CN107904571A - 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置 - Google Patents

一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置 Download PDF

Info

Publication number
CN107904571A
CN107904571A CN201711316625.9A CN201711316625A CN107904571A CN 107904571 A CN107904571 A CN 107904571A CN 201711316625 A CN201711316625 A CN 201711316625A CN 107904571 A CN107904571 A CN 107904571A
Authority
CN
China
Prior art keywords
boiler tube
reactor
refractory ceramics
liner
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201711316625.9A
Other languages
English (en)
Inventor
任文才
马超群
成会明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Institute of Metal Research of CAS
Original Assignee
Institute of Metal Research of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Institute of Metal Research of CAS filed Critical Institute of Metal Research of CAS
Priority to CN201711316625.9A priority Critical patent/CN107904571A/zh
Publication of CN107904571A publication Critical patent/CN107904571A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4417Methods specially adapted for coating powder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,属于粉体材料生产技术领域。该装置包括加热炉体、耐高温陶瓷炉管和内衬反应器;所述内衬反应器置于耐高温陶瓷炉管内部,所述加热炉体用于对耐高温陶瓷炉管和内衬反应器进行加热;所述内衬反应器为具有中空反应腔的圆柱状结构,所述中空反应腔为两端细中间粗的结构;所述中空反应腔内设有沟槽和/或翻料挡板结构。该反应装置可以在高温环境下实现对反应粉体的翻转搅拌,避免了常规CVD装置在反应过程中由于气氛条件不均造成的粉体分层、板结等问题。同时因为设计了分体式内衬反应器和快速装卸法兰,可实现连续装卸物料以及物料快速冷却。

