CN107831636B - 基于规则的opc方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基于规则的OPC方法,包括:步骤一、输入初始图形;步骤二、选择不作移动的图形边;步骤三、选择规则二图形边,该图形边记为B2;步骤四、选择规则一图形边,该图形边记为B1;步骤五、设定图形边移动规则一;步骤六、根据规则一移动图形边B1,得到的图形记为T1;步骤七、选择图形T1中与图形边B2的共边,该共边记为B21;步骤八、设定图形边移动规则二;步骤九、根据移动规则二移动图形边B21;步骤十、输出图形。本发明能够使经过OPC处理后的修正图形不会产生多余的凹凸。
Description
技术领域
本发明涉及微电子版图数据光学修正领域,特别是涉及一种基于规则的OPC(光学临近修正)方法。
背景技术
在深亚微米微影工艺中,光学临近效应已经成为光刻工艺流程必须考虑的因素,而OPC技术已经广泛应用于集成电路的制造流程中。基于规则的OPC方法广泛应用于补偿因图形密度不同引起的CD(关键尺寸)差异,并且在基于模型的OPC方法得到推广之后,仍经常用于选择性尺寸调整等步骤,用以增加光刻工艺窗口等目的。
表1
基于规则的OPC方法通过收集一系列硅片数据,从而建立一套基于图形尺寸的规则,并用适当的OPC工具实现这些规则。规则一般指根据图形的线宽和间距,将对应的图形边做出相应的移动,如上表1所示。
由于同一图形不同位置所处环境差异,同一图形不同位置的偏移量可能不同,从而产生一些图形凹凸。这些图形凹凸既可能导致后续基于模型OPC方法产生修正弱点,也会影响掩模板制作精度,因此应该尽量避免或减少图形上的凹凸。
Mentor公司的SVRF(标准验证规则格式)语言是实现基于规则的OPC方法的常用工具,通过将如表1所示的规则表翻译成SVRF语句,实现对目标图形的修正。在修正过程中,首先测量图形边片段的间距和线宽,并根据间距和线宽值做出相应的移动,测量中如果没有做一定的偏置,就会导致移动后的图形产生违反设计规则的情况,如图2和图3所示,其中,图2中箭头所指示的位置为间距违反设计规则,图3中箭头所指示的位置为线宽违反设计规则;而在测量图形边的间距和线宽时作一定的偏置,就可以避免上述情况,如图4和图5所示,其中,图4双箭头所指示的是间距偏置量,图5双箭头所指示的是线宽偏置量。
使用测量偏置的方法能很好的解决移动图形边后产生违反设计规则问题,但是也会导致一些特殊形状图形产生多余的凹凸,比如对于具有锤头状的图形,由于测量偏置后图形边的线宽变得不同,因此偏移量也有所不同,从而导致产生多余的凹凸,如图6所示,其中标号1表示凹凸。
现有的基于规则的OPC方法为了避免修正后图形尺寸违反设计规则,在测量图形边的间距和线宽时作一定的偏置,这会引起部分图形产生多余的凹凸,对最终OPC结果造成不利的影响。
结合图1所示,现有基于规则的OPC方法处理流程如下:
输入初始图形T0,选择不作移动的图形边X,选择需要移动的图形边B,设定图形边移动规则,根据规则移动图形边B,输出图形T1。
上述流程中不作移动的图形边X是指不适用既定规则的图形边,比如线终端。需要移动的图形边是指初始图形T0的所有图形边T0E减去不作移动的图形边,即B=T0E–X。图形边移动规则是指根据间距和线宽对图形边进行移动。现有的规则在测量图形间距和线宽时,使用一定的偏置量避免修正后出现违反设计规则图形。根据规则移动图形边B时,目标图形T0作为OPC待修正图形。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种基于规则的OPC方法,能够使经过OPC处理后的修正图形不会产生多余的凹凸。
为解决上述技术问题,本发明的基于规则的OPC方法,包括如下步骤:
步骤一、输入初始图形T0;
步骤二、选择不作移动的图形边;其中,还包括如下步骤:
步骤三、选择规则二图形边,该图形边记为B2;
步骤四、选择规则一图形边,该图形边记为B1;
步骤五、设定图形边移动规则一;
步骤六、根据规则一移动图形边B1,得到的图形记为T1;
步骤七、选择图形T1中与图形边B2的共边,该共边记为B21;
步骤八、设定图形边移动规则二;
步骤九、根据移动规则二移动图形边B21;
步骤十、输出图形;
步骤二所述“不作移动的图形边”,是指初始图形中不适用于既定规则的图形边;步骤三所述“规则二图形边”,是指测量线宽或间距时使用偏置量会产生多余凹凸的图形边;步骤四所述“规则一图形边”,是指初始图形的所有图形边去除不作移动的图形边和规则二图形边后的图形边;步骤五所述“图形边移动规则一”,是指测量线宽和间距时使用偏置量;步骤八所述“图形边移动规则二”,是指测量线宽时不使用偏置量,或测量间距时不使用偏置量;步骤九所述“根据图形边移动规则二移动图形边B21”,是指以图形T1作为OPC待修正图形,初始图形T0作为测量图形间距的参考图形。
采用本发明的方法得到的结果,经过OPC处理后的修正图形没有产生多余的凹凸,并且其它图形的修正后图形与现有的基于规则的OPC方法一致,如图7所示。
