CN107819019A - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

一种显示基板及其制作方法、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，该显示基板包括：像素定义层和N种颜色的子像素，像素定义层定义出多个子像素区域，子像素设置在子像素区域内，像素定义层包括第一像素定义层和第二像素定义层，第二像素定义层的宽度小于第一像素定义层的宽度，第一像素定义层用于分隔相邻的不同颜色的子像素，第二像素定义层用于分隔相邻的相同颜色的子像素。本发明中，减小用于分隔相邻的相同颜色的子像素的像素定义层的宽度，从而减少像素定义层在阵列基板上所占用的空间。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
目前，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示器件的分辨率不断提高，像素密度不断增大，因而如何在有限的基板空间内放置更多的像素，是目前需要解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够减少像素定义层在显示基板上所占用的空间，留出更多的空间用于设置更多的子像素，以增加像素密度，提高分辨率，或者，留出更多的空间设置更多的驱动电路元件，以提高显示基板的驱动性能。
为解决上述技术问题，本发明提供一种显示基板，包括：
像素定义层和N种颜色的子像素，所述像素定义层定义出多个子像素区域，所述子像素设置在所述子像素区域内，所述像素定义层包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第二像素定义层的宽度小于所述第一像素定义层的宽度，所述第一像素定义层用于分隔相邻的不同颜色的子像素，所述第二像素定义层用于分隔相邻的相同颜色的子像素，其中，N为大于1的正整数。
优选地，所述第二像素定义层的高度小于所述第一像素定义层的高度。
优选地，所述第一像素定义层的宽度大于或等于10μm，高度大于或等于3μm，所述第二像素定义层的宽度为5～10μm，高度为1～3μm。
优选地，所述显示基板为有机发光二极管显示基板。
优选地，相邻的相同颜色的至少两个子像素对应的发光层相连。
优选地，相邻的相同颜色的子像素对应的发光层不相连。
本发明还提供一种显示基板的制作方法，包括：
形成像素定义层，所述像素定义层包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第二像素定义层的宽度小于所述第一像素定义层的宽度；
在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素，其中，所述第一像素定义层用于分隔相邻的不同颜色的子像素，所述第二像素定义层用于分隔相邻的相同颜色的子像素，其中，N为大于1的正整数。
优选地，所述第一像素定义层的宽度大于或等于10μm，高度大于或等于3μm，所述第二像素定义层的宽度为5～10μm，高度为1～3μm。
优选地，所述形成包括第一像素定义层和第二像素定义层的像素定义层的步骤包括：
采用半色调或灰色调掩膜版，并通过曝光工艺形成第一像素定义层和第二像素定义层，其中，形成的第二像素定义层的高度小于所述第一像素定义层的高度。
优选地，所述显示基板为有机发光二极管显示基板。
优选地，所述在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素的步骤包括：
提供一蒸镀掩膜版，所述掩膜版包括多个开口区，其中，所述显示基板上的相邻的相同颜色的至少两个子像素对应一所述开口区；
采用所述蒸镀掩膜版，并通过蒸镀工艺形成发光层，其中，相邻的相同颜色的至少两个子像素对应的发光层相连。
优选地，所述在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素的步骤包括：
提供一蒸镀掩膜版，所述掩膜版包括多个开口区，其中，所述显示基板上的相邻的相同颜色的子像素对应不同的开口区；
采用所述蒸镀掩膜版，并通过蒸镀工艺形成发光层，其中，相邻的相同颜色的子像素对应的发光层不相连。
本发明还提供一种有机发光二极管显示装置，包括上述显示基板。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
本发明实施例中，减小用于分割相邻的相同颜色的子像素的宽度，从而减少像素定义层在阵列基板上所占用的空间，留出更多的空间用于设置更多的子像素，以增加像素密度，提高分辨率，或者留出更多的空间用于设置更多的驱动电路元件，以提高显示基板的驱动性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一的显示基板的剖视图；
