CN107946318B - 一种阵列基板及其制作方法、显示面板 - Google Patents

一种阵列基板及其制作方法、显示面板 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板，用以通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下阵列基板的显示效果。所述阵列基板，包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，所述阵列基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在所述衬底基板上且位于所述显示区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。

Description

一种阵列基板及其制作方法、显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(thin film transistor-liquid crystal display，TFT-LCD)包括具有光线透射作用的透射型显示产品，尤其针对便携式设备，在户外光照强烈的情况下其画面显示存在一定局限性。常常因为外界环境光较强，户外的光照强度远远高于室内，导致显示的内容难以分辨。通常情况下，为了改善此时的显示效果，显示器需提升背光的亮度以维持正常的内容显示，但这样不仅会加速电池电量的消耗，缩短显示器的待机时长，而且会对眼睛造成额外的伤害。
因此，现有技术中的透射型的显示器，在外界环境光的作用下影响了显示面板的显示效果。
发明内容
本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板，用以通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下阵列基板的显示效果。
本发明实施例提供的一种阵列基板，包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，所述阵列基板包括：
衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；
以及设置在所述衬底基板上且位于所述开口区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；
其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述金属反光层远离所述衬底基板的表面具有凹凸不平的结构。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述金属反光层的材料为银。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管的有源层同层设置且相互绝缘。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述任一种的阵列基板。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，该方法包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，所述金属反光层的图形包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；
其中，所述金属反光层的图形在所述衬底基板上的垂直投影位于阵列基板的开口区域。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，包括：
在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的有源层的图形之后，采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，且所述金属反光层远离所述衬底基板的表面具有凹凸不平的结构。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，包括：
在具有有源层的图形的衬底基板之上形成金属反光层；对所述金属反光层进行预处理，使所述金属反光层的表面具有凹凸不平的结构；在所述金属反光层之上形成第一光刻胶层，并对所述第一光刻胶层曝光、显影后形成第一光刻胶完全保留区域和第一光刻胶完全去除区域，其中，所述第一光刻胶完全保留区域对应所述金属反光层的反光区域；刻蚀所述第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层，形成金属反光层的镂空区域；或者，
在具有所述有源层的图形的衬底基板之上形成金属反光层；在所述金属反光层之上形成第一光刻胶层，并对所述第一光刻胶层曝光、显影后形成第一光刻胶完全保留区域和第一光刻胶完全去除区域，其中，所述第一光刻胶完全保留区域对应所述金属反光层的反光区域；刻蚀所述第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层，形成金属反光层的镂空区域；剥离所述第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层，并仅对所述金属反光层的图形进行预处理，使所述金属反光层的表面具有凹凸不平的结构。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，仅对所述金属反光层的图形进行预处理，包括：