Description

一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应 装置
技术领域
本发明涉及粉体材料生产技术领域,具体涉及一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置。
背景技术
为了实现单一材料无法具备的功能(如金属材料不具备轻质、柔性的特点,又如高分子材料不具备高导热、导电性特点等),人们开发制备了各种类型的复合材料。一般来说,复合材料是在基体中添加粉体形态的功能填料制得的。因此,所添加粉体颗粒自身的质量和性质直接影响复合材料的性能。
化学气相沉积(CVD)法是一种广泛应用的材料制备方法,相比于化学合成等方式,化学气相沉积工艺更加精准可控,所制备材料具有更少缺陷和更高质量。但是,由于普通CVD装置炉管处于静止状态,反应气氛只能到达基底材料表层,只适合薄膜材料的制备。特别是在一些应用场合(如金属沉积、非金属基底上制备高质量石墨烯等),需要反应温度达到1300℃-2000℃,但由于现有CVD装置材质和设计等问题,很难实现。
因此,研发一种能够在高温气氛环境下采用化学气相沉积装置实现一些高质量粉体材料的装置,具有重要意义。
发明内容
针对现有化学气相沉积设备无法在高温气氛环境下(1300℃-2000℃)实现粉体材料制备的问题,本发明的目的在于提供一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,该装置通过对其结构的巧妙设计及对材质等的改进,可以在高温环境下实现对反应粉体的翻转搅拌,同时,因为设计了可推出的分体式内衬反应器和快速装卸法兰,可实现连续装卸物料以及物料快速冷却,提高了粉体生产效率。
为实现上述目的,本发明所采用的技术方案如下:
一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,该装置包括加热炉体、耐高温陶瓷炉管和内衬反应器;所述内衬反应器置于耐高温陶瓷炉管内部,所述加热炉体设于耐高温陶瓷炉管底部,加热炉体用于对耐高温陶瓷炉管和内衬反应器进行加热;其中:所述内衬反应器为具有中空反应腔的圆柱状结构,所述中空反应腔为两端细中间粗的结构;所述中空反应腔内设有沟槽和/或翻料挡板结构。
所述沟槽为多个,均匀分布于所述内衬反应器的内壁上;所述翻料挡板设于内衬反应器内中间位置,包括若干沿内衬反应器轴向分布的条形挡板。所述沟槽或翻料挡板能够带动反应物料随炉管旋转而翻动混合;
所述耐高温炉管为陶瓷材质;所述内衬反应器的材料为石墨、氮化硼、陶瓷或耐高温金属材料。
所述内衬反应器的外径与所述耐高温陶瓷炉管内径相适应,以实现内衬反应器与耐高温陶瓷炉管的同步旋转。
所述内衬反应器为分体结构,包括以螺纹连接的反应器前段(进气)和反应器后段(出气),该分体结构方便拆卸及填装、取出物料操作;所述内衬反应器的前段设有进气口,后段设有出气口;进气口的内径大于出气口的内径,以保证气体充满反应区。
该装置还包括齿轮传动旋转系统和可旋转密封接头,实现耐高温陶瓷炉管和内衬反应器按设定速度匀速旋转;其中:所述齿轮传动旋转系统用于使耐高温陶瓷炉管产生轴向旋转;所述可旋转密封接头通过密封法兰安装在所述耐高温陶瓷炉管的两端;可旋转密封接头与密封法兰之间设置密封圈。
所述齿轮传动旋转系统包括可调速电机、支撑滑轮和传动齿轮;可调速电机的输出轴带动所述传动齿轮转动,所述耐高温陶瓷炉管上套装并固定有环状齿轮,所述传动齿轮通过与环状齿轮啮合从而带动耐高温陶瓷炉管的转动;所述耐高温陶瓷炉管通过所述支撑滑轮支撑且能够在支撑滑轮上自由转动。
所述耐高温陶瓷炉管两端的可旋转密封接头上分别连接进气管和出气管;进气管和出气管能够相对于可旋转密封接头转动。使用时,可旋转密封接头、密封法兰、耐高温陶瓷炉管和内衬反应器在可调速电机的动力下进行同步转动,进气管和出气管静止。