图2为本发明实施例一的显示基板的俯视图；
图3为本发明实施例二的显示基板的剖视图；
图4为本发明实施例三的显示基板的剖视图；
图5为本发明实施例四的显示基板的剖视图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
从现有的显示基板上的像素排列结构及形式来看，占据显示基板空间的因素，除了子像素以外，像素定义层(PDL)占用的空间最多，因此，如果能够减少像素定义层占用的空间，可以留出更多空间放置更多的子像素，以增加显示基板的像素密度，提高分辨率，或者，留出更多的空间设置更多的驱动电路元件，以提高显示基板的驱动性能。
现有的显示基板，考虑蒸镀工艺对准误差、子像素器件漏电流等因素，像素定义层被无差别用作相邻的不同颜色的子像素及相邻的相同颜色的子像素的分隔，然而，相邻的相同颜色的子像素，其实不需要绝对避免两个子像素的混色，即使两个子像素有发光的串扰，对画面显示的准确性及画质影像不大，因而可以适当缩小相邻的相同颜色的子像素之间的像素定义层的尺寸，以节省空间。
本发明实施例中，即是对相邻的相同颜色的子像素之间的像素定义层的尺寸进行适当的缩小，从而减少像素定义层在显示基板上所占用的空间，留出更多的空间用于设置更多的子像素，以增加像素密度，提高分辨率，或者，留出更多的空间设置更多的驱动电路元件，比如，驱动电路从7T1C变为8T1C，以提高显示基板的驱动性能。
请参考图1和图2，图1为本发明实施例一的显示基板的剖视图，图2为本发明实施例一的显示基板的俯视图，该显示基板包括：
像素定义层和N种颜色的子像素，所述像素定义层定义出多个子像素区域，所述子像素设置在所述子像素区域内，所述像素定义层包括第一像素定义层11和第二像素定义层12，所述第二像素定义层12的宽度(CD2)小于所述第一像素定义层11的宽度(CD1)，所述第一像素定义层11用于分隔相邻的不同颜色的子像素，所述第二像素定义层12用于分隔相邻的相同颜色的子像素，其中，N为大于1的正整数。
本发明实施例中，所述子像素包括阳极13、发光层14和阴极(图未示出)。所谓子像素的颜色是指子像素中的发光层14发出的光线的颜色。
优选地，本发明实施例中，显示基板可以包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三种颜色的子像素，即N为3。当然，在本发明的其他一些实施例中，子像素也不限于R、G、B三种颜色，也可以为其他颜色，同时，N的个数也不限于为3。
本发明实施例中所说的像素定义层的宽度，是指像素定义层在相邻的子像素区域之间的宽度。所述第二像素定义层12的宽度小于所述第一像素定义层11的宽度，是指第二像素定义层和第一像素定义层在相同方向上的宽度的比对。
本发明实施例中，设置具有不同宽度的像素定义层(第一像素定义层11和第二像素定义层12)，其中，宽度较大的第一像素定义层11用于分隔相邻的不同颜色的子像素，宽度较小的第二像素定义层12用于分割相邻的相同颜色的子像素，即减小了第二像素定义层的尺寸，从而减少了像素定义层在阵列基板上所占用的空间，留出更多的空间用于设置更多的子像素，以增加显示基板的像素密度，提高了分辨率，或者留出更多的空间用于设置更多的驱动电路元件，以提高显示基板的驱动性能。
上述实施例中，所述第二像素定义层12的高度(h2)同时也小于所述第一像素定义层11的高度(h1)。即，第二像素定义层12无论在高度还是宽度上均小于第一像素定义层11。当然，在本发明的其他一些实施例中，请参考图3和图4，所述第二像素定义层12也可以仅宽度(CD2)小于第一像素定义层的宽度(CD1)，所述第二像素定义层12的高度(h2)可以等于所述第一像素定义层11的高度(h1)。
在本发明的一些优选实施例中，所述第一像素定义层的宽度大于或等于10μm，高度大于或等于3μm，所述第二像素定义层的宽度为5～10μm，高度为1～3μm。
本发明实施例中，所述显示基板可以为有机发光二极管显示基板，当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除显示基板为其他类型的显示基板的可能。
请参考图1和图3，本发明的实施例一和实施例二中，相邻的相同颜色的子像素对应的发光层14不相连，该种结构可以有效避免相邻的相同颜色的子像素之间的串扰。在采用蒸镀工艺制作该种结构的发光层14的过程中，相邻的相同颜色的子像素的发光层14可以分别使用蒸镀掩膜版上的不同开口区域蒸镀形成。