在形成所述金属反光层的图形且剥离所述第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层之后，仅在所述有源层的图形之上形成第二光刻胶层，并对所述金属反光层的图形进行预处理。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，所述预处理包括采用惰性气体对所述金属反光层进行物理轰击。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供的阵列基板及其制作方法、显示面板中，所述阵列基板包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，所述阵列基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在所述衬底基板上且位于所述开口区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。因此，本发明实施例提供的阵列基板中，当处于户外环境下具有外界光照时，通过金属反光层中的镂空区域将显示面板中的背光源的光线进行透射，且利用金属反光层中的反光区域将外界环境光反射出阵列基板，从而有效利用了外界环境光对阵列基板进行显示，避免全部采用背光源中的光线进行显示造成显示面板耗电、寿命短以及损伤用户眼睛的问题。另外，本发明中的金属反光层与薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘，使得金属反光层的设置并没有影响显示区域中其他电极的正常工作，如像素电极和公共电极等。可见，本发明提供的阵列基板，通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下的显示效果。
附图说明
图1a-图1d分别为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；
图3a和图3b分别为本发明实施例提供的又一种金属反光层的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程示意图；
图5a-图5f分别为本发明实施例提供的阵列基板的制作方法在执行每步骤之后对应的结构示意图；
图6a-图6e分别为本发明实施例提供的阵列基板的制作方法在执行每步骤之后对应的又一种的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面将结合附图和实施例对本发明做进一步说明。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明更全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。本发明中所描述的表达位置与方向的词，均是以附图为例进行的说明，但根据需要也可以做出改变，所做改变均包含在本发明保护范围内。本发明的附图仅用于示意相对位置关系，某些部位的层厚采用了夸示的绘图方式以便于理解，附图中的层厚并不代表实际层厚的比例关系。
需要说明的是，在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广。因此本发明不受下面公开的具体实施方式的限制。如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解，硬件制造商可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式，而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包含”为一开放式用语，故应解释成“包含但不限定于”。说明书后续描述为实施本申请的较佳实施方式，然所述描述乃以说明本申请的一般原则为目的，并非用以限定本申请的范围。本申请的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。应理解，当元件诸如层、膜、区域或者衬底被称为位于另一个元件“上”时，其可以直接位于另一个元件上，或者可以插设有一个或多个中间元件。
本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板，用以通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下显示面板的显示效果。
下面通过具体实施例详细描述本发明实施例提供的阵列基板及其制作方法、显示面板。且本发明实施例仅以双栅结构的顶栅型的薄膜晶体管为例进行描述，但不限于薄膜晶体管仅为双栅结构的顶栅型的结构，还可以为单栅结构的薄膜晶体管，也可以包括底栅型的薄膜晶体管，在此不作具体限定。
参见图1a，本发明实施例提供的阵列基板，包括显示区域A和边框区域B，显示区域A包括开口区域A1和非开口区域A2。参见图1b，本发明实施例提供的阵列基板包括：衬底基板01；设置在衬底基板01之上的薄膜晶体管02，且薄膜晶体管02在衬底基板上的垂直投影位于非开口区域A2；以及设置在衬底基板01上且位于开口区域A1的金属反光层03，金属反光层03包括对光线具有反射作用的反光区域031以及对光线具有透射作用的镂空区域032；其中，金属反光层03与薄膜晶体管02中的任一膜层同层设置且相互绝缘。
其中，图1a为阵列基板的俯视图，图1b仅为以图1a所示的阵列基板沿p1-p2方向切割后的截面示意图。
具体地，薄膜晶体管02包括依次设置在衬底基板01上的有源层021、栅极022、源极023和漏极024。本发明实施例中的金属反光层03可以与薄膜晶体管02中的有源层021、栅极022、源极023的任一膜层同层设置。如金属反光层03可以与有源层021同层设置且相互绝缘，如图1b所示；或者，金属反光层03可以与栅极022同层设置且相互绝缘，如图1c所示；或者，金属反光层03也可以与源极023同层设置且相互绝缘，如图1d所示。
