罩。FSS天线罩能够对己方雷达工作频段透明,而对敌方探测雷达频段屏蔽,是武器装备雷达导引头舱对雷达隐身的首选技术途径。以美国为首的各军事强国已将该项技术应用于隐身战机、导弹和舰船上,但对核心技术均严格保密。而国内目前的应用则寥寥无几,复杂曲面FSS衬罩加工难是制约其工程应用的主要瓶颈,曲面FSS阵列制作尤为困难。
曲面FSS阵列壳体是FSS天线罩的重要组成部分,与介质基底罩随形复合在一起,其图形单元及排布的精度对FSS天线罩谐振频率、带宽等关键指标影响很大。对于简单直锥外形天线罩,采用柔性膜转移法即可获得曲面FSS阵列,即采用平面工艺在柔性薄膜上制作FSS阵列,再将其贴覆在曲面介质上。然而对于大多数不可展开成平面的天线罩外形如球形、椭球形及其它异形结构而言,这种方法则意味着更多的分片和褶皱,进而导致电性能劣化。研究者们还尝试了柔性膜热塑成型反贴法、机器人数字化加工法等,但效果均不理想,存在精度低、效率低及可靠性差等问题。
CN103395205B中公开了一种立体打印技术制作曲面频率选择表面的方法。该方法将曲面FSS模型输入到立体打印机,以非金属材料为打印材料进行快速成型,然后将表面进行金属化得到曲面FSS阵列壳体。该方法在形成曲面FSS图形阵列时具有直接、快捷的优势,但只能够制作简单的开孔单元阵列,无法制作贴片型FSS曲面单元阵列。
发明内容
本发明旨在克服现有技术的缺陷,提供一种新的曲面频率选择表面阵列的制作方法。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一方面,本发明提供常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法,所述制作方法包括步骤:
S1、通过三维建模软件对三维掩膜壳体进行三维建模,所述三维掩膜壳体与基底介质壳体的外形轮廓满足共形条件,得到三维掩膜壳体模型;
S2、将所述三维掩膜壳体模型输入3D打印设备中成型,得到三维掩膜壳体;
S3、将所述三维掩膜壳体附于基底介质壳体上,使两层壳体紧密贴合,在未被三维掩膜壳体遮挡的基底介质壳体表面制备金属膜层,形成金属贴片图形阵列;
S4、将三维掩膜壳体取下,对基底介质壳体进行清洗、干燥,得到所述常规贴片型曲面频率选择表面阵列。
优选的,所述步骤S1中,所述三维掩膜壳体为排布着镂空图形阵列的介质壳体;所述基底介质壳体的厚度为0.5mm~40mm;所述三维掩膜壳体的厚度为0.2mm~10mm。
优选的,所述步骤S2还包括:对所述三维掩膜壳体进行后续加工处理,所述后续加工处理包括对所述三维掩膜壳体的内表面进行打磨。
优选的,将所述三维掩膜壳体模型输入3D打印设备中成型的方法包括熔融堆积成型、紫外光固化成型、喷射成型、激光选区熔融或激光选区烧结。
优选的,所述成型的三维掩膜壳体的材料选自环氧类光敏树脂、环氧类光敏树脂改性材料、丙烯酸类光敏树脂、丙烯酸类光敏树脂改性材料、尼龙、尼龙改性材料、聚醚醚酮或聚醚醚酮改性材料、ABS树脂、聚碳酸酯、橡胶类材料或金属中的至少一种。
优选的,所述步骤S3中制备金属膜层采用的金属选自Cu、Al、Au、Ag、Ni或Pt中的至少一种。
优选的,所述步骤S3中制备金属膜层的方法包括真空镀膜、喷涂或刷涂金属浆料。
优选的,所述常规贴片型曲面频率选择表面阵列为Y贴片型、十字贴片型、圆贴片型、方贴片型或六边形贴片型。
本发明的有益效果在于:本发明的常规贴片型曲面FSS阵列制作方法与现有技术中,通过柔性膜转移、激光刻蚀等方法制作曲面FSS阵列相比,曲面FSS阵列加工不再受限于外形的复杂程度,可以制作任意复杂外形的曲面FSS阵列;FSS图形单元的选择也不再受限于开孔单元,可以制作常规贴片单元阵列。
附图说明
图1为常规贴片单元FSS壳体示意图。
图2为制作贴片单元的三维掩膜壳体示意图。
图3为常规贴片单元FSS壳体加工流程图。
1—基底介质壳体;2—十字贴片单元;3—三维掩膜壳体;
4—真空溅射镀膜;5—金属铜膜。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,而不构成对本发明的限制。
本发明提供一种基于3D打印技术制作常规贴片型曲面FSS阵列的方法,即采用3D打印工艺方法成型与曲面基底介质壳体外表面共形的三维掩膜壳体,然后采用镀膜、喷涂或蚀刻等工艺在曲面介质壳体上形成周期排布的常规贴片型FSS图形阵列,具体步骤如下:
(1)以UG、AutoCAD、Solidworks等软件对三维掩膜壳体进行三维建模,三维掩膜壳体上按周期排布着镂空图形阵列,这些图形可以是Y孔、十字孔、圆孔、方孔、六边形孔等。如要做圆贴片FSS阵列,就制备对应的圆孔掩膜壳体,三维掩膜壳体的厚度优选为0.2~10mm。
(2)将所建立的三维掩膜壳体模型输入3D打印设备进行成型。打印材料有多种选择,如各种环氧类和丙烯酸类光敏树脂、尼龙、聚醚醚酮(PEEK)及其改性材料、ABS树脂、PC、橡胶类材料以及金属粉末等材料。采用的3D打印工艺可以是熔融堆积成型(FDM),紫外光固化成型(SLA、DLP)、喷射成型(Polyjet)、激光选区熔融(SLM)、激光选区烧结(SLS)等。
(3)优选的实施方式中,针对成型的三维掩膜壳体的内表面进行适度的后续加工,包括但不限于对三维掩膜壳体内表面进行打磨以降低粗糙度,有利于三维掩膜壳体和基底介质壳体之间的覆形。