如图6所示为采用现有的基于规则的OPC方法得到的结果,经过修正后图形产生多个凹凸1,这些凹凸1不仅使OPC后图形变得复杂,并且在后续基于模型的OPC处理中,存在引起OPC修正弱点的风险,或导致微影曝光中的桥接,断线等缺陷。
附图说明
下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:
图1是现有的基于规则的OPC方法流程图;
图2是违反设计规则的示意图(一);
图3是违反设计规则的示意图(二);
图4是避免违反设计规则的示意图(一);
图5是避免违反设计规则的示意图(二);
图6是采用现有的基于规则的OPC方法效果示意图;
图7是采用改进后的基于规则的OPC方法效果示意图;
图8是初始图形T0示意图;
图9是选择不作移动的图形边X示意图;
图10是选择图形边B2示意图;
图11是得到适用规则一图形边B1示意图;
图12是得到图形T1示意图;
图13是选择共边B21示意图;
图14是得到图形T2示意图;
图15是改进后的基于规则的OPC方法流程图。
具体实施方式
结合图15所示,所述基于规则的OPC方法通过Calibre SVRF(标准验证规则格式)工具实现,控制流程如下:
步骤1、输入初始图形TO。
步骤2、选择不作移动的图形边X。所述不作移动的图形边X是指初始图形中不适用既定规则的图形边,比如线终端。
步骤3、结合图7所示,选择规则二图形边B2。所述规则二图形边B2是指受测量偏置影响会产生多余凹凸的图形边,即测量线宽或间距时使用偏置量会产生多余凹凸的图形边,比如图7所示的锤头状图形部分图形边。规则二则对图形间距或线宽不作偏置。
步骤4、选择规则一图形边B1。所述规则一图形边B1是指初始图形T0的所有图形边T0E减去不作移动的图形边X,再减去规则二图形边B2,即B1=T0E–X–B2。
步骤5、设定图形边移动规则一。所述“图形边移动规则一”,是指测量线宽和间距时使用偏置量。
步骤6、根据规则一移动图形边B1。根据规则一移动图形边B1时,目标图形(即初始图形)T0作为OPC待修正图形,通过移动规则一移动图形边B1,得到新的图形T1。
步骤7、选择图形T1与图形边B2的共边B21。
步骤8、设定图形边移动规则二。所述“图形边移动规则二”,是指测量线宽时不使用偏置量,或测量间距时不使用偏置量。
步骤9、根据移动规则二移动图形边B21。所述“根据移动规则二移动图形边B21”,是指以图形T1作为OPC待修正图形,初始图形T0作为测量图形间距的参考图形。
步骤10、输出图形T2。即最终得到修正后的图形T2。
下面是一实施例。
以如图8所示的初始图形T0为例,具体实施过程如下:
在初始图形T0中选择不作移动的图形边X,如图9所示。
选择适用规则二的图形边B2,如图10所示。
结合图11所示,逻辑运算得到适用规则一图形边B1,B1=T0E–X–B2,T0E为初始图形T0的所有图形边。
设定图形边移动规则一,图形边移动规则一在测量间距和线宽时使用一定的偏置量。
以初始图形T0作为OPC待修正图形,根据规则一移动图形边B1,得到图形T1,如图12所示。
选择图形T1中与图形边B2的共边B21,如图13所示。
设定图形边移动规则二,图形边移动规则二在测量图形间距时使用一定的偏置量,测量图形线宽时不使用偏置量。
以图形T1作为OPC待修正图形,初始图形T0作为测量图形间距的参考图形,根据移动规则二移动图形边B21,得到图形T2,如图14所示。
通过上述步骤得到的OPC结果即图形T2,在图形边B2上不会产生多余的凹凸。
以上通过具体实施方式对本发明进行了详细的说明,但这些并非构成对本发明的限制。在不脱离本发明原理的情况下,本领域的技术人员还可做出许多变形和改进,这些也应视为本发明的保护范围。
Claims (2)
1.一种基于规则的OPC方法,包括:
步骤一、输入初始图形T0;
步骤二、选择不作移动的图形边;其特征在于,还包括如下步骤:
步骤三、选择规则二图形边,该图形边记为B2;
步骤四、选择规则一图形边,该图形边记为B1;
步骤五、设定图形边移动规则一;
步骤六、根据图形边移动规则一移动图形边B1,得到的图形记为T1;
步骤七、选择图形T1中与图形边B2的共边,该共边记为B21;
步骤八、设定图形边移动规则二;
步骤九、根据图形边移动规则二移动图形边B21;
步骤十、输出图形;
步骤二所述“不作移动的图形边”,是指初始图形中不适用于既定规则的图形边;
步骤三所述“规则二图形边”,是指测量线宽或间距时使用偏置量会产生多余凹凸的图形边;
步骤四所述“规则一图形边”,是指初始图形的所有图形边去除不作移动的图形边和规则二图形边后的图形边;
步骤五所述“图形边移动规则一”,是指测量线宽和间距时使用偏置量;
步骤八所述“图形边移动规则二”,是指测量线宽时不使用偏置量,或测量间距时不使用偏置量;
步骤九所述“根据图形边移动规则二移动图形边B21”,是指以图形T1作为OPC待修正图形,初始图形T0作为测量图形间距的参考图形。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:该基于规则的OPC方法通过Calibre SVRF工具实现。
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