CN107891316A - 一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法 - Google Patents

一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及铜制品表面处理技术领域,公开了一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,配制得到的适用于铜制品的抛光液中含有黏度较大的物质,抛光液黏度较大时,有助于金属的溶解,溶解下来的金属离子极少数会扩散到本体溶液中去,而是聚集在铜金属的表面,并与铜表面保护层共同形成黏性液膜,对抛光会产生有利的影响,有助于提高抛光质量,通过稳定剂的使用,即使进行剧烈搅拌,黏液膜也不会被破坏,金属表面将长期保留用来保护表面凹陷部分不受溶解腐蚀的保护层,能够抵御外界侵蚀,维持抛光效果。

Description

一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法
技术领域
本发明属于铜制品的表面处理领域,具体涉及一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法。
背景技术
铜是一种坚韧、柔软、富有延展性的紫红色而有光泽的金属,1克的铜可以拉成3000米长的细丝,或压成10多平方米几乎透明的铜箔。纯铜的导电性和导热性很高,仅次于银,但铜比银要便宜得多。
随着人民生活水平的不断提高,人们在日常生活中对机电设备的需求越来越多,从交通工具到各种家用电器、计算机、打印机等已成为人们生活中不可缺少的机电产品。先进的机电设备不仅能大大提高劳动生产率,减轻劳动强度,改善生产环境,完成人力无法完成的工作,而且作为国家工业基础之一,对整个国民经济的发展,以及科技、国防实力的提高有着直接的、重要的影响,还是衡量一个国家科技水平和综合国力的重要标志。
铜材质的机电设备在工业生产中的应用十分广泛,现有的对铜制品的养护方法上存在很多不足之处,在对铜制品的抛光处理中往往忽视了铜制品表面的保护层的重要性,使表面受到剧烈腐蚀,失去抛光效果。
发明内容
本发明的目的是针对现有的问题,提供了一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,通过在铜表层形成黏性液膜,从而提高抛光质量,延长铜材质机电设备的使用寿命。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,包括以下步骤:
(1) 将铜材质的机电设备制品使用除油剂震荡清洗10-15分钟,然后使用40-50℃的热水清洗,去除油脂后使用去离子水冲洗2-3次,在70-80℃的烘箱中烘烤3-4小时,准备进行化学抛光;
(2)抛光过程采用两步抛光法进行,第一步配制浓度为0.8-1.0摩尔/升的硫酸溶液和浓度为5.0-5.5摩尔/升的过氧化氢溶液,按照体积比为3-4:15-20的比例混合,将混合液加热至40-45℃,将铜材质的机电设备使用加热混合液氧化侵蚀进行化学抛光,抛光时间为3.5-4.5分钟,抛光结束后使用浓度为0.2-0.3%的碳酸钠清洗2-3遍;
(3)清洗后置于稳定剂中浸泡,浸泡时间为20-30分钟,然后进行第二步抛光,该步使用的抛光液按照重量份计由以下成分制成:甘油35-45份、磷酸14-18份、尿素3-5份、碱性高锰酸钾2-4份、聚乙二烯醇55-60份、去离子水30-40份,抛光时间为1.0-1.5分钟,抛光后使用流动的清水冲洗1-2分钟,然后使用浓度为0.2-0.3%的碳酸钠清洗2-3遍,再用清水冲洗2-3分钟即可。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(1)所述除油剂按照质量百分比计含有以下成分:甲醇占3-4%、丙酮占8-10%、亚硫酸铵占12-15%、剩余为去离子水。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(3)所述稳定剂中各成分含量按照质量百分比计为:羟基苯基三嗪占3.5-4.0%、硬脂酸锌占2.5-3.0%、柠檬酸钠占1.5-2.5%、柠檬酸钾占1.3-1.5%、EDTA占1.0-1.2%、氯化钠占0.8-1.0%、剩余为去离子水。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(3)所述磷酸浓度为15-18摩尔/升。
本发明相比现有技术具有以下优点:为了解决现有的铜材质机电设备在抛光过程中保护层受到破坏的问题,本发明提供了一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,配制得到的适用于铜制品的抛光液中含有黏度较大的物质,抛光液黏度较大时,有助于金属的溶解,溶解下来的金属离子极少数会扩散到本体溶液中去,而是聚集在铜金属的表面,并与铜表面保护层共同形成黏性液膜,对抛光会产生有利的影响,有助于提高抛光质量,通过稳定剂的使用,即使进行剧烈搅拌,黏液膜也不会被破坏,金属表面将长期保留用来保护表面凹陷部分不受溶解腐蚀的保护层,能够抵御外界侵蚀,维持抛光效果。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,包括以下步骤:
