CN107920622A - 鞋用矫正装置 - Google Patents

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埃米莉·萨尔卡维奇
奈杰尔·史密斯
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Abstract

与带跟鞋、正装鞋、平底鞋或运动鞋一起使用的矫正装置(10),该装置(10)包括:主体(25);内侧弓支撑体(40),该内侧弓支撑体由远离主体(25)向上延伸的凸起限定;以及外偏楔(20),该外偏楔由位于主体(25)的外侧后足部分和/或外侧前足部分的凸起限定,该外偏楔(20)适于使足部外翻并且使装置(10)的支撑在外侧上集中。

Description

鞋用矫正装置
技术领域
本公开涉及一种鞋用矫正装置。特别地,本发明涉及一种正装鞋用矫正装置。然而,本领域技术人员应当理解本发明可以用于其它应用并且特别是其它鞋子类型。
背景技术
足矫正装置(也被称为矫正器)一般被规定为由健康专业人士用来改变脚部动力学,提高功能,提供缓冲,减少疼痛,预防损伤和再分配作用于下肢肌骨骼系统的力。
足矫正装置可以根据个体订制的方案制成或为大众制造并且经常专门为某类型鞋类——包括跑鞋、工作鞋以及高跟鞋——来进行设计。
定制的矫正方案是由对个体足部的印模制成的并且根据拟合个体足部的形态学的个人化方案制造的。与此相比,现成矫正器(也称作通用矫正器/矫正器械)商业地制造并且一般具有适合一般适应人群的方案。
当前市场上可以买到的适用于带跟鞋的通用矫正器械是:
a.仅缓冲装置;
b.仅应用内侧弓支撑体;或
c.仅应用缓冲和内侧弓支撑体。
通常女人穿高跟鞋以实现有吸引力的姿态,增加身高和搭配套装。穿高跟鞋时,需要改变行走步态来适应倾斜的足跟,这样,足跟倾斜度越高,发生生物力学改变就越严重。
为了本申请之目的,带跟鞋被定义为任何具有大于30mm的足跟到脚趾的垂直差距(足跟倾斜度),抬升足跟比前脚高的鞋。
对穿带跟鞋站立和行走的适应性是广泛记载的,确定了与穿平底鞋产生的力学和姿势相比有明显差异。当穿高跟鞋行走时,以前认为足部和脚踝的自然位置改变,其中脚踝受迫保持跖屈位置(脚踝向下延伸而前脚朝地面放置)并且大脚趾关节持续受迫进入背屈位置。还被众所周知的是穿戴者必须通过在脚部、脚踝、膝盖、臀部以及脊椎处的肌骨骼补偿积极地适应足跟接触高度、站姿以及步态的迈步期,肌骨骼补偿包括穿戴者质心的改变、朝躯干倾斜、朝胸部位置、更短的步长,臀部突出、前脚上的负载压力的明显增加,足弓上的刚度的增加,减少的震动吸收,短的腓肠肌长度和改变的下肢和脊椎的肌肉作用。
习惯地穿高跟鞋的长期效果已经被广泛记载。已经拟出长期使用高跟鞋和慢性疾病之间的关联,其中慢性疾病包括骨关节炎和肌骨骼疼痛,肌骨骼疼痛涉及足部,脚踝,膝盖,臀部和脊椎。骨畸形,包括拇囊炎(HAV)、锤状趾、跖弓塌陷以及解剖学上的变化(包括缩短小腿肌肉和跟腱增厚),都与长期使用高跟鞋相关。
同样被广泛记载的是足跟高度的增加直接与前脚的峰值压力的明显增加相关。足跟与脚趾之间的竖直高度差越大,则前脚所承受的体重百分数就越高。
1954年Hicks发现当被动背屈施加到大脚趾时(例如当行走步态中足跟抬升时),紧接着足部腱膜开始变紧,然后内侧纵弓升高,后足内翻并且胫骨/腓骨复合体向外部旋转。这被称为“旋绞机制”。
