CN106935616B - Amoled显示屏及精密金属掩膜板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种AMOLED显示屏及精密金属掩膜板，在像素排列结构中的每个像素单元中，第一颜色子像素与行平行的一侧分别与两个第二颜色子像素相邻，第一颜色子像素与列平行的一侧及第二颜色子像素与列平行的一侧均与第三颜色子像素相邻，第一颜色子像素与列平行的另一侧及另一第二颜色子像素与列平行的一侧均与另一第三颜色子像素相邻。该AMOLED精密金属掩膜板中，第一开孔用于蒸镀对应的像素单元中的两个第二颜色子像素，第二开孔用于蒸镀对应的位于同一行且相邻的两个第三颜色子像素，从而增加了开孔的面积。对于上述像素排列结构来说，同时能够克服薄膜晶体管和FMM制作工艺的难度，从而进一步提高显示屏的像素密度。

Description

AMOLED显示屏及精密金属掩膜板

技术领域

本发明涉及OLED显示技术领域，特别是涉及一种AMOLED显示屏及精密金属掩膜板。

背景技术

AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode，有源矩阵有机发光二极体)，是主动发光器件。相比现在的薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)这一主流平板显示技术,AMOLED具有高对比度、广视角、低功耗、厚度更薄等优点，所以被认为是下一代显示技术。

传统的AMOLED显示屏由若干像素组成，任一像素包含一个红色子像素、一个绿色子像素和一个蓝色子像素，且任一单色子像素都有独立的像素电路控制，即1个像素同时包含3个像素电路。其中，所有的单色子像素都由蒸镀工艺制备而成(即利用精密金属掩膜板(FMM)通过开孔将有机材料蒸镀至玻璃基板上，以形成各单色子像素)。由于自身制备工艺的限制，难以制造具有较小开孔的FMM。然而，现在显示设备对像素密度的要求却越来越高，像素密度越高要求对应FMM中的开孔就越小，因此传统精密金属掩膜板的制造工艺限制了显示屏的像素密度。另一方面，OLED的电流由包括若干薄膜晶体管的像素电路提供，薄膜晶体管同样是由工艺制备且需要占用一定的空间。像素密度越高，薄膜晶体管所占的空间越大，因此制备薄膜晶体管的工艺能力也限制了显示屏的像素密度。

发明内容

基于此，针对上述如何提高显示屏的像素密度的问题，本发明提供一种AMOLED显示屏及精密金属掩膜板，能够提高显示屏的像素密度。

一种AMOLED显示屏，包括像素电路，所述像素电路用于驱动像素，像素排布结构包括依次按行方向、列方向排列的若干像素单元，所述像素单元包括第一颜色子像素、两个第二颜色子像素和两个第三颜色子像素，所述第一颜色子像素、第二颜色子像素及第三颜色子像素的颜色各不相同且为红色、蓝色及绿色中的一种；

所述第一颜色子像素与行平行的一侧分别与所述两个第二颜色子像素相邻，所述第一颜色子像素与列平行的一侧及所述第二颜色子像素与列平行的一侧均与所述第三颜色子像素相邻，所述第一颜色子像素与列平行的另一侧及另一所述第二颜色子像素与列平行的一侧均与另一所述第三颜色子像素相邻；在所述像素排列结构中，位于同一行且相邻的两个所述第三颜色子像素共用同一个像素电路。