(1)将铜材质的机电设备制品使用除油剂震荡清洗10分钟,然后使用40℃的热水清洗,去除油脂后使用去离子水冲洗2次,在70℃的烘箱中烘烤3小时,准备进行化学抛光;
(2)抛光过程采用两步抛光法进行,第一步配制浓度为0.8摩尔/升的硫酸溶液和浓度为5.0摩尔/升的过氧化氢溶液,按照体积比为3:15的比例混合,将混合液加热至40℃,将铜材质的机电设备使用加热混合液氧化侵蚀进行化学抛光,抛光时间为3.5分钟,抛光结束后使用浓度为0.2%的碳酸钠清洗2遍;
(3)清洗后置于稳定剂中浸泡,浸泡时间为20分钟,然后进行第二步抛光,该步使用的抛光液按照重量份计由以下成分制成:甘油35份、磷酸14份、尿素3份、碱性高锰酸钾2份、聚乙二烯醇55份、去离子水30份,抛光时间为1.0分钟,抛光后使用流动的清水冲洗1分钟,然后使用浓度为0.2%的碳酸钠清洗2遍,再用清水冲洗2分钟即可。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(1)所述除油剂按照质量百分比计含有以下成分:甲醇占3%、丙酮占8%、亚硫酸铵占12%、剩余为去离子水。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(3)所述稳定剂中各成分含量按照质量百分比计为:羟基苯基三嗪占3.5%、硬脂酸锌占2.5%、柠檬酸钠占1.5%、柠檬酸钾占1.3%、EDTA占1.0%、氯化钠占0.8%、剩余为去离子水。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(3)所述磷酸浓度为15摩尔/升。
实施例2
一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,包括以下步骤:
(1) 将铜材质的机电设备制品使用除油剂震荡清洗12分钟,然后使用45℃的热水清洗,去除油脂后使用去离子水冲洗2次,在75℃的烘箱中烘烤3.5小时,准备进行化学抛光;
(2)抛光过程采用两步抛光法进行,第一步配制浓度为0.9摩尔/升的硫酸溶液和浓度为5.3摩尔/升的过氧化氢溶液,按照体积比为3.5:18的比例混合,将混合液加热至42℃,将铜材质的机电设备使用加热混合液氧化侵蚀进行化学抛光,抛光时间为4.0分钟,抛光结束后使用浓度为0.25%的碳酸钠清洗2遍;
(3)清洗后置于稳定剂中浸泡,浸泡时间为25分钟,然后进行第二步抛光,该步使用的抛光液按照重量份计由以下成分制成:甘油40份、磷酸16份、尿素4份、碱性高锰酸钾3份、聚乙二烯醇58份、去离子水35份,抛光时间为1.3分钟,抛光后使用流动的清水冲洗1.5分钟,然后使用浓度为0.25%的碳酸钠清洗2遍,再用清水冲洗2.5分钟即可。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(1)所述除油剂按照质量百分比计含有以下成分:甲醇占3.5%、丙酮占9%、亚硫酸铵占13%、剩余为去离子水。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(3)所述稳定剂中各成分含量按照质量百分比计为:羟基苯基三嗪占3.8%、硬脂酸锌占2.8%、柠檬酸钠占2.0%、柠檬酸钾占1.4%、EDTA占1.1%、氯化钠占0.9%、剩余为去离子水。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(3)所述磷酸浓度为16摩尔/升。
实施例3
一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,包括以下步骤:
(1) 将铜材质的机电设备制品使用除油剂震荡清洗15分钟,然后使用50℃的热水清洗,去除油脂后使用去离子水冲洗3次,在80℃的烘箱中烘烤4小时,准备进行化学抛光;
(2)抛光过程采用两步抛光法进行,第一步配制浓度为1.0摩尔/升的硫酸溶液和浓度为5.5摩尔/升的过氧化氢溶液,按照体积比为4: 20的比例混合,将混合液加热至45℃,将铜材质的机电设备使用加热混合液氧化侵蚀进行化学抛光,抛光时间为4.5分钟,抛光结束后使用浓度为0.3%的碳酸钠清洗3遍;
(3)清洗后置于稳定剂中浸泡,浸泡时间为30分钟,然后进行第二步抛光,该步使用的抛光液按照重量份计由以下成分制成:甘油45份、磷酸18份、尿素5份、碱性高锰酸钾4份、聚乙二烯醇60份、去离子水40份,抛光时间为1.5分钟,抛光后使用流动的清水冲洗2分钟,然后使用浓度为0.3%的碳酸钠清洗3遍,再用清水冲洗3分钟即可。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(1)所述除油剂按照质量百分比计含有以下成分:甲醇占4%、丙酮占10%、亚硫酸铵占15%、剩余为去离子水。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(3)所述稳定剂中各成分含量按照质量百分比计为:羟基苯基三嗪占4.0%、硬脂酸锌占3.0%、柠檬酸钠占2.5%、柠檬酸钾占1.5%、EDTA占1.2%、氯化钠占1.0%、剩余为去离子水。
作为对上述方案的进一步描述,步骤(3)所述磷酸浓度为18摩尔/升。