需要说明的是，本发明实施例中的金属反光层03中的反光区域031对外界环境光进行反射，从而有效利用外界环境光实现更亮的显示，同时通过金属反光层03中的镂空区域032将背光源中的光线进行透射进行显示，从而使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示。为了进一步保证阵列基板的开口率，在实现半反射半透射的显示方式时，将金属反光层03中的反光区域031设置的尽量小一些，设置镂空区域032的面积尽量大一些，从而保证了阵列基板的正常开口率。
因此，本发明实施例提供的阵列基板包括显示区域，显示区域包括开口区域，阵列基板包括：衬底基板，设置在衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在衬底基板上且位于开口区域的金属反光层，金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。因此，本发明实施例提供的阵列基板中，当处于户外环境下具有外界光照时，通过金属反光层中的镂空区域将显示面板中的背光源的光线进行透射，且利用金属反光层中的反光区域将外界环境光反射出阵列基板，从而有效利用了外界环境光对阵列基板进行显示，避免全部采用背光源中的光线进行显示造成显示面板耗电、寿命短以及损伤用户眼睛的问题。另外，本发明中的金属反光层与薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘，使得金属反光层的设置并没有影响显示区域中其他电极的正常工作，如像素电极和公共电极等。可见，本发明提供的阵列基板，通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下显示面板的显示效果。
具体地，本发明实施例提供的阵列基板中，如图1b、图1c或图1d所示，阵列基板还包括：设置在衬底基板01与有源层021之间的缓冲层04，设置在有源层021和栅极022之间的栅极绝缘层05，设置栅极022和源极023之间的层间介质层06，以及设置在源极023之上的有机膜层07、公共电极层08、钝化层09和像素电极010。其中，像素电极010通过贯穿钝化层09和有机膜层07的过孔与源极023电连接。其中，为了遮挡有源层021与栅极022之间形成的开关区域，阵列基板还包括设置在缓冲层04与衬底基板01之间的遮光层011。其中，遮光层011的设置用于遮挡背光源中光入射到有源层021中，使得有源层021与栅极022之间的开关区域失效。
在具体实施例中，本发明实施例中的金属反光层03在衬底基板01上的垂直投影位于阵列基板01的开口区域A1。其中，由于像素电极010一般位于开口区域A1，实现正常的显示。因此，金属反光层03可以与像素电极010具有重叠区域。由于金属反光层03与薄膜晶体管中的任一膜层同层设置，因此不会影响显示区域中像素电极或公共电极层的正常电压，且由于像素电极或公共电极层与金属反光层之间还设置有有机膜层和钝化层等绝缘层，从而不会与像素电极或公共电极层之间造成信号藕合或干扰等现象。
较佳地，本发明实施例中的金属反光层03与有源层021同层设置且相互绝缘，如图1b所示。为了避免在形成金属反光层或者在形成金属反光层时对金属反光层进行处理时，影响阵列基板中有源层021和栅极022之间的开关特性，在形成有源层的图形之后形成金属反光层的图形，或者在形成有源层的同时形成金属反光层的图形。
较佳地，为了进一步增加金属反光层的反光特性，如图2所示，金属反光层03远离衬底基板01的表面具有凹凸不平的结构。具体地，金属反光层03的反光区域031远离衬底基板01的一侧具有凹凸不平的结构，使得通过凹凸不平的金属反光层进行外界环境光的反射时具有漫反射的效果，从而增加了金属反光层的反射率，有效利用了外界环境光，提高了显示效果。
在具体实施例中，本发明实施例中的金属反光层可以采用金属材料进行制作，如银、铝、钼或钛等。如金属反光层与栅极同层制作时，可以与栅极采用相同的材料进行制作，从而节省了制作工艺。如金属反光层与源极或漏极同层制作时，可以与源漏极采用相同的材料进行制作。
较佳地，金属反光层的材料为银。相比于其它金属材料，银具有更加优异的反光性能，从而进一步提高了金属反光层的反光特性。因此，在形成金属反光层时，可以采用金属银材料进行制作。
需要说明的是，本发明实施例中的同层设置包括同材料同时设置，也包括同层但不同材料设置的结构。如金属反光层采用银的金属材料进行制作，且与有源层同层设置时，包括有源层与金属反光层处于同一水平面上，且形成有源层之后形成金属反光层，或者形成金属反光层之后形成有源层。
在具体实施例中，金属反光层03中包括反光区域031和镂空区域032，即，金属反光层03可以如图1a所示，反光区域031与镂空区域032相互连接，可以解释为整面的金属反光层中挖出多个镂空结构，从而形成图1a所示的结构。也可以如图3a所示，金属反光层的反光区域031为多个相互独立的条状结构，且相邻条状结构之间的缝隙作为镂空区域032进行光线的透射。或者，如图3b所示，金属反光层的反光区域031为多个相互独立的块状结构组成，且相邻块状结构之间的缝隙作为镂空区域032进行光线的透射。
需要说明的是，本发明中金属反光层的尺寸可以根据阵列基板中开口区域的尺寸进行设计；金属反光层中反光区域和镂空区域所占的比重可以根据阵列基板中显示区域的开口率进行调整和设计。如，为了避免金属反光层遮挡显示区域的正常显示，可以适当增加金属反光层中反光区域所占的面积。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，参见图4，该方法包括：
S401、提供一衬底基板；