在其中一个实施例中，在所述像素排列结构中，任意相邻的两个所述像素单元中距离最近的子像素为相同颜色。

在其中一个实施例中，在任一所述像素单元中，所述两个第二颜色子像素共用一个像素电路。

在其中一个实施例中，所述第一颜色子像素和单个第二颜色子像素分别由独立的像素电路控制。

在其中一个实施例中，所述第二颜色子像素和第三颜色子像素的面积相同，所述第一颜色子像素的面积大于所述第二颜色子像素的面积且小于所述像素单元面积的一半。

在其中一个实施例中，所述第一颜色子像素和第三颜色子像素的形状均为长方形，且所述第二颜色子像素的形状为正方形。

在其中一个实施例中，所述第一颜色子像素为红色子像素；所述第二颜色子像素为绿色子像素；所述第三颜色子像素为蓝色子像素。

在其中一个实施例中，所述第一颜色子像素为绿色子像素；所述第二颜色子像素为红色子像素；所述第三颜色子像素为蓝色子像素。

一种AMOLED精密金属掩膜板，适用上述的AMOLED显示屏的蒸镀工艺，且所述AMOLED精密金属板包括若干第一开孔和第二开孔；所述第一开孔用于蒸镀对应的所述像素单元中的两个第二颜色子像素；所述第二开孔用于蒸镀对应的位于同一行且相邻的两个所述第三颜色子像素。

在其中一个实施例中，在所述AMOLED显示屏的像素排列结构中，任意相邻的两个所述像素单元中距离最近的子像素为相同颜色；所述AMOLED精密金属掩膜板还包括第三开孔；

所述第一开孔用于蒸镀对应的相邻且分别属于两个所述像素单元的四个所述第二颜色子像素；所述第三开孔用于蒸镀对应的相邻且分别属于两个所述像素单元的两个所述第一颜色子像素。

上述AMOLED显示屏及精密金属掩膜板具有的有益效果为：在AMOLED显示屏中的每个像素单元中，包括第一颜色子像素、两个第二颜色子像素和两个第三颜色子像素，第一颜色子像素、第二颜色子像素及第三颜色子像素的颜色各不相同且为红色、蓝色及绿色中的一种。其中，第一颜色子像素与行平行的一侧分别与两个第二颜色子像素相邻，第一颜色子像素与列平行的一侧及第二颜色子像素与列平行的一侧均与第三颜色子像素相邻，第一颜色子像素与列平行的另一侧及另一第二颜色子像素与列平行的一侧均与另一第三颜色子像素相邻。因此在该像素单元中，相当于包含了两个像素，且这两个像素复用第一颜色子像素。同时，在像素排列结构中位于同一行且相邻的两个第三颜色子像素共用同一个像素电路(该相邻的两个第三颜色子像素分别位于相邻额两个像素单元中)，即相当于每个像素单元的两个第三颜色子像素只用一个像素电路。

因此，对于一个像素单元来说，最多需要4个像素电路(即第一颜色子像素、两个第二颜色子像素分别由独立的像素电路控制，而第三颜色子像素仅需要一个像素电路)。而对于传统的像素来说，2个像素需要6个像素电路，因此该AMOLED显示屏减少了像素电路的数量，减小了薄膜晶体管所占的空间，降低了制备薄膜晶体管的工艺难度，从而能够提高显示屏的像素密度。

在对应于上述AMOLED显示屏蒸镀工艺中的使用AMOLED精密金属掩膜板，包括若干第一开孔和第二开孔。其中第一开孔用于蒸镀对应的像素单元中的两个第二颜色子像素。第二开孔用于蒸镀对应的位于同一行且相邻的两个第三颜色子像素。因此与传统的FMM相比，该AMOLED精密金属掩膜板中的第一开孔和第二开孔均同时蒸镀两个像素，增加了开孔的面积，从而降低了制作工艺难度。因此，对于上述AMOLED显示屏中的像素排列结构来说，同时能够克服薄膜晶体管和FMM制作工艺的难度，从而进一步提高显示屏的像素密度。

附图说明

图1为一实施例的AMOLED显示屏的像素排布结构的第一种示意图。

图2为图1所示实施例的AMOLED显示屏的像素排布结构的另一种示意图。

具体实施方式

为了更清楚的解释本发明提供的AMOLED显示屏及精密金属掩膜板，以下结合实施例作具体的说明。

在一实施例提供的AMOLED显示屏中，包括像素电路，该像素电路用于驱动像素。如图1、图2所示，在该AMOLED显示屏的像素排布结构中，包括依次按行方向、列方向排列的若干像素单元110。每个像素单元110包括第一颜色子像素111、两个第二颜色子像素112和两个第三颜色子像素113。其中，第一颜色子像素111、第二颜色子像素112及第三颜色子像素113的颜色各不相同且为红色、蓝色及绿色中的一种。因此，第一颜色子像素111、第二颜色子像素112、第三颜色子像素113即能构成一个像素。