该装置还包括气体流量控制系统、风冷系统、真空系统和气压控制系统;所述气体流量控制系统与通过进气管进入内衬反应器;能够对反应气体流量进行精确控制,可控制同时或单个通入保护气、反应气等;所述风冷系统设于所述耐高温陶瓷炉管上方,用于防止因高温炉外炉管部分过热影响密封胶圈密封性的问题;所述真空系统和气压控制系统分别通过管道与所述出气管相连接,所述真空系统用于实现反应器内真空反应环境,所述气压控制系统用于实现反应器内高气压(最高5MPa)反应环境。
本发明的设计原理和有益效果如下:
1、本发明针对所述化学气相沉积装置需在高温气氛环境下实现反应腔旋转工作的特定工艺要求,在反应炉管材质以及分体式内衬反应器材质和结构上进行了创新:首先采用了耐高温的陶瓷炉管作为外管,既满足了耐高温的要求同时保护内衬反应器;同时,针对陶瓷材质难以机械加工的问题,选用石墨或氮化硼等耐高温的材质设计了内衬式反应器。通过炉管与内衬的配合使用,满足了极高温度气氛环境下的使用要求。
2、本发明所设计的耐高温内衬反应器外径与炉管内径精确匹配以实现快速装卸并可随炉管同步旋转。反应器设计为为圆柱状中空结构,内径为中间粗两头细的结构,此结构可保证物料集中于最中间的恒温反应区;所述耐高温内衬反应器为分体结构,至少包含前(进气)后(出气)两段,以螺纹连接,方便拆卸及填装、取出物料操作;所设计的耐高温内衬反应器的进气口内径要大于出气口内径以保证气体充满反应区;所述耐高温内衬反应器内壁均匀分布多组沟槽或设有翻料挡板结构,以便带动物料随炉管旋转翻动混合。
3、本发明所设计反应装置:包含可调速的齿轮传动旋转系统和可旋转密封接头,从而可以实现炉管及内衬反应器按设定速度匀速旋转。该装置设有气体流量控制系统,可对反应气体流量进行精确控制,可控制同时或单个通入保护气、反应气等。该装置设计有风冷系统,以防止因高温炉外炉管部分过热影响密封胶圈密封性的问题;该装置设计有真空抽气部分,可以实现真空反应环境;该装置设有气压控制系统,可实现高气压(最高5MPa)反应环境。
4、本发明所设计的反应装置可以在高温环境下(1300℃-2000℃)实现对反应粉体的翻转搅拌,避免了常规CVD装置在反应过程中由于气氛条件不均造成的粉体分层、板结等问题。
5、本发明所设计的反应装置,因为设计了可推出的分体式内衬反应器和快速装卸法兰,可实现连续装卸物料以及物料快速冷却。大大提高了生产效率,又节约了能源,降低了生产成本,是一种理想的高温环境下粉体材料CVD反应装置。
附图说明
图1为利用普通化学气相沉积装置所制备粉体照片。
图2为本发明所述反应装置的整体结构示意图。
图3为本发明所述内衬反应器的结构示意图(截面图);其中:(a)为带有中空反应腔的内衬反应器;(b)为带有翻料挡板的中空反应腔。
图4为本发明所述内衬反应器的结构示意图;其中:(a)和(b)为内壁带有沟槽的内衬反应器的左右视图;(c)和(d)为带有翻料挡板的内衬反应器的左右视图;(e)为翻料挡板结构。
图5为实施例1设计的反应装置的整体实物照片。
图6为本发明所述内衬反应器实物照片(带有沟槽结构);其中(a)和(b)为不同视角的照片。
图7为利用本发明所述反应装置所制备粉体照片。
图中:1-反应器前段;2-反应器后段;3-翻料挡板;4-耐高温陶瓷管;5-加热炉体;6-风冷系统;7-支撑滑轮;8-可调速电机;9-可拆卸密封法兰;10-可旋转密封接头;11-气体流量控制系统;12-炉体支架;13-真空系统;14-气压控制系统。
具体实施方式
以下结合附图和实施例详述本发明。
本发明为用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其结构如图2-4所示。该装置包括5加热炉体、耐高温陶瓷炉管4和内衬反应器;所述内衬反应器置于耐高温陶瓷炉管内部,所述加热炉体设于耐高温陶瓷炉管底部,所述内衬反应器为具有中空反应腔的圆柱状结构,所述中空反应腔为两端细中间粗的结构;所述中空反应腔内设有沟槽和/或翻料挡板结构3。
所述沟槽为多个,均匀分布于所述内衬反应器的内壁上;所述翻料挡板设于内衬反应器内中间位置,包括若干沿内衬反应器轴向分布的条形挡板;所述沟槽或翻料挡板能够带动反应物料随炉管旋转而翻动混合。