S402、在衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，金属反光层的图形包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，金属反光层的图形在衬底基板上的垂直投影位于阵列基板的开口区域。
具体地，形成薄膜晶体管的图形时，包括在衬底基板上形成有源层、栅极和源漏极的图形，本发明中的金属反光层可以与栅极同层设置，与栅极同时形成；或者，金属反光层可以与有源层同层设置，与有源层同时形成；或者，金属反光层可以与源漏极同层设置，与源漏极同时形成；或者，金属反光层在形成有源层的图形之后形成；或者，金属反光层在形成栅极的图形之后形成，或者，金属反光层在形成源漏极的图形之后形成。另外，本发明中的金属反光层可以与薄膜晶体管中的金属材料相同，或者采用其他金属材料进行制作，例如，金属银等。
因此，本发明阵列基板的制作方法中，通过在形成薄膜晶体管的同时形成金属反光层，使得背光源的光线通过金属反光层中的镂空区域进行透射实现显示，且外界环境光的光线通过金属反光层中的反光区域进行反射后代替背光源的光进行显示，从而有效利用了外界环境光对阵列基板进行显示，避免全部采用背光源中的光线进行显示造成显示面板耗电、寿命短以及损伤用户眼睛的问题。另外，本发明中通过在形成薄膜晶体管的图形时形成金属反光层，使得金属反光层与薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘，使得金属反光层的设置并没有影响显示区域中其他电极的正常工作，如像素电极和公共电极等。可见，本发明提供的阵列基板的制作方法，通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下的显示效果，且简化了制作工艺。
具体地，在形成金属反光层时，为了进一步增加的金属反光层的反光特性，将金属反光层的表面形成制作成具有凹凸不平的结构，因此在形成金属反光层的图形之后，或者形成金属反光层的图形之前，对金属反光层远离衬底基板的一侧进行预处理，从而使得金属反光层的表面具有凹凸不平的结构，增加了金属反光层对外界环境光的反射效率。
下面以形成薄膜晶体管的有源层的图形后且在形成栅极的图形之前，形成金属反光层的图形为例进行描述，形成金属反光层的步骤以及方法。但不限于本发明仅通过在形成有源层的图形之后形成金属反光层的图形，可以在形成栅极或者源漏极的图形之后形成金属反光层的图形。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，在衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管的有源层的图形之后，采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，且金属反光层远离衬底基板的表面具有凹凸不平的结构。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，可以采用两种方式进行制作，如方式一：
在具有有源层的图形的衬底基板之上形成金属反光层；对金属反光层进行预处理，使金属反光层的表面具有凹凸不平的结构；在金属反光层之上形成第一光刻胶层，并对第一光刻胶层曝光、显影后形成第一光刻胶完全保留区域和第一光刻胶完全去除区域，其中，第一光刻胶完全保留区域对应金属反光层的反光区域；刻蚀第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层，形成金属反光层的镂空区域。具体地，在形成金属反光层的图形之前，对整层的金属反光层进行预处理，使得金属反光层的表面呈现凹凸不平状，增加了金属反光层表面的粗糙度，进一步增加了金属反光层的反射特性。在对整层的金属反光层进行粗糙化处理后，通过沉积光刻胶层、曝光、显影和刻蚀的工艺进一步形成金属反光层的图形。其中，在形成金属反光层的图形时，显影后的第一光刻胶层形成的第一光刻胶完全保留区域对应金属反光层的反光区域，第一光刻胶层完全去除区域对应除金属反光层的反光区域之外的全部区域。
形成金属反光层的图形方式二：
在具有有源层的图形的衬底基板之上形成金属反光层；在金属反光层之上形成第一光刻胶层，并对第一光刻胶层曝光、显影后形成第一光刻胶完全保留区域和第一光刻胶完全去除区域，其中，第一光刻胶完全保留区域对应金属反光层的反光区域；刻蚀第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层，形成金属反光层的镂空区域；剥离第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层，并仅对金属反光层的图形进行预处理，使金属反光层的表面具有凹凸不平的结构。具体地，在形成金属反光层的图形之后，仅对金属反光层的图形进行预处理，使得金属反光层的表面呈现凹凸不平状，增加了金属反光层表面的粗糙度，进一步增加了金属反光层的反射特性。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，仅对金属反光层的图形进行预处理，包括：在形成金属反光层的图形且剥离第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层之后，仅在有源层的图形之上形成第二光刻胶层，并对金属反光层的图形进行预处理。具体地，由于有源层的图形与金属反光层在同一水平面内，且在对金属反光层的图形进行预处理时，有源层之上没有其他膜层进行保护，因此，为了避免在对金属反光层的图形进行预处理时，影响到有源层特性的变化，仅在有源层的图形之上形成第二光刻胶层。