第一颜色子像素111与行平行的一侧分别与两个第二颜色子像素112相邻，即在一个像素单元110中，两个第二颜色子像素112均位于第一颜色子像素111的上方或下方。第一颜色子像素111与列平行的一侧及第二颜色子像素112与列平行的一侧均与第三颜色子像素113相邻，第一颜色子像素111与列平行的另一侧及另一第二颜色子像素112与列平行的一侧均与另一第三颜色子像素113相邻。

那么根据上述描述的第一颜色子像素111、两个第二颜色子像素112和两个第三颜色子像素113之间的位置关系可以看出，在一个像素单元110中相当于包含了两个像素，且这两个像素复用第一颜色子像素111。具体为：位于左侧的第二颜色子像素112和第三颜色子像素113及第一颜色子像素111构成一个像素；位于右侧的第二颜色子像素112和第三颜色子像素113及第一颜色子像素111又构成另一个像素。

同时，在整个像素排列结构中，位于同一行且相邻的两个第三颜色子像素113共用同一个像素电路。由于在同一个像素单元110中，两个第三颜色子像素113之间还设有第一颜色子像素111和第二颜色子像素112，因此在同一行中相邻的两个第三颜色子像素113只能是分别位于相邻两个像素单元110中的两个第三颜色子像素113。

因此，对于一个像素单元110(相当于2个像素)来说，共包括5个子像素，且最多需要4个像素电路(即第一颜色子像素111、单个第二颜色子像素112分别由独立的像素电路控制即有3个像素电路，而两个第三颜色子像素113相当于仅需要一个像素电路)。相当于一个像素只包括2.5个子像素和2个像素电路。而对于传统的像素来说，1个像素需要3个像素电路。因此该AMOLED显示屏中一个像素相当于减少了一个像素电路，与传统的AMOLED显示屏相比，减少了像素电路的数量，进而减小了薄膜晶体管所占的空间，降低了制备薄膜晶体管的工艺难度，从而能够提高显示屏的像素密度。

具体的，如图1所示，第一颜色子像素111、第二颜色子像素112和第三颜色子像素113的颜色分配情况可以为以下形式：第一颜色子像素111为红色子像素R，第二颜色子像素112为绿色子像素G1、绿色子像素G1G2，第三颜色子像素113为蓝色子像素B1、蓝色子像素B2。同时两个像素复用红色子像素R。那么在一个像素单元110中，红色子像素R、蓝色子像素B1及绿色子像素G1构成一个像素，而红色子像素R、蓝色子像素B2及绿色子像素G2构成另一个像素。

具体的，如图2所示，第一颜色子像素111、第二颜色子像素112和第三颜色子像素113的颜色分配情况还可以为以下另一种形式：第一颜色子像素111为绿色子像素G，第二颜色子像素112为红色子像素R1、红色子像素R2，第三颜色子像素113为蓝色子像素B1、蓝色子像素B2。同时两个像素复用绿色子像素G。那么在一个像素单元110中，绿色子像素G、蓝色子像素B1及红色子像素R1构成一个像素，而绿色子像素G、蓝色子像素B2及红色子像素R2构成另一个像素。

可以理解的是，第一颜色子像素111、第二颜色子像素112和第三颜色子像素113的颜色分配情况不限于上述两种情况，只要保证一个像素单元110中能够构成两个正常发光的像素即可。

同时，对应于上述AMOLED显示屏，在蒸镀工艺中使用的AMOLED精密金属掩膜板的工艺结构就能作进一步改进。该AMOLED精密金属掩膜板包括若干第一开孔和第二开孔。

其中，第一开孔用于蒸镀对应的像素单元110中的两个第二颜色子像素112。由于在同一个像素单元110中，两个第二颜色子像素112相邻，因此能够通过加大第一开孔的面积(即使得第一开孔的面积至少能覆盖对应相邻的两个第二颜色子像素112区域)来使得第一开孔能够同时蒸镀这两个相邻的第二颜色子像素112。具体的，对应于图1，则为绿色子像素G1和绿色子像素G2使用第一开孔同时蒸镀。对应于图2，则为红色子像素R1和红色子像素R2使用第一开孔同时蒸镀。

第二开孔用于蒸镀对应的位于同一行且相邻的两个第三颜色子像素113。由于在相邻的两个像素单元110中，总对应两个第三颜色子像素113相邻，因此能够通过加大第二开孔的面积(即使得第二开孔的面积至少能覆盖对应相邻的两个第三颜色子像素113的区域)来使得第二开孔同时蒸镀这两个相邻的第三颜色子像素113。具体的，对应于图1与图2，则为蓝色子像素B1和蓝色子像素B2使用第二开孔同时蒸镀。

由此可见，在上述AMOLED精密金属掩膜板中，相比传统的工艺来说，第一开孔和第二开孔的面积较大，即相同的FMM开孔能够蒸镀更多的像素，从而降低了FMM的工艺制作难度。因此，对于上述AMOLED显示屏的像素排列结构来说，在减少了像素电路的数量从而减小了薄膜晶体管所占的空间的基础上，又能降低FMM的工艺制作难度，从而同时克服了制备FMM和制备薄膜晶体管的工艺难度，进而进一步能够提高显示屏的像素密度。

具体的，在上述AMOLED显示屏的像素排列结构中，任意相邻的两个像素单元110中距离最近的子像素为相同颜色。也就是说，相邻的像素单元110在排布时，都使得相同颜色的子像素排布在一起。以图1所示为例，第一列第一个像素单元110中红色子像素R位于绿色子像素G1和绿色子像素G2的下方，那么在第一列第二个像素单元110中即将红色子像素R设于绿色子像素G1和绿色子像素G2的上方，从而使得这两个相邻的像素单元110距离最近的子像素为相同颜色(即红色)。

基于上述排布方式，在蒸镀工艺中使用的AMOLED精密金属掩膜板的工艺结构就能作进一步改进，即能够增加FMM中更多开孔的面积，从而进一步降低FMM的工艺制作难度。该AMOLED精密金属掩膜板具体包括若干第一开孔、第二开孔和第三开孔。

其中，第一开孔用于蒸镀对应的相邻且分别属于两个像素单元110的四个第二颜色子像素112。其中，对应于图1，绿色子像素G1、绿色子像素G2与相邻的另一像素单元110中的绿色子像素G1、绿色子像素G2共用第一开孔蒸镀。对应于图2，红色子像素R、红色子像素R2与相邻的另一像素单元110中的红色子像素R、红色子像素R2共用第一开孔蒸镀。因此，无论是图1还是图2，第一开孔都能同时蒸镀四个子像素，即第一开孔的面积应大于或等于四个子像素面积，且与相邻开孔能够隔开即可。

第二开孔，用于蒸镀对应的位于同一行且相邻的两个第三颜色子像素113。如上所述，对应于图1和图2，同行相邻且分别属于两个像素单元110中的蓝色子像素B1和蓝色子像素B2能够共用该第二开孔。

第三开孔，用于蒸镀对应的相邻且分别属于两个像素单元110的两个第一颜色子像素111。其中，对应于图1，相邻的两个红色子像素R共用一个第三开孔蒸镀。对应于图2，则为相邻的两个绿色子像素G共用一个第三开孔蒸镀。因此，无论是图1还是图2，第三开孔都能同时蒸镀两个像素，而且第三开孔的面积能够大于或等于两个开孔的面积，且与相邻开孔相隔开即可。