请参考图4和图5，本发明的实施例三和实施例四中，相邻的相同颜色的至少两个子像素对应的发光层14相连，即发光层14部分位于所述相邻的相同颜色的子像素之间的第二像素定义层12上，由于该部分发光层14远离阳极，不会发光，即使有微弱的电流导致发光，由于颜色相同，不会对临近的同色子像素造成串扰，对画面显示的准确性及画质影像也不大。同时，在采用蒸镀工艺制作该种结构的发光层14的过程中，相邻的相同颜色的至少两个子像素的发光层14可以使用蒸镀掩膜版上的同一开口区域蒸镀形成，使得开口区域可以设置的较大，从而能够降低对掩膜版的精确度要求，降低成产成本。
上述实施例中的显示基板，具有同种颜色的子像素相邻排列的结构，其中，相邻的同种颜色的子像素的个数可以为2个或者多于2个，例如一列子像素或者一行子像素等。当相邻的同种颜色的子像素的个数为两个时，相邻的相同颜色的两个子像素对应的发光层可以相连，也可以不相连。让相邻的同种颜色的子像素的个数多于两个时，例如一列或一行子像素的颜色均相同时，该列或行子像素对应的发光层可以相连，也可以互不相连。
本发明实施例还提供一种显示基板的制作方法，包括：
步骤101：形成像素定义层，所述像素定义层包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第二像素定义层的宽度小于所述第一像素定义层的宽度；
步骤102：在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素，其中，所述第一像素定义层用于分隔相邻的不同颜色的子像素，所述第二像素定义层用于分隔相邻的相同颜色的子像素，其中，N为大于1的正整数。
本发明实施例中，所述子像素包括阳极、发光层和阴极。所谓子像素的颜色是指子像素中的发光层发出的光线的颜色。
优选地，本发明实施例中，显示基板可以包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三种颜色的子像素，即N为3。当然，在本发明的其他一些实施例中，子像素也不限于R、G、B三种颜色，也可以为其他颜色，同时，N的个数也不限于为3。
本发明实施例中所说的像素定义层的宽度，是指像素定义层在相邻的子像素区域之间的宽度。所述第二像素定义层的宽度小于所述第一像素定义层的宽度，是指第二像素定义层和第一像素定义层在相同方向上的宽度的比对。
本发明实施例中，设置具有不同宽度的像素定义层(第一像素定义层和第二像素定义层，其中，通过减小用于分割相邻的相同颜色的子像素高度的第二像素电一层的宽度，从而减少像素定义层在阵列基板上所占用的空间，留出更多的空间用于设置更多的子像素，以增加显示基板的像素密度，提高分辨率，或者留出更多的空间用于设置更多的驱动电路元件，以提高显示基板的驱动性能。
在本发明的一些优选实施例中，所述第一像素定义层的宽度大于或等于10μm，高度大于或等于3μm，所述第二像素定义层的宽度为5～10μm，高度为1～3μm。
在本发明的一些实施例中，所述形成包括第一像素定义层和第二像素定义层的像素定义层的步骤可以包括：采用半色调或灰色调掩膜版，并通过曝光工艺形成第一像素定义层和第二像素定义层，其中，形成的第二像素定义层的高度小于所述第一像素定义层的高度。
也就是说，不同高度的第一像素定义层和第二像素定义层可以通过一次构图工艺形成，从而节省掩膜版数量，降低生产成本。
本发明实施例中，所述显示基板可以为有机发光二极管显示基板，当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除显示基板为其他类型的显示基板的可能。
在本发明的一些实施例中，所述在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素的步骤包括：
步骤1021：提供一蒸镀掩膜版，所述掩膜版包括多个开口区，其中，所述显示基板上的相邻的相同颜色的至少两个子像素对应一所述开口区；
步骤1022：采用所述蒸镀掩膜版，并通过蒸镀工艺形成发光层，其中，相邻的相同颜色的至少两个子像素对应的发光层相连。
本发明实施例中，在制作子像素的发光层的过程中，相邻的相同颜色的至少两个子像素的发光层可以使用蒸镀掩膜版上的同一开口区域蒸镀形成，使得开口区域可以设置的较大，从而能够降低对掩膜版的精确度要求，降低成产成本。采用该制作方法形成的发光层，相邻的相同颜色的至少两个子像素对应的发光层相连，即发光层部分位于所述相邻的相同颜色的子像素之间的第二像素定义层上，由于该部分发光层远离阳极，不会发光，即使有微弱的电流导致发光，由于颜色相同，不会对临近的同色子像素造成串扰，对画面显示的准确性及画质影像也不大。
在本发明的另外一些实施例中，所述在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素的步骤包括：
步骤1021’：提供一蒸镀掩膜版，所述掩膜版包括多个开口区，其中，所述显示基板上的相邻的相同颜色的子像素对应不同的开口区；
步骤1022’：采用所述蒸镀掩膜版，并通过蒸镀工艺形成发光层，其中，相邻的相同颜色的子像素对应的发光层不相连。