其中，在形成第二光刻胶的图形时包括，在有源层和金属反光层的图形之上形成整层的第二光刻胶层，为了避免在形成第二光刻胶层的图形进行光照时影响有源层的图形，可以采用负性光刻胶材料制作第二光刻胶层，然后对第二光刻胶层进行曝光，显影，形成第二光刻胶完全保留区域和第二光刻胶完全去除区域，且第二光刻胶完全保留区域对应有源层的区域，最后对具有第二光刻胶层保护有源层的衬底基板进行预处理。由于在对金属反光层进行预处理时，采用第二光刻胶层对有源层，从而避免了预处理过程对有源层特性的影响。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，预处理包括采用惰性气体对金属反光层进行物理轰击。具体地，惰性气体可以为He或Ar等气体，采用惰性气体对金属反光层进行物理轰击，使得金属反光层的表面形成凹凸不平的结构，进一步保证了对金属反光层进行预处理时，避免对金属反光层造成氧化的后果。当然，本发明中也可以采用别的方式进行预处理，使得金属反光层表面形成凹凸不平的结构。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，采用湿刻的工艺刻蚀第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层。具体地，在对金属反光层进行刻蚀时，可以采用湿刻的方式，如采用硝酸和磷酸的混合液组成刻蚀液对金属反光层进行刻蚀。
下面通过结合附图详细描述阵列基板的制作方法，且仅以形成有源层的图形之后形成金属反光层的实施例为例进行描述，其中，薄膜晶体管仅以双栅结构的顶栅型结构为例进行示意。
方式一：
步骤一、在衬底基板01上形成遮光层011、缓冲层04和有源层021的图形，如图5a所示；
步骤二、在有源层021之上形成金属反光层03，如图5b所示；其中，形成金属反光层的方式可以采用沉积的方式，在此不做限定。
步骤三、使用惰性气体对金属反光层03进行物理轰击，使得金属反光层03表面形成凹凸不平的结构，如图5c所示；
步骤四、在图5c所示的衬底基板上形成第一光刻胶层10，并对第一光刻胶层10进行曝光、显影，形成第一光刻胶层完全保留区域101和第一光刻胶层完全去除区域102，其中，第一光刻胶层完全保留区域101对应金属反光层03的反光区域，刻蚀第一光刻胶层完全去除区域102所对应的金属反光层03，形成金属反光层03的镂空区域，如图5d所示；
步骤五、剥离第一光刻胶层完全保留区域101所对应的第一光刻胶层，如图5e所示；
步骤六、在图5e所示的衬底基板上依次形成栅极绝缘层05、栅极022、层间介质层06，以及源极023和漏极024；并形成设置在源极023和漏极024之上的有机膜层07、公共电极08、钝化层09和像素电极010，其中，像素电极010通过贯穿有机膜层07和钝化层09的接触孔与源极023电连接，如图5f所示。
方式二：
步骤一、在衬底基板01上形成遮光层011、缓冲层04和有源层021的图形，如图5a所示；
步骤二、在有源层021之上形成金属反光层03，如图5b所示；其中，形成金属反光层的方式可以采用沉积的方式，在此不做限定。
步骤三、在图5b所示的衬底基板上形成第一光刻胶层10，并对第一光刻胶层10进行曝光、显影，形成第一光刻胶层完全保留区域101和第一光刻胶层完全去除区域102，其中，第一光刻胶层完全保留区域101对应金属反光层03的反光区域，刻蚀第一光刻胶层完全去除区域102所对应的金属反光层03，形成金属反光层03的镂空区域，如图6a所示；
步骤四、剥离第一光刻胶层完全保留区域101所对应的第一光刻胶层，如图6b所示；
步骤五、在图6b所示的衬底基板之上形成第二光刻胶层11，并对第二光刻胶层11进行曝光、显影，形成第二光刻胶层完全保留区域111和第二光刻胶层完全去除区域112，其中，第二光刻胶层完全保留区域111对应有源层02的图形，如图6c所示；
步骤六、对图6c所示的衬底基板使用惰性气体进行物理轰击，使得金属反光层03表面形成凹凸不平的结构，如图6d所示；
步骤七、剥离第二光刻胶层完全保留区域111所对应的第一光刻胶层，如图6e所示；
步骤八、在图6e所示的衬底基板上依次形成栅极绝缘层05、栅极022、层间介质层06，以及源极023和漏极024；并形成设置在源极023和漏极024之上的有机膜层07、公共电极08、钝化层09和像素电极010，其中，像素电极010通过贯穿有机膜层07和钝化层09的接触孔与源极023电连接，如图5f所示。
具体地，采用方式一在对金属反光层进行物理轰击时，由于金属反光层覆盖有源层，从而避免了在预处理过程中对有源层的损害；采用方式二对金属反光层进行物理轰击时，由于有源层没有任何膜层进行保护，因此需要设置第二光刻胶层进行保护，避免了在预处理过程中对有源层以及缓冲层的损害。
需要说明的是，本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，所采用构图工艺，包括任何形式的构图方式，例如通过利用光刻胶曝光显影刻蚀的方式，此方式中具体包括的步骤有且不限于：涂覆光刻胶、用掩膜板进行曝光、显影、对需要形成图案的膜层进行刻蚀从而形成相应的图案。对于多次出现的构图工艺，并不限定其包含完全相同的工艺步骤，例如对钝化层的构图工艺可包括涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述任一种的阵列基板。其中，显示面板的技术特征以及有益效果与阵列基板的技术特征以及有益效果分别相同，相同之处不再赘述。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板，如图7所示，可以包括：如本发明实施例提供的上述阵列基板。该显示装置可以为：手机(如图7所示)、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施例可以参见上述阵列基板的实施例，重复之处不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的阵列基板包括显示区域，显示区域包括开口区域，阵列基板包括：衬底基板，设置在衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在衬底基板上且位于开口区域的金属反光层，金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。因此，本发明实施例提供的阵列基板中，当处于户外环境下具有外界光照时，通过金属反光层中的镂空区域将显示面板中的背光源的光线进行透射，且利用金属反光层中的反光区域将外界环境光反射出阵列基板，从而有效利用了外界环境光对阵列基板进行显示，避免全部采用背光源中的光线进行显示造成显示面板耗电、寿命短以及损伤用户眼睛的问题。另外，本发明中的金属反光层与薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘，使得金属反光层的设置并没有影响显示区域中其他电极的正常工作，如像素电极和公共电极等。可见，本发明提供的阵列基板，通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下显示面板的显示效果。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (5)

1.一种阵列基板，包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，其特征在于，所述阵列基板包括：
衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；
以及设置在所述衬底基板上且位于所述开口区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；
其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘；
所述金属反光层远离所述衬底基板的表面具有凹凸不平的结构；
所述金属反光层与所述薄膜晶体管的有源层同层设置且相互绝缘；
其中，所述金属反光层采用如下方法形成：
在具有有源层的图形的衬底基板之上形成金属反光层；在所述金属反光层之上形成第一光刻胶层，并对所述第一光刻胶层曝光、显影后形成第一光刻胶完全保留区域和第一光刻胶完全去除区域，其中，所述第一光刻胶完全保留区域对应所述金属反光层的反光区域；刻蚀所述第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层，形成金属反光层的镂空区域；剥离所述第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层，并仅对所述金属反光层的图形进行预处理，使所述金属反光层的表面具有凹凸不平的结构；
仅对所述金属反光层的图形进行预处理，包括：
在形成所述金属反光层的图形且剥离所述第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层之后，仅在所述有源层的图形之上形成第二光刻胶层，并对所述金属反光层的图形进行预处理。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属反光层的材料为银。
3.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-2任一项所述的阵列基板。
4.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，所述金属反光层的图形包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；
其中，所述金属反光层的图形在所述衬底基板上的垂直投影位于阵列基板的开口区域；
在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，包括：
在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的有源层的图形之后，采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，且所述金属反光层远离所述衬底基板的表面具有凹凸不平的结构；
采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，包括：
在具有有源层的图形的衬底基板之上形成金属反光层；在所述金属反光层之上形成第一光刻胶层，并对所述第一光刻胶层曝光、显影后形成第一光刻胶完全保留区域和第一光刻胶完全去除区域，其中，所述第一光刻胶完全保留区域对应所述金属反光层的反光区域；刻蚀所述第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层，形成金属反光层的镂空区域；剥离所述第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层，并仅对所述金属反光层的图形进行预处理，使所述金属反光层的表面具有凹凸不平的结构；
仅对所述金属反光层的图形进行预处理，包括：
在形成所述金属反光层的图形且剥离所述第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层之后，仅在所述有源层的图形之上形成第二光刻胶层，并对所述金属反光层的图形进行预处理。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述预处理包括采用惰性气体对所述金属反光层进行物理轰击。
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