所述耐高温陶瓷炉管为刚玉材质;所述内衬反应器的材料为石墨、氮化硼、陶瓷或耐高温金属材料。所述内衬反应器的外径与所述耐高温陶瓷炉管内径相适应,以实现内衬反应器与耐高温陶瓷炉管的同步旋转。
所述内衬反应器为分体结构,包括以螺纹连接的反应器前段1和反应器后段2;反应器前段1设有进气口,反应器后段2设有出气口;进气口的内径大于出气口的内径,以保证气体充满反应区。
该装置还包括齿轮传动旋转系统和可旋转密封接头10,实现耐高温陶瓷炉管和内衬反应器按设定速度匀速旋转;其中:所述齿轮传动旋转系统用于使耐高温陶瓷炉管产生轴向旋转;所述可旋转密封接头通过可折卸密封法兰9安装在所述耐高温陶瓷炉管的两端;可旋转密封接头与可折卸密封法兰之间设置密封圈。
所述齿轮传动旋转系统包括可调速电机8、支撑滑轮7和传动齿轮;可调速电机的输出轴带动所述传动齿轮转动,所述耐高温陶瓷炉管上套装并固定有环状齿轮,所述传动齿轮通过与环状齿轮啮合从而带动耐高温陶瓷炉管的转动;所述耐高温陶瓷炉管通过所述支撑滑轮7支撑且能够在支撑滑轮7上自由转动。
所述耐高温陶瓷炉管两端的可旋转密封接头10上分别连接进气管和出气管;进气管和出气管能够相对于可旋转密封接头转动。使用时,可旋转密封接头、可拆卸密封法兰、耐高温陶瓷炉管和内衬反应器在可调速电机的动力下进行同步转动,进气管和出气管静止。
该装置还包括气体流量控制系统11、风冷系统6、真空系统13和气压控制系统14;所述气体流量控制系统与通过进气管进入内衬反应器;能够对反应气体流量进行精确控制,可控制同时或单个通入保护气、反应气等;所述风冷系统设于所述耐高温陶瓷炉管上方,用于防止因高温炉外炉管部分过热影响密封胶圈密封性的问题;所述真空系统和气压控制系统分别通过管道与所述出气管相连接,所述真空系统用于实现反应器内真空反应环境,所述气压控制系统用于实现反应器内高气压(最高5MPa)反应环境。
实施例1:
本实施例设计的化学气相沉积反应装置照片见图5-6。该装置中加热炉体5可加热至2000℃,所述加热炉安放于炉体支架上12。所述耐高温陶瓷炉管采用耐高温刚玉炉管,外径50毫米,内径40毫米,管长150厘米。炉管两端通过一组可快速装卸法兰9密封连接。
所述内衬反应器选用石墨材质,反应器为圆柱状中空结构,反应器外径39.5毫米,与炉管内径精确匹配以实现快速装卸并可随炉管同步旋转。
所述内衬反应器内的中空反应腔为中间粗两头细的结构,此结构可保证物料集中于最中间的恒温反应区;所述内衬反应器为分体结构,至少包含前(进气)后(出气)两段,以螺纹连接,方便拆卸及填装、取出物料操作;所设计的内衬反应器的进气口内径要大于出气口内径以保证气体充满反应区;所述内衬反应器内壁均匀分布多组沟槽或设有独立的翻料挡板3,所述翻料挡板优选的结构为:包括4个条形挡板和两个圆形支架,其中4个挡板沿内衬反应器的内壁和轴向分布,4个条形挡板的端部分别由两个圆形支架支撑。沟槽或翻料挡板的设计能够带动物料随炉管旋转翻动混合。
本实施例中设计了可调速的齿轮传动旋转系统和一组可旋转密封接头10,两端分别连接进气管和排气管,从而可以实现炉管及内衬反应器按设定速度匀速旋转。
该装置设有气体流量控制系统(包含多组气体流量计、气体管路、阀门等),可对反应气体流量进行精确控制,可控制同时或单个通入保护气、反应气等。
该装置设计有风冷系统,以防止因高温炉外炉管部分过热影响密封胶圈密封性的问题;该装置设计有真空系统(包含真空泵、管路和控制阀门等),可以实现真空反应环境;该装置设有气压控制系统(包含气压表、管路和控制阀门等),可实现高压(5MPa)反应状态。
图1为利用普通CVD装置在1500℃所制备的石墨烯包覆氧化铝复合粉体材料的照片,可以看到由于反应环境中气氛分布不均,材料出现了明显的分层、板结现象;图7为利用本发明所设计装置在相同的温度和气氛条件下所制备的石墨烯包覆氧化铝复合粉体材料的照片,可以看到所制备的粉体包覆均匀、颜色统一,无分层板结现象。
上述实例仅作参考,具有和本专利相似或者从本专利思路出发而延伸的旋转翻料高温反应装置,均在本专利的保护范围。

