CN108118310B

CN108118310B - 一种五管pecvd设备的真空排气系统

Info

Publication number: CN108118310B
Application number: CN201711385245.0A
Authority: CN
Inventors: 王锦
Original assignee: Hunan Red Sun Photoelectricity Science and Technology Co Ltd
Current assignee: Hunan Red Sun Photoelectricity Science and Technology Co Ltd
Priority date: 2017-12-20
Filing date: 2017-12-20
Publication date: 2020-02-07
Anticipated expiration: 2037-12-20
Also published as: CN108118310A

Abstract

本发明公开了一种五管PECVD设备的真空排气系统，包括真空管道组件和排气组件，真空管道组件包括五根真空管道，真空管道一端与五管PECVD设备的反应室的反应室连接管道相连，另一端与外部真空泵相连，排气组件包括五根排气管道，每根排气管道通过连接接头与反应室连接管道，排气管道上设有串联的单向阀和控制阀，单向阀用于使气体从反应室连接管道通入排气管道，控制阀用于控制排气管道的通断。本发明中当通入氮气过多导致反应室压力超过常压时，氮气通过排气管道输出，与外部的排气系统汇合后排出，当泵发生故障时，反应室内和真空管道内的气体也可以通过排气组件排出，单向阀可避免了外界空气流向反应室。

Description

一种五管PECVD设备的真空排气系统

技术领域

本发明涉及光伏制造领域中的五管PECVD设备，尤其涉及一种五管PECVD设备的真空排气系统。

背景技术

PECVD(全称等离子体增强化学气相淀积)设备是光伏制造领域必不可少的装备，近年来，随着我国光伏产业的迅猛发展，对装备的需求和技术要求也越来越高，设备大型化，反应室大口径成为趋势，现在开发的五管PECVD设备反应室口径相比四管PECVD设备反应室口径更大，放入的石墨舟硅片更多达到了416片。由于现有的PECVD设备真空管道设计时都没有设计加入排气系统，因此当PECVD设备工艺完成后需要取出反应室中的石墨舟时，如果冲入氮气过多导致反应室压力超过常压，就会产生硅片掉片，炉口密封圈温度过高使用寿命降低的问题；同时，当用于反应室抽真空用的泵发生故障时还会出现反应室和内部管道内工艺气体难以排出的问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种可保证反应室内压力为常压的五管PECVD设备的真空排气系统。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种五管PECVD设备的真空排气系统，包括真空管道组件和排气组件，所述真空管道组件包括五根真空管道，所述真空管道一端与五管PECVD设备的反应室的反应室连接管道相连，另一端与外部真空泵相连，所述排气组件包括五根排气管道，每根排气管道通过连接接头与反应室连接管道，所述排气管道上设有串联的单向阀和控制阀，所述单向阀用于使气体从反应室连接管道通入排气管道，所述控制阀用于控制排气管道的通断。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述排气组件还包括分气接头，所述分气接头包括一个出气口和五个进气口，所述五根排气管道的出口分别与五个进气口对应连接。

所述连接接头为VCR接头。

所述控制阀为常开气动隔膜阀。

所述排气管道为不锈钢抛光管。

与现有技术相比，本发明的优点在于：

本发明的五管PECVD设备的真空排气系统，在反应室连接管道上设置带单向阀和控制阀排气管道，单向阀只允许气体从内部管道和反应室向排气管焊件流动，控制阀控制排气管道的打开与关闭；当通入氮气过多导致反应室压力超过常压时，氮气通过排气管道输出，与外部的排气系统汇合后排出，当泵发生故障时，反应室内和真空管道内的气体也可以通过排气组件排出；设置单向阀，气体不能实现相反的流动，避免了外界空气流向反应室的可能。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明中排气组件的结构示意图。

图3是本发明中分气接头的结构示意图。

图中各标号表示：

100、真空管道组件；110、真空管道；200、排气组件；210、排气管道；220、分气接头；221、出气口；222、进气口；300、反应室连接管道；400、连接接头；500、单向阀；600、控制阀。

具体实施方式

以下结合说明书附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。

如图1至图3所示，本实施例的五管PECVD设备的真空排气系统，包括真空管道组件100和排气组件200，真空管道组件100包括五根真空管道110，真空管道110一端与五管PECVD设备的反应室(图中未示出)的反应室连接管道300相连，另一端与外部真空泵(图中未示出)相连，排气组件200包括五根排气管道210，每根排气管道210通过连接接头400与反应室连接管道300，排气管道210上设有串联的单向阀500和控制阀600，单向阀500用于使气体从反应室连接管道300通入排气管道210，控制阀600用于控制排气管道210的通断。

五管PECVD设备主要包括净化台、炉体柜和源柜三部分，本实施例中，真空管道组件100和反应室连接管道300均设于五管PECVD设备源柜(图中未示出)内。真空管道组件100与反应室连接管道300连接，通过外部真空泵控制炉体柜反应室内的气压。在反应室连接管道300上设置带单向阀500和控制阀600排气管道210，单向阀500只允许气体从内部管道和反应室向排气管焊件流动，控制阀600控制排气管道210的打开与关闭。本发明通过设置排气组件200，当通入氮气过多导致反应室压力超过常压时，氮气通过排气管道210输出，与外部的排气系统(图中未示出)汇合后排出，当泵发生故障时，反应室内和真空管道110内的气体也可以通过排气组件200排出。设置单向阀500，气体不能实现相反的流动，避免了外界空气流向反应室的可能。

即在打开炉门前保持反应室压力为常压，同时当泵出现故障时，反应室和内部管道内的工艺气体可以顺利排出。

本实施例中，排气组件200还包括分气接头220，分气接头220包括一个出气口221和五个进气口222，五根排气管道210的出口分别与五个进气口222对应连接。分气接头220用于将五根排气管道210的出口进行汇总，最后与外部的排气系统的管路(图中未示出)汇合，排出气体，可以同时实现对五管反应室以及内部真空管道的排气作用。

本实施例中，连接接头400为VCR接头，即金属密封接头。该VCR接头具有密封性好的特点，从而可以保证反应室连接管道300与排气管道210之间的密封性，避免了工艺气体的泄露可能。控制阀600为常开气动隔膜阀。该阀通过PLC控制电磁阀来进行开合，当反应室压力超过常压时即可实现排出气体的功能。排气管道210为不锈钢抛光管。

本实施例中，为了方便管道与阀之间连接，统一了管道与阀之间的尺寸：VCR接头为1/2英寸VCR接头，单向阀500为1/2英寸单向阀，常开气动隔膜阀为1/2英寸常开气动隔膜阀，排气管道210为1/2英寸不锈钢抛光管。

本发明的关键点是使用单向阀和气动隔膜阀实现反应室和内部管道压力异常时气体的单向排出，所以其他的采用此种方法的都是可替代本发明的技术方案，比如说采用其他可实现单向流动的气动元器件以及阀门实现气体排出。总之，只要是采用本发明中这种使用气动元器件或者电动元器件进行单向排气的，都在本发明的保护范围之内。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围的情况下，都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均应落在本发明技术方案保护的范围内。

Claims

1.一种五管PECVD设备的真空排气系统，其特征在于：包括真空管道组件（100）和排气组件（200），所述真空管道组件（100）包括五根真空管道（110），所述真空管道（110）一端与五管PECVD设备的反应室的反应室连接管道（300）相连，另一端与外部真空泵相连，所述排气组件（200）包括五根排气管道（210），每根排气管道（210）通过连接接头（400）与反应室连接管道（300），所述排气管道（210）上设有串联的单向阀（500）和控制阀（600），所述单向阀（500）用于使气体从反应室连接管道（300）通入排气管道（210），所述控制阀（600）用于控制排气管道（210）的通断，所述控制阀（600）为常开气动隔膜阀。

2.根据权利要求1所述的五管PECVD设备的真空排气系统，其特征在于：所述排气组件（200）还包括分气接头（220），所述分气接头（220）包括一个出气口（221）和五个进气口（222），所述五根排气管道（210）的出口分别与五个进气口（222）对应连接。

3.根据权利要求1或2所述的五管PECVD设备的真空排气系统，其特征在于：所述连接接头（400）为VCR接头。

4.根据权利要求1或2所述的五管PECVD设备的真空排气系统，其特征在于：所述排气管道（210）为不锈钢抛光管。