尽管旋绞机制一般地被本领域技术人员理解,但带跟鞋导致旋绞机制过度活动而导致脚踝不稳定和继而疼痛之间的关联还没有被本领域技术人员和文献确定。
目前为带跟鞋和其他类型的正装鞋穿戴而生产的现成矫正器械是通过内侧弓支撑体和缓冲的变化来设计的。被广泛接受的设计和概念是基于支撑内侧足弓和额外的前脚缓冲。
当被用于带跟鞋时,集中支撑内侧足弓和/或内侧足部含有内翻楔的矫正器械将放大过度旋后,进一步导致不稳定性和相关的病理。
本发明应用在带跟鞋以克服上述生物力学改变,除此之外,该设计还可以被需要支撑他们脚外侧(lateral)的穿平底鞋和/或运动鞋的人使用,特别是具有高弓足的人,慢性脚踝不稳的人或急性扭伤或腿外侧肌肉组织过度使用的人。
本发明还适用于内侧膝盖关节炎退变的人或过度磨损鞋外侧外底的人。
定义
为本申请之目的,实施如下定义:
旋后是足部和脚踝复合体的三平面运动,该运动造成导致距下关节轴线向外侧偏斜的距下关节内翻、内侧足弓抬高、足关节锁定机制、前足内收和脚踝跖屈。一般来说,旋后的足部姿势被确定为主要在休息跟骨站立位置的内翻的足跟对准的高弓足。为本申请之目的,过度旋后是当步态期间旋后发生不协调或比例过大。
旋前是足部和脚踝复合体的三平面运动,该运动造成导致距下关节轴线向内侧偏斜的距下关节外翻、内侧足弓降低、足关节解锁、前足外展和脚踝背屈。一般来说,旋前的足部姿势被确定为主要在休息跟骨站立位置的外翻的足跟对准的低弓足。为本申请之目的,过度旋前是当步态期间旋前发生不协调或比例过大。
距下关节内翻是由足跟的指向身体的中线(向内)的远端部分确定的足跟(跟骨)的前平面运动。为本申请之目的,内翻的可以与内偏的(varus)相互替换。
距下关节外翻是由足跟的指向远离身体的中线(向外)的远端部分确定的足跟(跟骨)的前平面运动。为本申请之目的,外翻的可以与外偏的(valgus)相互替换。
力矩是由力作用在半径上产生的转动效应。力矩=F×r
内侧柱是位于装置内侧上的坚固的外部凹口或扩口(flare),它平衡到中立以减少矫正装置的任何内侧“摆动”运动。内侧柱可以(或可以不)用与该矫正装置垫体同样的材料制成。
外侧柱是位于装置外侧的坚固的外部凹口或扩口,它平衡到中立以减少矫正装置的任何外侧“摆动”运动。外侧柱可以(或可以不)用与该矫正装置垫体同样的材料制成。
内偏楔在后足、中足部和/或前足可以位于矫正装置外壳内部(例如内侧薄片)或外部(内翻柱)。内翻楔的内侧比外侧高并且可以用角度或毫米来测量。通过向内侧改变压力中心,可以内翻对应的足部位置。
外偏楔在后足、中足部和/或前足可以位于矫正装置外壳内部(例如外侧薄片)或外部(外翻柱)。外偏楔的外侧比内侧高并且可以用角度或毫米来测量。通过向外侧改变压力中心,可以外翻对应的足部位置。
足部中立位置(称作中立跟骨站立位置NCSP)是距舟关节在该位置应该是一致的,并且距下关节复合体的中间位置不是内翻,也不是外翻的位置。
足部休息位置(称作休息跟骨站立位置RCSP)是指人在轻松站立时的位置。足部休息位置的测量与垂直测量或NCSP测量有关。大多数人在他们的RCSP自然站立时不是外翻就是内翻。
足部的内侧纵弓涉及跟骨、距骨、舟骨、三个楔形骨以及第一/第二/第三跖骨之间的纵向空间。顶点位于距骨的上关节表面,并且站立时支撑顶点的两个支墩是跟骨后部跖面的结节和第一、第二、第三跖骨前部的头。一般地,在带跟鞋中,大脚趾被动的背屈导致足部内侧纵弓升高。矫正装置内侧弓高度以背部垫体的最低点(图1中1a)和内侧弓背部顶点(图1中3)之间的距离来测量。为了此申请之目的,建立在装置中的支撑内侧纵弓的标高称为内侧弓支撑或内侧弓轮廓。
外侧纵弓是在足部外侧的足弓,向下凹,由跖骨、三楔形骨、骰骨以及跟骨形成。在矫正装置中骰骨凹口是外侧足弓支撑的普通形态。装置的外侧足弓高度以背部垫体的最低位置(图1中1a)和外侧足弓背部顶点(图1中4)之间的距离来测量。为本申请之目的,建立在装置中的支撑外侧纵弓的标高称为外侧足弓支撑、骰骨凹口或外侧足弓轮廓。
距下关节也被称为距跟关节并且它是后足的关键关节。它导致了内翻和外翻并且当移动与中足部接合时导致旋后和旋前。
足跟杯的高度可以用背部垫体的最低位置(图1中1a)到后跟顶缘的距离来测量并且足跟杯向内侧、向后以及向外侧环绕足跟。由于固有楔形,测量在内侧、后部以及外侧位置之间存在差异。
垫体是实现装置从后跟杯到前缘作为一个整体的材料。垫体向前停止在跖骨或脚趾下或延伸过脚趾到达鞋子的整体长度。
顶盖是在装置垫体之上的材料,其可以停止在垫体的后缘或可以继续向前。它可以由与垫体相同的材料或与垫体不同的材料制成。
弓垫是鞋底的刚性结构,位于内底和外底之间,用来支撑足弓。
发明目的
本发明目的在于基本上克服或至少改善一个或多个与带跟鞋相关的上述生物力学并发症
目的在于提供一种矫正装置,该矫正装置通过外侧足支撑,内侧足弓支撑和减震材料来同时提供结构上和生物力学上可适用的缓冲、足部支撑和脚踝稳定性。
另一个目的在于提供内底或鞋弓垫结构,该内底或鞋弓垫结构可以在制造过程中被固定到内部或者在用户购买之后加入至鞋。
发明内容
在第一方面,本发明提供与平底鞋、运动鞋、正装鞋或带跟鞋一起使用的矫正装置,该装置包括:
主体部分;
内侧弓,该内侧弓由远离主体部分向上延伸的凸起限定;以及
外偏楔,该外偏楔位于主体部分的后足部分,中足部分和前足部分,该外偏楔适于在外侧足部下集中支撑。
该外偏楔优选地沿着矫正装置的外侧缘从后足部分向前足部分延伸。
外偏楔优选地相对于主体部分以约7度(在竖直高度上大约4.5mm)来成角度,然而该测量值可以根据装置的目的被增大或者减小,并且可以在2mm和20mm之间进行测量,其中装置的外侧缘在垂直方向上比内侧缘高。
外偏楔优选地是在内部固定的外侧薄片。
该矫正装置还可以包括外侧弓,该外侧弓由远离主体部分垂直延伸的凸起限定,该外侧弓在该装置的外侧部分是最高的,并且通常适合位于用户足部的骰骨之下。
该矫正装置还可以包括跖骨棒。
在第二方面,本发明提供将矫正装置装配至鞋的方法,该方法包括如下步骤:
确定矫正装置的尺寸,使得矫正装置的主体部分的长度大体上与用户的足部或用户足部的近端部分的长度对应;
其中该矫正装置包括位于主体部分的后足部分和/或前足部分的外偏楔,该外偏楔适于集中外侧足部下的支撑。
该方法还可以包括如下步骤:对远离主体部分向上延伸的外侧弓进行定位,使得外侧弓的高点大体位于用户的足部的骰骨下面。
该方法还可以包括如下步骤:在防止矫正装置在鞋内移动或滑动的足后和/或足前之一或两者处,将自粘层加到主体的跖表面。这可以是可移除的和可重复使用的,或不可以是可移除的和可重复使用的。该实施例不改变矫正装置的整体楔入。
在第三方面,本发明提供用于修改高跟鞋的弓垫或内底的设计并且可以在制造过程期间直接集成至鞋的设计平台。本发明的设计可以包括但不限于,沿着带跟鞋鞋底从后足往前足延伸的外偏楔。在此情况下,本发明的主体部分被并入鞋的弓垫或内底的设计。
发明人已经实施了临床研究和初步研究,将在带跟鞋中的大脚趾的被动背屈与导致距下关节内翻,足部旋后和随后的外侧不稳定的旋绞机制的持续作用关联。该研究的发现直接使旋后足位置与穿高跟鞋相关的肌骨骼疲劳和疼痛相关联。
继而,发明人将来自初步研究的新发现应用于设计独特的高跟鞋内底结构,该内底结构在后足、中足和前足以及内侧弓轮廓施加外翻力。内底的外翻力抵抗足部的旋后力,因此最小化与带跟鞋相关的生物力学并发症(以下概述)。本发明还包括在整个内底结构中可延展形成的减震材料。
进一步突出本发明背后的研究结果:
a.发明人通过临床检验和初步研究发现穿高跟鞋站立和行走会随着时间的推移在稳定脚踝的肌肉结构中产生过度活动和疲劳,导致疼痛和损伤风险。
b.由发明人着手的初步研究中的发现确认了高跟鞋的倾斜度导致高度的脚踝跖屈,又导致了胫后肌的显著同轴作用和随后的距下关节内翻。由此,足部不能维持中立平衡并且主要的外侧脚踝稳定肌(stabiliser)(即腓骨长肌、腓骨短肌、第三腓骨肌和腓肠外侧肌)承受(place)持续的偏心负载以防止足部过分旋后。
c.主要外侧踝稳定肌的持续的偏心收缩导致肌肉疲劳,损伤肌肉维持抵抗胫骨后肌的主要内翻收缩的所需力的输出能力。当主要外侧脚踝稳定肌疲劳,用次级踝稳定肌(即趾长伸肌/趾短伸肌、拇长伸肌/拇短伸肌、趾长屈肌/趾短屈肌、拇长屈肌/拇短屈肌)来协助稳定脚踝,来主要防止过度旋后。
d.此外,发明人的研究发现存在一小部分人(大约20%)穿着带跟鞋走路时旋前不协调并且因此本发明提供内侧弓部,该内侧弓部为该群体提供内侧纵弓支撑,但是弓的轮廓并没有实质上被抬高到足以对足部施加内翻力的程度。
e.发明者进行的初步研究的结果假设,在一段时间内,下肢外侧肌肉不能维持用于提供有效行走所需的足够的脚踝稳定性所需的肌肉力量水平,导致足部进一步旋后,从而导致进一步的不稳定和肌肉疼痛。为了有助于脚踝稳定,假定伸肌和屈肌肌肉组织(次级脚踝稳定基)不协调地作用,帮助提供足部和脚踝稳定以及帮助运动,导致进一步的肌肉骨骼疼痛和生物力学补偿,即脚趾的抓紧。
总之,发明者的研究结果在于旋绞机制的持续作用,导致足部旋后并在内侧和外侧脚踝/下肢肌肉组织之间造成不平衡,加上次级脚踝稳定肌的不协调补充(recruitment),从而导致带跟鞋相关的足部和下肢疼痛以及与带跟鞋使用相关的脚趾抓紧和畸形的发生。
优选实施例的设计包括后足、中足以及前足外偏设计,该设计有助于足部承受由旋绞机制的持续作用引起的旋后力,并因此提供外侧足部和脚踝的稳定性。然后,这又减少外侧脚踝稳定肌的偏心负载(包括主要和次级),从而最小化随后的肌肉疲劳,肌肉骨骼疼痛,关节负载和生物力学补偿。
附图说明
本发明的优选实施例现在将参照附图以具体实例进行描述,其中:
图1是根据本发明的矫正装置的第一透视图;
图2是图1矫正装置的第二透视图;
图3是根据图1的矫正装置的俯视图;
图4是根据本发明第二实施例的矫正装置的俯视图;
图5是通过图1的装置的后跟部分的截面图;以及
图6是通过图1的装置的内侧部分的截面图。
优选实施例的具体说明
本文公开了外偏楔形矫正器或矫正装置10,主要用于后跟高于3cm的带跟鞋。然而,该矫正装置10可以用于包括运动鞋、平底鞋、凉鞋以及正装鞋的其它鞋类型。该矫正装置10集中于外侧后足、外侧足中部和外侧前足下的支撑,最小化足部的旋后程度。通过在带跟鞋中最小化足部的旋后程度发生的生物力学变化包括外侧脚踝的稳定化,腓侧和外侧腓肠肌肌肉组织的负载解除(unload)以及屈肌和伸肌肌肉组织的不协调作用的减少。