Claims (10)

1.一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:该装置包括加热炉体、耐高温陶瓷炉管和内衬反应器;所述内衬反应器置于耐高温陶瓷炉管内部,所述加热炉体用于对耐高温陶瓷炉管和内衬反应器进行加热;其中:所述内衬反应器为具有中空反应腔的圆柱状结构,所述中空反应腔为两端细中间粗的结构;所述中空反应腔内设有沟槽和/或翻料挡板结构。
2.根据权利要求1所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:所述沟槽为多个,均匀分布于所述内衬反应器的内壁上;所述沟槽或翻料挡板能够带动反应物料随炉管旋转而翻动混合。
3.根据权利要求2所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:所述翻料挡板设于内衬反应器内中间位置,包括若干沿内衬反应器轴向分布的条形挡板。
4.根据权利要求1所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:所述耐高温炉管为陶瓷材质;所述内衬反应器的材料为石墨、氮化硼、陶瓷或耐高温金属材料。
5.根据权利要求1所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:所述内衬反应器的外径与所述耐高温陶瓷炉管内径相适应,以实现内衬反应器与耐高温陶瓷炉管的同步旋转。
6.根据权利要求1所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:所述内衬反应器为分体结构,包括以螺纹连接的反应器前段和反应器后段,该分体结构方便拆卸及填装、取出物料操作;所述内衬反应器的前段设有进气口,后段设有出气口;进气口的内径大于出气口的内径,以保证气体充满反应区。
7.根据权利要求1所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:该装置还包括齿轮传动旋转系统和可旋转密封接头,实现耐高温陶瓷炉管和内衬反应器按设定速度匀速旋转;其中:所述齿轮传动旋转系统用于使耐高温陶瓷炉管产生轴向旋转;所述可旋转密封接头通过密封法兰安装在所述耐高温陶瓷炉管的两端;可旋转密封接头与密封法兰之间设置密封圈。
8.根据权利要求7所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:所述齿轮传动旋转系统包括可调速电机、支撑滑轮和传动齿轮;可调速电机的输出轴带动所述传动齿轮转动,所述耐高温陶瓷炉管上套装并固定有环状齿轮,所述传动齿轮通过与环状齿轮啮合从而带动耐高温陶瓷炉管的转动;所述耐高温陶瓷炉管通过所述支撑滑轮支撑且能够在支撑滑轮上自由转动。
9.根据权利要求7所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:所述耐高温陶瓷炉管两端的可旋转密封接头上分别连接进气管和出气管;进气管和出气管能够相对于可旋转密封接头转动。使用时,可旋转密封接头、密封法兰、耐高温陶瓷炉管和内衬反应器在可调速电机的动力下进行同步转动,进气管和出气管静止。
10.根据权利要求1所述的用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置,其特征在于:该装置还包括气体流量控制系统、风冷系统、真空系统和气压控制系统;所述气体流量控制系统与通过进气管进入内衬反应器;能够对反应气体流量进行精确控制,可控制同时或单个通入保护气、反应气等;所述风冷系统设于所述耐高温陶瓷炉管上方,用于防止因高温炉外炉管部分过热影响密封胶圈密封性的问题;所述真空系统和气压控制系统分别通过管道与所述出气管相连接,所述真空系统用于实现反应器内真空反应环境,所述气压控制系统用于实现反应器内高气压反应环境。
CN201711316625.9A 2017-12-12 2017-12-12 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置 Pending CN107904571A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711316625.9A CN107904571A (zh) 2017-12-12 2017-12-12 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711316625.9A CN107904571A (zh) 2017-12-12 2017-12-12 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107904571A true CN107904571A (zh) 2018-04-13

