CN107794502A - 一种具有高反射纳米涂层的大功率 led 灯灯罩 - Google Patents

一种具有高反射纳米涂层的大功率 led 灯灯罩 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，包括LED灯灯罩基板，所述LED灯灯罩基板面上由内到外依次相邻地复合四个膜层，其中第一膜层即最内膜层为ZrO2层，第二膜层为氧化铝层，第三膜层为铝层，第四膜层即最外膜层为二氧化硅层。本发明提供的具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩具有高反射率的特点，有助于LED灯充分利用光源，并且提高LED灯的发光效率。

Description

一种具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩
技术领域
本发明涉及一种大功率LED灯灯罩，尤其是具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩。
背景技术
大功率的LED灯常使用于道路、隧道等场所。为了充分利用LED灯的光源，节约电能，常在LED灯的灯罩上贴上反射膜，对于大功率的LED灯来说，要求反射膜能在100o以上的高温下长时间工作，但是普通的反射膜反射率比较低，无法达到大功率LED灯的使用要求，并且普通灯罩会大量吸收LED灯的光照，影响LED灯的发光效率，光照效果不强。
发明内容
本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种有助于LED灯充分利用光源，并且提高LED灯的发光效率，同时有高反射率的具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩。
为了达到上述目的，本发明采用以下方案：
一种具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，包括灯罩基板，所述灯罩基板上由内到外依次相邻地复合四个膜层，其中第一膜层即最内膜层为ZrO2层，第二膜层为氧化铝层，第三膜层为铝层，第四膜层即最外膜层为二氧化硅层。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述第一膜层ZrO2层的厚度为20～30nm。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述第二膜层氧化铝层的厚度为30～40nm。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述第三膜层铝层的厚度为100～200nm。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述最外膜层二氧化硅层的厚度为50～60nm。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述第一膜层ZrO2层的厚度为20nm。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述第二膜层氧化铝层的厚度为30nm。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述第三膜层铝层的厚度为200nm。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述最外膜层二氧化硅层的厚度为50nm。
如上所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，所述灯罩基板上由内到外依次相邻地复合四个膜层的厚度总和为200～330nm。
与现有技术相比，本发明有如下优点：
1、本发明利用氧化铝、铝、二氧化硅，作为所述大功率LED灯灯罩的镀膜层，使具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩具有高反射率的优点，具有优良的抗氧化性，有助于LED灯充分利用光源，并且提高LED灯的发光效率。
2、所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩复合膜层的总厚度约300nm,需要的成本低。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
图1是LED灯灯罩基板与各个镀层的厚度结构示意图。
具体实施方式
请参见图1，在本具体实施例中，一种具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，包括灯罩基板1，所述灯罩基板上由内到外依次相邻地复合四个膜层，其中第一膜层即最内膜层为ZrO2层21，第二膜层为氧化铝层22，第三膜层为铝层23，第四膜层即最外膜层为二氧化硅层24。
所述第一膜层为ZrO2层21,即二氧化锆层。以锆作为平面靶，在反应溅射时提高膜层的折射率，从而提升膜层的反射率，增强LED灯光照的效果。在所述灯罩基板1上真空磁控溅射ZrO2层21的厚度为20～30nm，优选20nm。
所述第二膜层为氧化铝层22。氧化铝本身就是致密的氧化薄膜，具有良好的抗氧化性，对膜层有保护作用，同时以氧化铝层作为镀层，降低膜层对光照的吸收，提高提升膜层的反射率，有助于大功率LED灯充分利用光源。在所述ZrO2层21上真空磁控溅射氧化铝层22的厚度为30～40nm，优选30nm。
所述第三膜层为铝层23。铝具有良好的抗氧化性，表面光洁。用直流电源溅射的所述铝靶是纯度为99.99％的高纯铝，通过溅射高纯度铝作为镀膜层，目的是使膜层光滑平整，具有较强的反射作用，提高膜层的折射率，从而提高膜层的可见光反射率，使可见光反射率达到95％以上，减少灯罩对光照的吸收，提高大功率LED灯的光照效果。在所述氧化铝层22上真空磁控溅射氧化铝层23的厚度为100～200nm。
所述第四膜层即最外膜层为二氧化硅层24。二氧化硅化学性质稳定，良好的抗氧化性。以二氧化硅作为最外膜层，不易在环境发生反应，破坏灯罩的膜层结构，影响大功率LED灯的光照效果，同时具有良好抗氧化性的二氧化硅层有着高反射的优点，从而提升膜层的反射率，增强LED灯光照的效果。在所述铝层23上真空磁控溅射二氧化硅层24的厚度为50～60nm，优选50nm。
所述灯罩基板1上由内到外依次相邻地复合四个膜层的厚度总和为200～330nm，优选300nm。所述LED灯灯罩基板上的复合膜层的厚度低，具有高反射的优点，制造的成本低。
本发明还公开了一种制备具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩的方法，其包括以下步骤：