(4)将三维掩膜壳体套在基底介质壳体外面,进行调整使两层壳体紧密贴合,然后采用真空镀膜、喷涂等工艺在未被掩膜遮挡的基底介质壳体表面制备金属膜层,形成金属贴片图形阵列;优选的实施方式中,金属膜层的厚度为2um~18um;可选用的金属材料选自Cu、Al、Au、Ag、Ni或Pt等中的至少一种。
本发明实施例中,与三维掩膜壳体进行贴合的基底介质壳体同样也可以通过三维建模,立体打印成型的方式获得,但也可以采用模压法或真空袋热压法等方式获得复合材料基底介质壳体。
(5)将三维掩膜壳体取下,优选的实施方式中,对基底介质壳体进行清洗烘干等后续处理步骤,即完成常规贴片型曲面FSS阵列的制作。
本发明的制作方法解决了现有技术通过立体打印技术只能制作开孔型曲面FSS阵列的技术问题,能够方便快捷地制作出常规贴片型曲面FSS阵列,而且能够制作出各种形状的常规贴片型曲面FSS阵列,包括但不限于Y贴片型、十字贴片型、圆贴片型、方贴片型或六边形贴片型等。
下面结合具体实施例予以详细描述。
实施例1
本实施例在基底介质壳体上形成十字贴片型曲面FSS阵列,如附图1所示,在基底介质壳体1上制备十字金属贴片单元2排布的阵列,主要工艺流程如图2所示,包括以下步骤:
(1)用Solidworks软件对三维掩膜壳体3进行建模,三维掩膜壳体3上分布着镂空十字孔,该十字孔尺寸与最终形成的十字贴片单元2的尺寸一致,三维掩膜壳体3与基底介质壳体1的外表面覆形,本实施例中三维掩膜壳体3的厚度为0.5mm;
(2)以光敏树脂为原材料,采用立体光固化(SLA)工艺打印模型。将模型输入SLA打印设备,设置适当的摆放角度和支撑结构,进行模型的逐层切片、逐层成型;去除支撑材料并清洗烘干;对模型进行表面打磨等后续处理得到成型的三维掩膜壳体3;
(3)将三维掩膜壳体3附于基底介质壳体1外表面,通过调整使两层壳体紧密贴合并固定;
(7)将上述步骤中的组合壳体放置于真空镀膜设备中,采用真空溅射镀膜4工艺在组合壳体表面镀制金属铜膜5,所镀制的金属铜膜5的膜层厚度控制在6um左右;
(8)将三维掩膜壳体3取下,经过清洗烘干等后续处理,基底介质壳体1上的十字金属贴片阵列制作完成,得到相应的十字贴片型曲面FSS阵列。
除实施例1中制作得到十字贴片型曲面FSS阵列外,通过本发明的制作方法还能简单快捷地制作出Y贴片型、圆贴片型、方贴片型或六边形贴片型等各种常规贴片型曲面FSS阵列。
以上所述本发明的具体实施方式,并不构成对本发明保护范围的限定。任何根据本发明的技术构思所作出的各种其他相应的改变与变形,均应包含在本发明权利要求的保护范围内。

Claims (8)

1.一种常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括步骤:
S1、通过三维建模软件对三维掩膜壳体进行三维建模,所述三维掩膜壳体与基底介质壳体的外形轮廓满足共形条件,得到三维掩膜壳体模型;
S2、将所述三维掩膜壳体模型输入3D打印设备中成型,得到三维掩膜壳体;
S3、将所述三维掩膜壳体附于基底介质壳体上,使两层壳体紧密贴合,在未被三维掩膜壳体遮挡的基底介质壳体表面制备金属膜层,形成金属贴片图形阵列;
S4、将三维掩膜壳体取下,对基底介质壳体进行清洗、干燥,得到所述常规贴片型曲面频率选择表面阵列。
2.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述三维掩膜壳体为排布着镂空图形阵列的介质壳体;所述基底介质壳体的厚度为0.5mm~40mm;所述三维掩膜壳体的厚度为0.2mm~10mm。
3.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S2还包括:对所述三维掩膜壳体进行后续加工处理,所述后续加工处理包括对所述三维掩膜壳体的内表面进行打磨。
4.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,将所述三维掩膜壳体模型分别输入3D打印设备中成型的方法包括熔融堆积成型、紫外光固化成型、喷射成型、激光选区熔融或激光选区烧结。
5.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述成型的三维掩膜壳体的材料选自环氧类光敏树脂、环氧类光敏树脂改性材料、丙烯酸类光敏树脂、丙烯酸类光敏树脂改性材料、尼龙、尼龙改性材料、聚醚醚酮或聚醚醚酮改性材料、ABS树脂、聚碳酸酯、橡胶类材料或金属中的至少一种。
6.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S3中制备金属膜层采用的金属选自Cu、Al、Au、Ag、Ni或Pt中的至少一种。
7.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S3中制备金属膜层的方法包括真空镀膜、喷涂或刷涂金属浆料。
8.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述常规贴片型曲面频率选择表面阵列为Y贴片型、十字贴片型、圆贴片型、方贴片型或六边形贴片型。
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