Claims (4)

1.一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将铜材质的机电设备制品使用除油剂震荡清洗10-15分钟,然后使用40-50℃的热水清洗,去除油脂后使用去离子水冲洗2-3次,在70-80℃的烘箱中烘烤3-4小时,准备进行化学抛光;
(2)抛光过程采用两步抛光法进行,第一步配制浓度为0.8-1.0摩尔/升的硫酸溶液和浓度为5.0-5.5摩尔/升的过氧化氢溶液,按照体积比为3-4:15-20的比例混合,将混合液加热至40-45℃,将铜材质的机电设备使用加热混合液氧化侵蚀进行化学抛光,抛光时间为3.5-4.5分钟,抛光结束后使用浓度为0.2-0.3%的碳酸钠清洗2-3遍;
(3)清洗后置于稳定剂中浸泡,浸泡时间为20-30分钟,然后进行第二步抛光,该步使用的抛光液按照重量份计由以下成分制成:甘油35-45份、磷酸14-18份、尿素3-5份、碱性高锰酸钾2-4份、聚乙二烯醇55-60份、去离子水30-40份,抛光时间为1.0-1.5分钟,抛光后使用流动的清水冲洗1-2分钟,然后使用浓度为0.2-0.3%的碳酸钠清洗2-3遍,再用清水冲洗2-3分钟即可。
2.如权利要求1所述一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,其特征在于,步骤(1)所述除油剂按照质量百分比计含有以下成分:甲醇占3-4%、丙酮占8-10%、亚硫酸铵占12-15%、剩余为去离子水。
3.如权利要求1所述一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,其特征在于,步骤(3)所述稳定剂中各成分含量按照质量百分比计为:羟基苯基三嗪占3.5-4.0%、硬脂酸锌占2.5-3.0%、柠檬酸钠占1.5-2.5%、柠檬酸钾占1.3-1.5%、EDTA占1.0-1.2%、氯化钠占0.8-1.0%、剩余为去离子水。
4.如权利要求1所述一种铜材质机电设备的表面抛光处理方法,其特征在于,
步骤(3)所述磷酸浓度为15-18摩尔/升。
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