本发明实施例中，在制作子像素的发光层的过程中，相邻的相同颜色的子像素的发光层可以分别使用蒸镀掩膜版上的不同开口区域蒸镀形成，采用该制作方法形成的发光层，相邻的相同颜色的子像素对应的发光层不相连，可以有效避免相邻的相同颜色的子像素之间的串扰。
本发明实施例还提供一种有机发光二极管显示装置，包括上述任一实施例中的显示基板。
除非另作定义，本发明中使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (13)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：
像素定义层和N种颜色的子像素，所述像素定义层定义出多个子像素区域，所述子像素设置在所述子像素区域内，所述像素定义层包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第二像素定义层的宽度小于所述第一像素定义层的宽度，所述第一像素定义层用于分隔相邻的不同颜色的子像素，所述第二像素定义层用于分隔相邻的相同颜色的子像素，其中，N为大于1的正整数。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二像素定义层的高度小于所述第一像素定义层的高度。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一像素定义层的宽度大于或等于10μm，高度大于或等于3μm，所述第二像素定义层的宽度为5～10μm，高度为1～3μm。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为有机发光二极管显示基板。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，相邻的相同颜色的至少两个子像素对应的发光层相连。
6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，相邻的相同颜色的子像素对应的发光层不相连。
7.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
形成像素定义层，所述像素定义层包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第二像素定义层的宽度小于所述第一像素定义层的宽度；
在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素，其中，所述第一像素定义层用于分隔相邻的不同颜色的子像素，所述第二像素定义层用于分隔相邻的相同颜色的子像素，其中，N为大于1的正整数。
8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述第一像素定义层的宽度大于或等于10μm，高度大于或等于3μm，所述第二像素定义层的宽度为5～10μm，高度为1～3μm。
9.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成包括第一像素定义层和第二像素定义层的像素定义层的步骤包括：
采用半色调或灰色调掩膜版，并通过曝光工艺形成第一像素定义层和第二像素定义层，其中，形成的所述第二像素定义层的高度小于所述第一像素定义层的高度。
10.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述显示基板为有机发光二极管显示基板。
11.根据权利要求10所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素的步骤包括：
提供一蒸镀掩膜版，所述掩膜版包括多个开口区，其中，所述显示基板上的相邻的相同颜色的至少两个子像素对应一所述开口区；
采用所述蒸镀掩膜版，并通过蒸镀工艺形成发光层，其中，相邻的相同颜色的至少两个子像素对应的发光层相连。
12.根据权利要求10所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在像素定义层定义的子像素区域内形成N种颜色的子像素的步骤包括：
提供一蒸镀掩膜版，所述掩膜版包括多个开口区，其中，所述显示基板上的相邻的相同颜色的子像素对应不同的开口区；
采用所述蒸镀掩膜版，并通过蒸镀工艺形成发光层，其中，相邻的相同颜色的子像素对应的发光层不相连。
13.一种有机发光二极管显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的显示基板。
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