Family

ID=61865276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711316625.9A Pending CN107904571A (zh) 2017-12-12 2017-12-12 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107904571A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110218987A (zh) * 2019-07-24 2019-09-10 合肥百思新材料研究院有限公司 一种冷壁法cvd沉积设备及其工作方法
CN110284105A (zh) * 2019-06-25 2019-09-27 郑州航空工业管理学院 一种粉体表面金属化方法及其装置
CN111561821A (zh) * 2020-04-29 2020-08-21 北京科技大学 一种可拆卸管式炉用制备扩散合金粉体加热装置及方法
CN114763604A (zh) * 2021-01-13 2022-07-19 广州墨羲科技有限公司 一种自动化旋转多管阵列式设备

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR840001107A (ko) * 1982-08-06 1984-03-28 이재영 덤블링 베드에 의한 실리콘 알로이드 아이소트로픽 파이롤리틱 카아본의 제조방법
KR20000031625A (ko) * 1998-11-05 2000-06-05 정명식 가열용 탄소 재료 및 그의 재료에 등방성 열분해 탄소 박막을형성하는 방법
KR20020010843A (ko) * 2000-07-31 2002-02-06 윤덕용 리튬이차전지 음극 활물질용 탄소재의 코팅방법
CN2841676Y (zh) * 2005-04-14 2006-11-29 沈阳恒进真空科技有限公司 真空旋转氮化炉
CN201344722Y (zh) * 2009-01-22 2009-11-11 中国科学院合肥物质科学研究院 高温旋转管式炉
CN101597504A (zh) * 2009-07-15 2009-12-09 大连理工大学 一种翻转床热固载体热解析装置
CN102277571A (zh) * 2011-05-28 2011-12-14 袁茂豪 一种制造高分子陶瓷管道内衬的工艺方法及其装置
KR101601203B1 (ko) * 2014-08-29 2016-03-09 한국원자력연구원 (초)고온가스로용 핵연료 제조를 위한 회전형 반응로를 포함하는 구형의 핵연료 소결입자 제조장치 및 이를 이용한 제조방법
KR101617721B1 (ko) * 2015-03-19 2016-05-04 한국원자력연구원 (초)고온가스로 핵연료 연료핵입자 제조를 위한 회전형 반응장치를 포함하는 구형의 연료핵소결입자 제조장치
CN207918948U (zh) * 2017-12-12 2018-09-28 中国科学院金属研究所 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR840001107A (ko) * 1982-08-06 1984-03-28 이재영 덤블링 베드에 의한 실리콘 알로이드 아이소트로픽 파이롤리틱 카아본의 제조방법
KR20000031625A (ko) * 1998-11-05 2000-06-05 정명식 가열용 탄소 재료 및 그의 재료에 등방성 열분해 탄소 박막을형성하는 방법
KR20020010843A (ko) * 2000-07-31 2002-02-06 윤덕용 리튬이차전지 음극 활물질용 탄소재의 코팅방법
CN2841676Y (zh) * 2005-04-14 2006-11-29 沈阳恒进真空科技有限公司 真空旋转氮化炉
CN201344722Y (zh) * 2009-01-22 2009-11-11 中国科学院合肥物质科学研究院 高温旋转管式炉
CN101597504A (zh) * 2009-07-15 2009-12-09 大连理工大学 一种翻转床热固载体热解析装置
CN102277571A (zh) * 2011-05-28 2011-12-14 袁茂豪 一种制造高分子陶瓷管道内衬的工艺方法及其装置
KR101601203B1 (ko) * 2014-08-29 2016-03-09 한국원자력연구원 (초)고온가스로용 핵연료 제조를 위한 회전형 반응로를 포함하는 구형의 핵연료 소결입자 제조장치 및 이를 이용한 제조방법
KR101617721B1 (ko) * 2015-03-19 2016-05-04 한국원자력연구원 (초)고온가스로 핵연료 연료핵입자 제조를 위한 회전형 반응장치를 포함하는 구형의 연료핵소결입자 제조장치
CN207918948U (zh) * 2017-12-12 2018-09-28 中国科学院金属研究所 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110284105A (zh) * 2019-06-25 2019-09-27 郑州航空工业管理学院 一种粉体表面金属化方法及其装置
CN110284105B (zh) * 2019-06-25 2024-02-09 郑州航空工业管理学院 一种粉体表面金属化方法及其装置
CN110218987A (zh) * 2019-07-24 2019-09-10 合肥百思新材料研究院有限公司 一种冷壁法cvd沉积设备及其工作方法
CN111561821A (zh) * 2020-04-29 2020-08-21 北京科技大学 一种可拆卸管式炉用制备扩散合金粉体加热装置及方法
CN114763604A (zh) * 2021-01-13 2022-07-19 广州墨羲科技有限公司 一种自动化旋转多管阵列式设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107904571A (zh) 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置
CN106813501A (zh) 一种回转炉
CN207918948U (zh) 一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置
CN105174257B (zh) 一种锟式多温段连续生产隧道窑炉
CN202254762U (zh) 全气氛保护螺旋槽式回旋炉
CN106191808A (zh) 一种化学气相沉积反应器
CN209275500U (zh) 一种进料装置
CN105674729A (zh) 一种内衬管为六边形结构的高温气氛回转炉
CN201203345Y (zh) 一种用于焙烧固体粉料的回转窑炉
CN103009530B (zh) 一种聚氨酯复合钢管离心浇注设备
CN107899520A (zh) 一种高温流化床反应装置
CN108088241A (zh) 一种大功率管应用的微波高温回转焙烧窑
CN106010606A (zh) 一种多腔回转间壁式多管换热粉煤热解装置
CN104374194A (zh) 粉体烧结装置
CN217503993U (zh) 一种应用于热风炉的罅隙换热管的供风装置
CN206537853U (zh) 螺旋输送式物料处理装置及高温反应设备
CN104745747B (zh) 一种服装革的喷浆烘干一体机
JP2016075445A (ja) 焼結鉱冷却装置
CN104745744B (zh) 一种服装革的表面处理方法
CN110388796A (zh) 内加热式三筒烘干机
WO2020093366A1 (zh) 一种用于硫酸浸出低品位红土镍矿加压除铁旋转反应装置
CN206483479U (zh) 一种催化剂焙烧‑水蒸汽处理一体化设备
CN104694924B (zh) 小口径异形金属管内壁耐高温陶瓷涂层的制备方法及设备
EP4325152A1 (en) Calcined clay cooler
CN207147122U (zh) 热管传导式烘干机

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination