CN108103523A - Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物 - Google Patents

Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物 Download PDF

Info

Publication number
CN108103523A
CN108103523A CN201711288294.2A CN201711288294A CN108103523A CN 108103523 A CN108103523 A CN 108103523A CN 201711288294 A CN201711288294 A CN 201711288294A CN 108103523 A CN108103523 A CN 108103523A
Authority
CN
China
Prior art keywords
salen
preparation
electrode
complexs
concentration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201711288294.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108103523B (zh
Inventor
刘传银
姚继平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hubei teteng New Material Technology Co.,Ltd.
Original Assignee
Hubei University of Arts and Science
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hubei University of Arts and Science filed Critical Hubei University of Arts and Science
Priority to CN201711288294.2A priority Critical patent/CN108103523B/zh
Publication of CN108103523A publication Critical patent/CN108103523A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108103523B publication Critical patent/CN108103523B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
    • C25B3/01—Products
    • C25B3/13—Organo-metallic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

Ni‑Salen配合物的制备方法及Ni‑Salen配合物，属于Ni‑Salen制备技术领域。于电极表面电沉积铁氰化镍配合物后修饰Salen配体，于碱液中电活化。其采用电极直接电化学合成Ni‑Salen配合物，步骤简单，操作方便。

Description

Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物
技术领域
本发明涉及Ni-Salen制备技术领域，具体而言，涉及一种Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物。
背景技术
Salen是N，N'-bis-(salicylaldehyde)ethylene-diamine化合物的缩写，Salen配体是在这种四齿配体希夫碱的基础上发展起来的。Salen配合物的氮原子、氧原子与金属离子配位的结构，与生物环境比较接近，在分子识别领域引起人们的广泛兴趣。作为不对称催化剂Salen配合物以其结构简单、种类多样化、合成路线简单、催化剂易于回收利用等优点，越来越受到科学家的青睐，被广泛应用于各类反应。随着新型Salen衍生物及其金属配合物的不断被合成出来，Salen型配合物的功能材料性质如非线性光学、电化学性质及磁性质也引起了人们的极大兴趣。四配位的Salen型金属配合物在配位化学领域一直扮演着重要的角色，且其在其他领域，如不对称催化、模拟生物酶等方面也有着广泛的研究与应用。
但是，现有技术中，四配位的Salen型金属配合物的合成通常采用Salen配体与金属离子溶液在反应釜中，通过溶液反应制得。合成时需要搭建反应体系，比较麻烦；而且需要进行控温、搅拌、产物后分离等步骤。
发明内容
本发明的目的在于提供一种Ni-Salen配合物的制备方法，其采用电极直接电化学合成Ni-Salen配合物，步骤简单，操作方便。
本发明的另一目的在于提供一种Ni-Salen配合物，其通过电极直接电化学合成得到，制备步骤简单，操作方便。
本发明的实施例是这样实现的：
一种Ni-Salen配合物的制备方法，其包括：于电极表面电沉积铁氰化镍配合物后修饰Salen配体，于碱液中电活化。
一种Ni-Salen配合物，根据上述Ni-Salen配合物的制备方法制得。
本发明实施例的有益效果是：
本发明提供的Ni-Salen配合物的制备方法，采用电极直接电化学合成Ni-Salen配合物，提出了一种新的Ni-Salen配合物的制备方法。同时该制备方法只需要进行电沉积及表面修饰操作，无需进行搭建体系、控温、搅拌、分离等操作，步骤简单，操作方便。
本发明提供的Ni-Salen配合物，通过上述的电化学合成方法制得，制备步骤简单，操作方便。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为裸玻碳电极和试验例1中修饰电极在含铁氰化钾的氯化钾溶液中的循环伏安图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线；
图2为裸玻碳电极和试验例1中修饰电极在含铁氰化钾的氯化钾溶液中的交流阻抗图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线；
图3为裸玻碳电极和试验例1中修饰电极在氢氧化钠溶液中的循环伏安图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线；
图4为裸玻碳电极和试验例2中修饰电极在氢氧化钠溶液中的循环伏安图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例2的曲线；
图5为裸玻碳电极和试验例3中修饰电极在含铁氰化钾的氯化钾溶液中的循环伏安图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线；
图6为裸玻碳电极和试验例3中修饰电极在含铁氰化钾的氯化钾溶液中的交流阻抗图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线；
图7为试验例4中修饰电极在氢氧化钠溶液中的循环伏安图；
图8为试验例5中修饰电极在氢氧化钠溶液中的多圈循环伏安图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
下面对本发明实施例的Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物进行具体说明。
本发明提供一种Ni-Salen配合物的制备方法，在裸电极表面电沉积铁氰化镍后修饰Salen配体，再将修饰后的电极于碱液中电化学活化，得到Ni-Salen配合物修饰的电极，Ni-Salen配合物在电极表面合成。
本发明提供的制备方法，其采用电极直接电化学合成Ni-Salen配合物，提出了一种新的Ni-Salen配合物的制备方法。
同时，本发明提出的电化学合成的方法，只需要进行电沉积及表面修饰操作，无需进行搭建体系、控温、搅拌、分离等操作，步骤简单，操作方便。
本发明采用玻碳电极(GCE)进行电化学合成，当然在其他实施例中也可以采用类似电极，如金盘电极、铂盘电极、石墨电极等。在电极表面电沉积铁氰化镍之前，将电极用粒径为0.05μm的Al2O3悬糊抛光至镜面,再依次用无水乙醇和二次水超声清洗5min。以保证裸电极的初始状态并提高在玻碳电极电沉积铁氰化镍的效果。
电沉积铁氰化镍配合物包括：将裸玻碳电极放入含Fe(CN)6 3-及Ni2+的溶液中循环伏安扫描，完成后取出用超纯水清洗后等待自然风干或加热烤干，得到铁氰化镍修饰玻碳电极(NiHCF/GCE)。
电沉积的铁氰化镍在电极表面形成导丘，便于后续配合物的合成。电沉积铁氰化镍采用循环伏安扫描的方法，可控性好。循环伏安扫描的活化过程中，能够将铁氰化镍中的镍转化为二价态和三价态的氢氧化镍，使其电子传递效果更佳。
上述活化操作的扫描时间较佳地为15～25圈，进一步较佳地为20圈，活化效果更佳。需要说明，上述的1圈是指循环伏安扫描操作完成一个循环。
进一步地，本发明较佳的实施例中，含Fe(CN)6 3-及Ni2+的溶液即指的含K3[Fe(CN)6]及NiAc2的溶液，含K3[Fe(CN)6]及NiAc2的溶液是指K3[Fe(CN)6]溶液及NiAc2溶液混合的混合液。当然，在本发明的一些实施方式中，含Fe(CN)6 3-及Ni2+的溶液中，还可以选用含Na3[Fe(CN)6]等含Fe(CN)6 3-的盐溶液提供Fe(CN)6 3-，选用NiSO4、NiCl2等含Ni2+的盐溶液提供Ni2+。
较佳地，该溶液中K3[Fe(CN)6]的浓度为10-4～10-1mol/L，NiAc2的浓度为10-4～10- 1mol/L。进一步较佳地，该溶液中K3[Fe(CN)6]及NiAc2的浓度均为10mmol/L。根据上述的要求进行电沉积，电沉积速度、电沉积产物量适宜，且电沉积效果好。
修饰Salen配体包括：将Salen配体溶液滴涂于电沉积铁氰化镍配合物后的铁氰化镍修饰玻碳电极(NiHCF/GCE)表面，将电极垂直放置，自然干燥。
上述Salen配体由水杨醛与乙二胺合成。具体地：
取2.5g乙二胺和8.5mL水杨醛溶解于18mL甲醇中，在冰水浴中搅拌30min，静置15min，减压抽滤，用1mL乙醚洗涤，在33℃下干燥6h，得10.7g淡黄色固体，再用160mL无水乙醇重结晶，在33℃下干燥18h，得9.4g黄亮色片状晶体，产率为88.0％。熔点：125～125.5℃。
在NiHCF/GCE表面修饰Salen配体时，Salen配体溶液较佳地用量为修饰直径为2mm的玻碳电极时使用5μL的比例。进一步地，Salen配体溶液中Salen配体的浓度较佳地为1～100mg/mL；更优选地为10mg/mL。滴涂效果好。
由于在NiHCF/GCE的表面修饰Salen配体后，铁氰根离子还存在于NiHCF配合物中。故在Salen配体修饰完成后，将电极置于碱液中电沉积活化，用以除去电极表面的铁氰根离子，使Ni2+与Salen形成配合物，从而得到Ni-Salen配合物修饰的电极，实现Ni-Salen配合物在电极的表面合成。
在本发明较佳的实施例中，该碱液为氢氧化钠或氢氧化钾溶液。但由于氢氧化钾较贵，常选用氢氧化钠降低成本。氢氧化钠溶液中氢氧化钠的浓度较佳地为0.01mol/L。碱液活化时，将修饰Salen配体后的电极置于碱液中循环伏安扫描，扫描电位范围较佳地为-1～1V。
本发明提供一种Ni-Salen配合物，采用上述的制备方法合成，步骤简单，操作方便。
以下结合实施例对本发明的特征和性能作进一步的详细描述。
实施例1
一种Ni-Salen配合物的制备方法，包括：
S1、将玻碳电极抛光后超声清洗，得裸GCE。
S2、将裸GCE放入K3[Fe(CN)6]和NiAc2浓度均为10mmol/L溶液中，循环伏安扫描20圈，得NiHCF/GCE。
S3、将浓度为10mg/mL的Salen配体溶液滴涂于NiHCF/GCE表面，干燥后放入0.01mol/L的氢氧化钠溶液中，在-1～1V的电位范围内循环伏安扫描，得Salen-Ni/GCE。
实施例2
一种Ni-Salen配合物的制备方法，包括：
S1、将玻碳电极抛光后超声清洗，得裸GCE。
S2、将裸GCE放入K3[Fe(CN)6]和NiAc2浓度均为100mmol/L溶液中，循环伏安扫描25圈，得NiHCF/GCE。
S3、将浓度为10mg/mL的Salen配体溶液滴涂于NiHCF/GCE表面，干燥后放入0.01mol/L的氢氧化钠溶液中，在-1～1V的电位范围内循环伏安扫描，得Salen-Ni/GCE。
实施例3
一种Ni-Salen配合物的制备方法，包括：
S1、将玻碳电极抛光后超声清洗，得裸GCE。
S2、将裸GCE放入K3[Fe(CN)6]和NiAc2浓度均为1mmol/L溶液中，循环伏安扫描15圈，得NiHCF/GCE。
S3、将浓度为1mg/mL的Salen配体溶液滴涂于NiHCF/GCE表面，干燥后放入0.01mol/L的氢氧化钠溶液中，在-1～1V的电位范围内循环伏安扫描，得Salen-Ni/GCE。
实施例4
一种Ni-Salen配合物的制备方法，包括：
S1、将玻碳电极抛光后超声清洗，得裸GCE。
S2、将裸GCE放入K3[Fe(CN)6]和NiAc2浓度均为0.1mmol/L溶液中，循环伏安扫描15圈，得NiHCF/GCE。
S3、将浓度为100mg/mL的Salen配体溶液滴涂于NiHCF/GCE表面，干燥后放入0.01mol/L的氢氧化钠溶液中，在-1～1V的电位范围内循环伏安扫描，得Salen-Ni/GCE。
对比例1
一种Ni-Salen配合物的制备方法，包括：
取0.65mmol Salen配体溶解在15mL甲醇中，将甲醇溶液与0.65mmol NiAc2·4H2O装入100mL单口烧瓶中混合。进行回流，回流温度约为70℃，回流时间为1h，边回流边用磁力加热搅拌器搅拌。冷却、过滤后在60℃下真空干燥1h。
试验例
试验例1：将对比例1制得的Ni-Salen配合物溶液滴涂于裸GCE表面。
试验例2：实施例1得到的NiHCF/GCE。
试验例3：将Salen配体溶液滴涂于裸GCE表面。
试验例4：将Salen配体溶液滴涂于裸GCE表面，用浓度为10mmol/L的NiAc2溶液循环伏安扫描。
试验例5：将裸GCE在浓度为10mmol/L的NiAc2溶液中循环伏安扫描电沉积镍的氧化物，再在表面滴涂Salen配体溶液修饰。
试验方法
以裸玻碳电极或试验例1～4的修饰电极为工作电极，以饱和甘汞电极为参比电极，铂丝为辅助电极。将工作电极放入K3[Fe(CN)6]浓度为10-3mol/L且KCl浓度为0.1mol/L的溶液中循环伏安扫描，记录循环伏安曲线及交流阻抗曲线。将工作电极放入浓度为0.01mol/L的NaOH溶液中循环伏安扫描，记录循环伏安曲线。
对比例1为现有技术中常规的Ni-Salen配合物的制备方法，以试验例1作为参照，研究Ni-Salen配合物直接修饰于玻碳电极表面的电化学性能。
图1为裸玻碳电极和试验例1中修饰电极在含铁氰化钾的氯化钾溶液中的循环伏安图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线。
从图1中可以看出，通过Salen-Ni配合物直接修饰的电极在氯化钾溶液中铁氰根的氧化还原作用明显减弱，具体表现为氧化峰电位差值增大，峰电流明显降低。
图2为裸玻碳电极和试验例1中修饰电极在含铁氰化钾的氯化钾溶液中的交流阻抗图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线。
从图2中可以看出，裸电极在铁氰化钾溶液中呈现一个较小的电荷转移阻抗，然而修饰电极则呈现出较大的电荷转移阻抗，表明电极上修饰的Salen-Ni配合物阻碍了电子的直接传递。
图3为裸玻碳电极和试验例1中修饰电极在氢氧化钠溶液中的循环伏安图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线。
从图3中可以看出，修饰Salen-Ni电极呈现出一对明显的氧化还原峰，该对峰对应着Ni(III)/Ni(II)的redox，表明在强碱性溶液中，该电极膜中的Ni-Salen配合物会形成镍的氢氧化物进而在电极表面直接传递电子。
图4为裸玻碳电极和试验例2中修饰电极在氢氧化钠溶液中的循环伏安图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例2的曲线。
从图4中可以看出，通过修饰铁氰化镍后再修饰Salen配体的修饰电极在氢氧化钠溶液中有明显的的响应作用，其峰的出现与试验例1中直接修饰Salen-Ni配合物的修饰电极具有极高的相似性。具体表现为在相同的电化学范围内出现了一对明显的对应于镍的氢氧化物的一对redox峰。经发明人研究发现，其在此电位范围内的不同扫速的循环伏安曲线及其线性关系也与直接修饰Salen-Ni具有极高的相似性。由此可以看出，本发明提供的制备方法的确通过电化学合成的方法实现了Salen-Ni配合物的合成。
图5为裸玻碳电极和试验例3中修饰电极在含铁氰化钾的氯化钾溶液中的循环伏安图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线。
图6为裸玻碳电极和试验例3中修饰电极在含铁氰化钾的氯化钾溶液中的交流阻抗图，a为裸玻碳电极的曲线，b为试验例1的曲线。
从图5中可以看出，试验例3中修饰电极在铁氰化钾溶液中有较差的电化学响应作用，具体表现为氧化峰电流明显降低，氧化峰电位差值增大。从图6中可以看出，修饰电极则呈现出较大的电荷转移阻抗。从图5和图6表明的确把Salen配体修饰在了玻碳电极上，阻碍了铁氰根在电极表面的直接电子传递。
图7为试验例4中修饰电极在氢氧化钠溶液中的交流阻抗图。
从图7中可以看出，先将Salen配体修饰于电极表面后再电沉积镍的修饰电极，在氢氧化钠中循环伏安扫描，并没有出现理想的镍的redox峰。也就是说，先将Salen配体修饰于电极表面后再电沉积镍的方法并不能电合成Salen-Ni配合物。
图8为试验例5中修饰电极在氢氧化钠溶液中的多圈循环伏安图。
从图8中可以看出，在玻碳电极表面预先沉积镍的氧化物再修饰Salen配体，在氢氧化钠中循环伏安扫描，依然得不到Ni-Salen配合物的类似循环伏安峰。也就是说，在玻碳电极表面预先沉积镍的氧化物再修饰Salen配体的方法并不能电合成Salen-Ni配合物。进一步表明，只有通过预先修饰铁氰化镍，然后修饰Salen后，再进行NaOH溶液中的循环伏安扫描，才可以在电极上电化学合成Ni-Salen配合物。
综上所述，本发明实施例的Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物，采用电极直接电化学合成Ni-Salen配合物，只需要进行电沉积及表面修饰操作，无需进行搭建体系、控温、搅拌、分离等操作，步骤简单，操作方便。
以上所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