可以理解的是，任意相邻的两个像素单元110之间的排布方式不限于上述一种情况，只要能够保证满足FMM的工艺制作要求即可。例如，在满足FMM的工艺要求的情况下，也可只控制一部分像素单元110按照上述方式排列。

具体的，在任一像素单元110中，两个第二颜色子像素112共用一个像素电路。那么在这种情况下，一个像素单元110仅需要3个像素电路，就能进一步减少像素电路的数量，从而进一步提高显示屏的像素密度。

可以理解的是，若一个像素单元110通过4个像素电路控制的情况已满足显示屏的像素密度要求，则无需设置两个第二颜色子像素112共用一个像素电路。

具体的，第二颜色子像素112和第三颜色子像素113的面积相同，第一颜色子像素111的面积大于第二颜色子像素112的面积且小于像素单元110面积的一半，从而使得第一颜色子像素111无论是应用于同一像素单元110中左侧的像素还是右侧的像素，都能够有较好的发光效果，以便于第一颜色子像素111在两个像素之间复用。

具体的，第一颜色子像素111和第三颜色子像素113的形状均为长方形，且第二颜色子像素112的形状为正方形。该设置方式更便于实现在同一像素单元110中构成两个像素。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种AMOLED显示屏，包括像素电路，所述像素电路用于驱动像素，其特征在于，像素排布结构包括依次按行方向、列方向排列的若干像素单元，所述像素单元包括第一颜色子像素、两个第二颜色子像素和两个第三颜色子像素，所述第一颜色子像素、第二颜色子像素及第三颜色子像素的颜色各不相同且为红色、蓝色及绿色中的一种；

所述第一颜色子像素与行平行的一侧分别与所述两个第二颜色子像素相邻，所述第一颜色子像素与列平行的一侧及所述第二颜色子像素与列平行的一侧均与所述第三颜色子像素相邻，所述第一颜色子像素与列平行的另一侧及另一所述第二颜色子像素与列平行的一侧均与另一所述第三颜色子像素相邻；在所述像素排列结构中，位于同一行且相邻的两个所述第三颜色子像素共用同一个像素电路。

2.根据权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，在所述像素排列结构中，任意相邻的两个所述像素单元中距离最近的子像素为相同颜色。

3.根据权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，在任一所述像素单元中，所述两个第二颜色子像素共用一个像素电路。

4.根据权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，所述第一颜色子像素和单个第二颜色子像素分别由独立的像素电路控制。

5.根据权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，所述第二颜色子像素和第三颜色子像素的面积相同，所述第一颜色子像素的面积大于所述第二颜色子像素的面积且小于所述像素单元面积的一半。

6.根据权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，所述第一颜色子像素和第三颜色子像素的形状均为长方形，且所述第二颜色子像素的形状为正方形。

7.根据权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，所述第一颜色子像素为红色子像素；所述第二颜色子像素为绿色子像素；所述第三颜色子像素为蓝色子像素。

8.根据权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，所述第一颜色子像素为绿色子像素；所述第二颜色子像素为红色子像素；所述第三颜色子像素为蓝色子像素。

9.一种AMOLED精密金属掩膜板，其特征在于，适用于权利要求1所述的AMOLED显示屏的蒸镀工艺，且所述AMOLED精密金属掩膜板包括若干第一开孔和第二开孔；所述第一开孔用于蒸镀对应的所述像素单元中的两个第二颜色子像素；所述第二开孔用于蒸镀对应的位于同一行且相邻的两个所述第三颜色子像素。

10.根据权利要求9所述的AMOLED精密金属掩膜板，其特征在于，在所述AMOLED显示屏的像素排列结构中，任意相邻的两个所述像素单元中距离最近的子像素为相同颜色；所述AMOLED精密金属掩膜板还包括第三开孔；

所述第一开孔用于蒸镀对应的相邻且分别属于两个所述像素单元的四个所述第二颜色子像素；所述第三开孔用于蒸镀对应的相邻且分别属于两个所述像素单元的两个所述第一颜色子像素。