现有的带跟鞋用矫正器特征在于集中于内侧足弓的支撑并且一些矫正器包括后足和/或前足的内翻楔,有可能加剧与带跟鞋相关的负面生物力学变化。本文公开的矫正装置10向足部提供反向力,集中对外侧足部的支撑以使足部对准接近中立(neutral),防止在带跟鞋中过度旋后和同时的相关生物力学的变化。
当矫正装置10沿着鞋的外侧缘集中大部分支撑时,矫正装置10还包括在穿带跟鞋时需要内侧纵弓支撑的用户群体的内侧弓支撑体40。内侧弓轮廓或支撑体40的竖直高度不够大,不足以对足部施加内翻力,因此不会加剧与带跟鞋相关的负面生物力学变化。
参见图1,矫正装置10在侧面上为细长衬垫,具有以配合紧密贴合的且狭窄的鞋类——可以是露趾鞋、后带挑空式凉鞋、后开口式鞋、系带鞋或封闭鞋——的周缘尺寸和垫体(shell)厚度。
矫正装置10包括主体部分或垫体25,提供用于对足部进行支撑和缓冲的柔软和柔韧的平台。内侧弓轮廓40是柔软和可延展的,以提供舒适性和防止那些需要内侧支撑的消费者的足部的过度旋前。
矫正装置10包括外偏楔20,外偏楔支撑外侧足部以减少在带跟鞋中时的旋绞(windlass)机制的旋后作用。外偏楔20可以是外侧薄片或可替代地是外部外偏柱(posting)。
矫正装置10可以与包括但不限于带跟鞋(不同垂直间距),正装鞋,平底鞋,凉鞋,坡跟鞋和运动鞋的鞋类一起使用。矫正装置10可以作为可被消费者加入到任何合适的鞋类的现成的矫正装置10提供。可替代地,可以在鞋制造过程中加入矫正装置10以代替标准的鞋衬垫(内底)并且作为鞋的包括物来出售。
矫正装置10的形状和轮廓——从后足远侧地延伸直到前足的外偏楔20以及内侧弓轮廓40——可以应用于在制造过程中形成带跟鞋的弓垫(shank)。
参见图1,矫正装置10描述为具有约1.5mm的厚度的垫体或主体部分25。主体部分25围绕矫正装置10的前缘和内侧周缘逐渐变小。
除了从装置25的外侧到内侧逐渐变小的厚度1.5mm的主体或垫体25,装置10的高的外侧还包括外偏楔20。即,高点由矫正器限定,矫正器以约7度的角度远离主体25部分向上变小(约4.5mm总竖直高度),然而朝向外侧可以最高达20mm。楔20的效果最好参见图2,其示出从高的外侧到低的内侧的逐渐变小。另外,从外侧向内侧的下降可能是一致的倾斜,可能是阶梯状的,或者可能是两者的结合。
图1和图4示出了从外侧向内侧逐渐下降的变化。外偏楔20或柱可以是但不限于从外侧到内侧从7度至0度(等同于在该装置外侧缘上约4.5mm的竖直高度——除去该装置的1.5mm主体或垫体25的厚度),然而在该装置的外侧缘上的竖直高度可以最高达20mm。
矫正装置10包括内侧弓支撑体40,该内侧弓支撑体如图1所确定并且由远离主体部分25向上进入足部的内侧纵弓空间的装置10高度的升高来限定。如图1和2所描绘的,内侧弓支撑体限定了曲线的突出或凸起。
内侧弓支撑体40从后部向前部高度逐渐升高,其中最高点位于在以相似梯度朝前部下降之前的弓的约中点处。内侧弓支撑体40的高度还远离内侧朝外侧下降。参见图1至图3,示出了内侧弓支撑体40的轮廓。
内侧弓支撑体40有助于旋前穿戴者。
图2描绘了矫正装置10的侧向透视侧视图。在此图中,内侧弓支撑体40的高点升高到主体部分25之上。在优选的实施例中,内侧弓支撑体40的高度可以是20mm(±19mm)。
如图1和图2的实施例所描绘的,弯曲的通道或凹陷44位于内侧弓支撑体40和外偏楔20的内侧边缘之间。通道44的存在可能有利于装置的制造过程和/或销售,以便在视觉上区分内侧弓支撑体40和外偏楔20。