Claims (10)

1.一种Ni-Salen配合物的制备方法，其特征在于，包括：于电极表面电沉积铁氰化镍配合物后修饰Salen配体，于碱液中电活化。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，电沉积铁氰化镍配合物包括：将所述电极于含Fe(CN)6 3-及Ni2+的溶液中循环伏安扫描。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，扫描时间为15～25圈；优选地，扫描时间为20圈。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述含Fe(CN)6 3-及Ni2+的溶液为含有K3[Fe(CN)6]及NiAc2的溶液；优选地，所述K3[Fe(CN)6]的浓度为10-4～10-1mol/L，所述NiAc2的浓度为10-4～10-1mol/L；优选地；所述K3[Fe(CN)6]的浓度为10mmol/L，所述NiAc2的浓度为10mmol/L。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，修饰Salen配体包括：将Salen配体溶液滴涂于电沉积铁氰化镍配合物后的所述电极表面；优选地，所述Salen配体溶液的浓度为1～100mg/mL；更优选地，为10mg/mL。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述碱液为氢氧化钠溶液；优选地，所述氢氧化钠溶液的浓度为0.01mol/L。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，电活化包括：将修饰Salen配体后的所述电极置于所述碱液中循环伏安扫描。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，扫描电位范围为-1～1V。
9.根据权利要求1的所述制备方法，其特征在于，电沉积铁氰化镍配合物之前，还包括将所述电极抛光后超声清洗。
10.权利要求1～9任一项所述的制备方法制得的Ni-Salen配合物。
CN201711288294.2A 2017-12-07 2017-12-07 Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物 Active CN108103523B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711288294.2A CN108103523B (zh) 2017-12-07 2017-12-07 Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711288294.2A CN108103523B (zh) 2017-12-07 2017-12-07 Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108103523A true CN108103523A (zh) 2018-06-01
CN108103523B CN108103523B (zh) 2019-06-25

Family

ID=62209420

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711288294.2A Active CN108103523B (zh) 2017-12-07 2017-12-07 Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108103523B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110530946A (zh) * 2019-07-30 2019-12-03 安徽神剑新材料股份有限公司 一种纳米铁氰化镍/多壁碳纳米管修饰电极的制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050217998A1 (en) * 2002-09-25 2005-10-06 Gen3 Partners, Inc. Method for the manufacture of electrode for energy-storage devices
CN101358371A (zh) * 2008-09-20 2009-02-04 太原理工大学 单一结构铁氰化物薄膜单极脉冲电沉积的制备方法
CN102645470A (zh) * 2012-03-31 2012-08-22 无锡百灵传感技术有限公司 一种用于溶解氧检测的电化学传感器制备方法
CN103214689A (zh) * 2013-03-20 2013-07-24 太原理工大学 一种离子印迹聚合物薄膜的制备方法
CN106824281A (zh) * 2017-02-16 2017-06-13 辽宁大学 基于分子水平的Salen Co催化剂及其制备方法和应用