一种制备具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩的方法，包括以下步骤：
(1)第一步，清洗LED灯灯罩基板1。
优选的，将所述成型的LED灯灯罩基板1放在丙酮中超声清洗10分钟后，再用乙醇超声清洗10分钟，最后在去离子水中超声清洗10分钟。
(2)第二步，将已清洗的LED灯灯罩基板1烘干，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机。
(3)第三步，镀膜，包括如下步骤:
A、将已烘干的LED灯灯罩基板1在镀膜机的第一腔室进行无靶材等离子轰击，实现灯罩表面除气。
B.在所述LED灯灯罩基板1上真空磁控溅射ZrO2层21，采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，用直流电源溅射和、锆平面靶；氩氧比为300～500SCCM：500～800SCCM，本步骤中氩氧比决定了成膜的质量，因此，优先氩氧的比为300SCCM：500SCCM。
C.真空磁控溅射氧化铝层22，采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，用交流电源溅射铝靶，氩氧比为300～500SCCM：500～800SCCM，本步骤中氩氧比决定了成膜的质量，因此，优先氩氧的比为300SCCM：500SCCM。
D.真空磁控溅射铝层23，采用氩气作为反应气体，气体流量为300～500SCCM，用直流电源溅射铝靶，氩氧比为300～500SCCM：500～800SCCM；本步骤中氩氧比决定了成膜的质量，因此，优先氩氧的比为300SCCM：500SCCM。
E.真空磁控溅射二氧化硅层24，采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，用交流电源溅射硅铝靶，氩氧比为300～500SCCM：500～800SCCM，本步骤中氩氧比决定了成膜的质量，因此，优先氩氧的比为300SCCM：500SCCM。
(4)第四步，灯罩成型，将所述LED灯灯罩基板1从镀膜机中取出，按客户需要成型，得到所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩。
综上对本申请的实施方式作了详细说明，但是本申请不限于上述实施方式。即使其对本申请作出各种变化，则仍落入在本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，包括LED灯灯罩基板(1)，其特征在于：所述LED灯灯罩基板(1)上由内到外依次相邻地复合四个膜层，其中第一膜层即最内膜层为ZrO2层(21)，第二膜层为氧化铝层(22)，第三膜层为铝层(23)，第四膜层即最外膜层为二氧化硅层(24)。
2.根据权利要求1所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述第一膜层ZrO2层(21)的厚度为20～30nm。
3.根据权利要求1所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述第二膜层氧化铝层(22)的厚度为30～40nm。
4.根据权利要求1所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述第三膜层铝层(23)的厚度为100～200nm。
5.根据权利要求1所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述最外膜层二氧化硅层(24)的厚度为50～60nm。
6.根据权利要求2所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述第一膜层ZrO2层(21)的厚度为20nm。
7.根据权利要求3所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述第二膜层氧化铝层(22)的厚度为30nm。
8.根据权利要求4所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述第三膜层铝层(23)的厚度为200nm。
9.根据权利要求5所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述最外膜层二氧化硅层(24)的厚度为50nm。
10.根据权利要求1所述具有高反射纳米涂层的大功率LED灯灯罩，其特征在于：所述LED灯灯罩基板(1)上由内到外依次相邻地复合四个膜层的厚度总和为200～330nm。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101403482A (zh) * 2007-10-02 2009-04-08 强宇企业股份有限公司 高反射率发光二极管芯片反射灯罩的制造方法
CN202065919U (zh) * 2011-01-30 2011-12-07 周钟霖 具有良好光穿透性的灯具
WO2014159322A1 (en) * 2013-03-14 2014-10-02 Cree, Inc. Led lamp and hybrid reflector
CN105624614A (zh) * 2015-12-31 2016-06-01 奥特路（漳州）光学科技有限公司 一种过滤蓝光防辐射的灯罩及其制造方法
CN206469206U (zh) * 2017-03-02 2017-09-05 吴明春 一种仿真叠影灯罩

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101403482A (zh) * 2007-10-02 2009-04-08 强宇企业股份有限公司 高反射率发光二极管芯片反射灯罩的制造方法
CN202065919U (zh) * 2011-01-30 2011-12-07 周钟霖 具有良好光穿透性的灯具
WO2014159322A1 (en) * 2013-03-14 2014-10-02 Cree, Inc. Led lamp and hybrid reflector
CN105624614A (zh) * 2015-12-31 2016-06-01 奥特路（漳州）光学科技有限公司 一种过滤蓝光防辐射的灯罩及其制造方法
CN206469206U (zh) * 2017-03-02 2017-09-05 吴明春 一种仿真叠影灯罩

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