在一些实施例中,矫正装置10可以包括顶盖或层。顶盖材料将均匀地粘附在矫正装置10的整个背表面上,因此不会改变该装置的整体楔形,并且因此其测量值不包括在图中。
在一些实施例中,矫正装置10可以包括跖弓区域处的高度的增加,以限定足部的跖弓区域下方的跖骨支撑体60。图4示出了附加高度从主体25起向上且一致地延伸的区域,在矫正装置10的该点处局部地消除了外偏楔20。跖骨支撑体60——又称为跖凸圆、凸起或棒60——的高度可以为6mm(±5.5mm),并且在每个边缘上逐渐向下变小,以与外偏楔20连结。
在一些实施例中,矫正装置10可以包括外侧弓支撑体50(也称作骰骨凹口),除了外偏楔20之外,该外侧弓支撑体提供进一步的外侧足部支撑。如图4所示,外侧弓支撑体50是从外偏楔20的最高部分向上延伸的附加高度区域,该附加高度区域位于与足部的外侧纵弓对应的位置。
图1和2示出了位于低的内侧的外侧和上面的外偏楔20。如这些图所示,存在从矫正设备10的升高的外侧到内侧(减小的厚度)的楔形效应或锥度。
图2描绘了矫正装置10的侧向透视侧视图。装置10的高的外侧包括7度的外偏楔20(相当于在装置的外侧缘上约4.5mm竖直高度)+1.5mm垫体厚度,然而该角度可以根据装置10的目的增大(最高到20mm的高度)或减小(到2mm的高度)。图2还示出了位于装置10外侧的内侧和上面的内侧弓支撑体40的轮廓。
矫正装置10解决了当穿带跟鞋,脚踝位于高度跖屈时,用户足部的过度旋后的问题。因此,矫正装置10解决了处于带跟鞋中时足部在横平面和前平面(如上面所确定的)发生的后续生物力学变化。该设计和概念可以用于进一步研究、矫正器的方案和设计以及鞋和现成矫正装置的制造。
矫正装置10利用外偏楔20将支撑集中在外侧后足、外侧足中部和外侧前足之下,以在处于带跟鞋中时平衡足部和脚踝。矫正装置10可以被制造,并且作为现成的、被定制成具有附加物的或者适于在鞋制造过程中胶合、粘附或缝制到鞋内的矫正装置来销售。
下列标高和材料与附图和与此申请相关的附图说明直接相关。
为本申请之目的,小矫正装置10的尺寸的测量值是标准的且测量值随更大尺寸的矫正装置增加或随更小尺寸的矫正装置减少。当此概念应用于鞋制造过程中,尺寸可以改变以适应最后一次的定制。在此情况下,它可以代替标准的鞋衬垫,所以,其尺寸将按照标准鞋衬垫的鞋向周界延伸。
材料和尺寸
用于带跟鞋、正装鞋或平底鞋的矫正装置10将对于狭窄和浅的鞋采用适当尺寸。垫体或主体部分25可由但不限于开孔或闭孔聚乙烯泡沫、开孔或闭孔聚氨酯泡沫、交联聚乙烯泡沫、EVA泡沫(乙烯醋酸乙烯酯)、凝胶、硅、聚丙烯或任何其他多孔橡胶和/或泡沫材料制造。垫体25,外偏楔20和内侧弓支撑体40可以是厚度,密度和/或材料的组合。
顶盖可由但不限于开孔或闭孔聚氨酯,开孔或闭孔聚乙烯,泡沫材料,多孔橡胶,氯丁橡胶,尼龙,乙烯基,皮革,凝胶和硅制成。顶盖可以延伸到装置10的全长,或者不可以延伸到装置10的全长。
内侧弓支撑体40(图1)的高点可以是但不限于20mm(±19mm)并且远离高点逐渐变小。
外侧弓支撑体50是根据优选实施例(图4)的附加特征。外侧弓支撑体将围绕周缘变小并且将在用户骰骨下达到最高,其中用户骰骨的最高点测量值为3mm(±2mm)。外侧弓支撑体50的高度是对外偏(外侧)楔20的测量值的补充。