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050217998A1 (en) * 2002-09-25 2005-10-06 Gen3 Partners, Inc. Method for the manufacture of electrode for energy-storage devices
CN101358371A (zh) * 2008-09-20 2009-02-04 太原理工大学 单一结构铁氰化物薄膜单极脉冲电沉积的制备方法
CN102645470A (zh) * 2012-03-31 2012-08-22 无锡百灵传感技术有限公司 一种用于溶解氧检测的电化学传感器制备方法
CN103214689A (zh) * 2013-03-20 2013-07-24 太原理工大学 一种离子印迹聚合物薄膜的制备方法
CN106824281A (zh) * 2017-02-16 2017-06-13 辽宁大学 基于分子水平的Salen Co催化剂及其制备方法和应用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110530946A (zh) * 2019-07-30 2019-12-03 安徽神剑新材料股份有限公司 一种纳米铁氰化镍/多壁碳纳米管修饰电极的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN108103523B (zh) 2019-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Berry et al. A trinickel dipyridylamido complex with metal− metal bonding interaction: prelude to polynickel molecular wires and devices?
Zhang et al. Nonenzymatic glucose sensor based on graphene oxide and electrospun NiO nanofibers
Glaser et al. Trinuclear nickel complexes with triplesalen ligands: simultaneous occurrence of mixed valence and valence tautomerism in the oxidized species
Pratt et al. Intramolecular charge transfer and biomimetic reaction kinetics in galactose oxidase model complexes
Chen et al. Electrogenerated chemiluminescence of platinum (II) alkynyl terpyridine complex with peroxydisulfate as coreactant
EP2420827B1 (en) A method of manufacturing a prussian blue electrode
Petel et al. Site-selective halogenation of polyoxovanadate clusters: atomically precise models for electronic effects of anion doping in VO2
CN105940526A (zh) 包含石墨烯涂层电极的电化学电池
Lee et al. Identification of an electrode-adsorbed intermediate in the catalytic hydrogen evolution mechanism of a cobalt dithiolene complex
Kundu et al. Triple-stranded helicates of zinc (II) and cadmium (II) involving a new redox-active multiring nitrogenous heterocyclic ligand: synthesis, structure, and electrochemical and photophysical properties
CN107200359B (zh) 一种氧化铁颜料及其生产方法
CN101941972A (zh) 镧系三明治型酞菁类配合物的制备方法及其在Li/SOC12电池中的应用
Wang et al. Two trinuclear CuII complexes: effect of phosphonate ligand on the magnetic property and electrocatalytic reactivity for water oxidation
CN108103523B (zh) Ni-Salen配合物的制备方法及Ni-Salen配合物
Tissot-Croset et al. Synthesis and use of a phosphoramidite ligand for the copper-catalyzed enantioselective allylic substitution. Tandem allylic substitution/ring-closing metathesis
Ramalakshmi et al. Preparation and characterization of 4-hydroxybenzylidencarbamide-CTAB modified glassy carbon electrode by using [Fe (CN) 6] 4-/[Fe (CN) 6] 3-redox system
Pammer et al. A cobaltocenium complex of dibenzo [c, g] fluorenide and its structural and electrochemical Properties
Akhtar et al. A new hexanuclear Fe (III) nanocluster: synthesis, structure, magnetic properties, and efficient activity as a precatalyst in water oxidation
Wang et al. Two biologically inspired tetranuclear nickel (II) catalysts: effect of the geometry of Ni 4 core on electrocatalytic water oxidation
Cho et al. Thermal properties and crystal structures of rhenium (I) carbonyl complexes with tridentate ligands: Preparation of rhenium-containing ionic liquids
Hebié et al. Electrochemistry as an attractive and effective tool for the synthesis and immobilization of porphyrins on an electrode surface
Walaijai et al. Electrocatalytic proton reduction by a cobalt (III) hydride complex with phosphinopyridine PN ligands
CN110387559A (zh) 一种电催化产氧薄膜电极材料的制备方法及其制品和应用
Edwin et al. Structural rearrangements in the two-electron oxidations of dimetal cyclooctatetraene compounds. Structure of the 34-electron triple-decker dication
CN102393412B (zh) 修饰电极及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20210825

Address after: 441000 No. 1 Qilin Avenue, Xiangcheng District, Xiangyang City, Hubei Province

Patentee after: Hubei Shimei New Material Co.,Ltd.

Address before: No. 296, Longzhong Road, Xiangyang District, Xiangyang City, Hubei Province 441000

Patentee before: HUBEI University OF ARTS AND SCIENCE

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20211029

Address after: 441400 No. 10, Leiyan Avenue, Leihe Town, Yicheng city, Xiangyang City, Hubei Province

Patentee after: Hubei teteng New Material Technology Co.,Ltd.

Address before: 441000 No. 1 Qilin Avenue, Xiangcheng District, Xiangyang City, Hubei Province

Patentee before: Hubei Shimei New Material Co.,Ltd.