外偏楔20可以从后足延伸直到前足,或可以部分地延伸,或变小以减少后足和前足之间的外偏支撑体。在前足处,外偏柱在第一跖骨头内侧下方将是0mm并且在第五跖骨轴外侧下横向延伸达到20mm。后跟杯的高度将取决于(dictate)外侧上的外偏楔20的高度(高达20mm)并且将是在内侧上的垫体的最小厚度(图4)。矫正器10的外偏楔20可以纵向地变小,在脚趾下达到零(图1)。
在实施例中,如图5所描绘的,垫体25可以包括位于第2、第3和第4跖骨头的近端边缘的6mm(±5.5mm)的高跖骨支撑体60。
有利地,外偏楔20明显地减小由处于带跟鞋内时脚踝的跖屈位置造成的足部旋后的程度。
有利地,通过减小足部旋后的程度,矫正装置10改善了内侧和外侧脚踝稳定肌肉组织之间的平衡并且减小了次级脚踝稳定肌的作用,因此减少了脚趾的抓紧效应。
有利地,通过改善脚踝稳定性,那些使用矫正装置10的人可以经历较小的肌肉疲劳,较少的疼痛,更大的耐力,减小的外脚踝不稳定性和降低的相关的损伤——诸如摔倒、骨折、韧带拉伤、肌腱病以及与穿着带跟鞋步行和站立相关的软组织过度使用——的可能性。
有利地,矫正装置10通过施加集中在外侧前足、外侧中足部和外侧后足下的角向力来降低前足、中足部以及后足处的旋后程度。
尽管本发明已经参照具体实例进行了描述,但本领域技术人员应当理解本发明可以以许多其他形式实现。

Claims (12)

1.与带跟鞋、正装鞋、平底鞋或运动鞋一起使用的矫正装置,所述装置包括:
主体;
内侧弓支撑体,所述内侧弓支撑体由远离所述主体向上延伸的凸起限定;以及
外偏楔,所述外偏楔由位于所述主体的外侧后足部分和/或外侧中足部分和/或外侧前足部分的凸起限定,所述外偏楔适于使足部外翻并且使所述装置的支撑在外侧上集中。
2.根据权利要求1所述的矫正装置,其中所述外偏楔沿着所述矫正装置从后足部分、通过中足部分延伸到前足部分。
3.根据权利要求1或2所述的矫正装置,其中所述外偏楔在所述装置的外侧面上相对于所述主体测得的竖直高度最高达20mm。
4.根据前述权利要求中任一项所述的矫正装置,其中所述外偏楔是定位在内部的外侧薄片。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的矫正装置,其中所述外偏楔是外部外偏柱。
6.根据前述权利要求中任一项所述的矫正装置,还包括由远离所述主体延伸的凸起限定的外侧弓支撑体,所述外侧弓支撑体在所述装置的外侧部分处最高,并且通常适于位于用户足部的骰骨之下。
7.根据前述权利要求中任一项所述的矫正装置,还包括跖骨支撑体。
8.根据前述权利要求中任一项所述的矫正装置,还包括20mm+/-19mm的内侧弓轮廓。
9.根据前述权利要求中任一项所述的矫正装置,其中弯曲通道位于所述内侧弓支撑体和所述外偏楔的内侧边缘之间。
10.将矫正装置装配至鞋的方法,所述方法包括以下步骤:
确定所述矫正装置的尺寸,使得所述矫正装置的主体的长度大体上与用户的足部或用户的足部的近端部分的长度对应;
其中所述矫正装置包括位于主体部分的后足部分和/或前足部分的外偏楔,所述外偏楔适于在外侧足部下提供集中的支撑以减少过度的旋后。
11.根据权利要求10所述的方法,还包括如下步骤:对远离所述主体部分向上延伸的外侧弓支撑体进行定位,使得所述外侧弓支撑体的高点大体位于用户的足部的骰骨下面。
12.根据权利要求10或11所述的方法,其中所述矫正装置被制造为鞋内的弓垫或鞋衬垫设计的一部分。
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