CN107604230A - 一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,具体为:将W粉在模具中压制成型为钨压坯;然后放入氢气气氛烧结炉中烧结,随炉冷却至室温,获得钨骨架;最后将CuTi合金放于钨骨架上方,在氢气气氛烧结炉中,进行熔渗,随炉冷却至室温,即获得CuW合金。本发明通过使用CuTi合金进行熔渗而引入Ti元素使得Cu/W相界面实现了良好的冶金结合。经固溶时效处理的Cu(Ti)W合金,具有良好的硬度和导电性。Ti元素的引入可以很好强化弱击穿相‑Cu相,提高了电触头使用寿命的目的。
Description
技术领域
本发明属于异质材料连接技术领域,涉及一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法。
背景技术
随着电力系统容量的不断增长以及电压等级的不断提高,对断路器的可靠性提出了更高的要求。在传统的高压输变体系中,触头材料的开断寿命较短,开断次数仅有几十次,而在超高压大容量的新型环境下,要求触头材料的开断次数能达到3000次。与常规高压开关相比,特高压系统用电容器组开关由于操作频次高,触头材料在开合的过程中经历了因高频次累积的“烧蚀—高温磨损—挤压”作用,导致弧触头变形并大量损失而失效,进而导致开关不能正常工作。
常规的CuW触头材料在开断过程中,由于铜的逸出功低且熔点较低,在高温电弧作用下,铜相将发生熔化和喷溅,造成触头材料表面凹凸不平;再者,由于Cu、W两相润湿性差而不互溶,也不形成任何化合物,使其相界面难以实现冶金结合,进而出现大量孔洞和缺陷,使界面成为弱击穿点,造成CuW触头材料的失效。这将严重影响输电线路运行的稳定性和可靠性。
Ti元素具有高熔点、低于Cu、W两相的逸出功等优异性能。根据Cu-Ti、Ti-W二元相图可知,常温下Ti在Cu中溶解度很小,而在高温下Ti与W可以形成β(Ti-W)固溶体。由于Ti在高温下容易与H、N和C等元素反应,且使用W粉中添加Ti粉烧结W骨架制备CuW合金的方法时,Ti颗粒不能完全熔化,这些都将严重影响CuW触头材料的电导率和强度。故采用CuTi合金进行熔渗,熔渗时,Ti向W中扩散,可达到强化Cu/W相界面的目的,使其转变为冶金结合,减少界面缺陷,提高界面强度,以及改善界面为弱击穿点的现象。经固溶时效处理后,Ti从Cu中析出,起到强化Cu相的作用。
发明内容
本发明的目的是提供一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,用以强化Cu相,并且提高Cu/W相界面结合强度。。
本发明所采用的技术方案是,一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,具体按以下步骤实施:
步骤1,压制钨压坯:
将W粉在模具中压制成型,得到钨压坯;
步骤2,烧结:
将步骤1得到的钨压坯放入氢气气氛烧结炉中烧结,随炉冷却至室温,获得钨骨架;
步骤3,熔渗:
将CuTi合金放于步骤2得到的钨骨架上方,在氢气气氛烧结炉中,进行熔渗,随炉冷却至室温,获得CuW合金。
本发明的特点还在于,
步骤1中W粉用量按照所需制备的CuW合金中W的含量确定。
步骤1中压制压力为200~400MPa,保压时间为20~40s。
步骤2中烧结参数为:升温至800~1000℃保温0.5~2h。
步骤3中熔渗烧结参数为:先升温至800~1000℃保温0.5~2h,再升温至1200~1400℃,保温1~3h。
步骤3中CuTi合金中,Cu和Ti的质量比为1:0.5~2.0%。
步骤3中CuTi合金通过将纯Cu块和Ti块放入Ar气气氛保护的感应熔炼炉中进行熔炼得到。
熔炼过程中,首先以0.5~1.0A/min的速率加电流至26~30A,保温20~30min,再以1~2A/min的速率降电流至13A。
本发明的有益效果是,本发明通过使用CuTi合金进行熔渗而引入Ti元素使得Cu/W相界面实现了良好的冶金结合。经固溶时效处理的Cu(Ti)W合金,具有良好的硬度和导电性。Ti元素的引入可以很好强化弱击穿相-Cu相,提高了电触头使用寿命的目的。
附图说明
图1是本发明制备方法的工艺流程图;
图2是本发明方法熔炼CuTi合金时的坩埚装配示意图;
图3是本发明方法制备的Cu(Ti)W合金的SEM照片;
图4是本发明方法制备的Cu(Ti)W合金的线扫描图。
图中,1.石墨坩埚,2.石墨纸,3.刚玉坩埚,4.Ti块,5.Cu块。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明进行详细说明。
本发明提供了一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其流程如图1所示,具体按以下步骤实施:
步骤1,熔炼CuTi合金
按照Ti块的用量为纯Cu块质量的0.5~2.0%,将Φ28mm的纯Cu块5与Ti块4(表面打磨干净)后放入Φ40mm刚玉坩埚3中,再将刚玉坩埚3放入铺有石墨纸2的石墨坩埚1中,防止两种坩埚粘连。装配示意图如图2所示,Ti块4位于两块Cu块5之间。将装好的坩埚放入Ar气气氛保护的感应熔炼炉中,以0.5~1.0A/min的速率加电流至26~30A,保温20~30min,再以1~2A/min的速率降电流至13A,关闭电流仪。取出试样后,机加工去除表面的氧化层和杂质。
步骤2,压制钨压坯
按照所制备的铜钨合金中W的含量为65~85wt.%,称取W粉倒入经脱模剂涂抹后的模具,在WE-10型万能材料试验机上进行压制成型,得到钨压坯。压力为200~400MPa,保压20~40s,以便气体能够顺利排出,同时保证粉末在型腔中得到充分填实。
步骤3,烧结
将步骤2得到的钨压坯放入气氛烧结炉中,通入氢气40min后检验氢气的纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至800~1000℃保温0.5~2h,随炉冷却至室温,获得钨骨架。
步骤4,熔渗
根据W粉的用量和紧实率,所需渗入的CuTi合金的质量为15~35wt.%,实际熔渗中CuTi合金用量应比计算值多40~60%,以确保熔渗过程进行得较为充分和完全。将CuTi合金块叠放于钨骨架上方,再放入烧结炉中。通入氢气40min后,检验氢气纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至800~1000℃保温0.5~2h,再升温至1200~1400℃,保温1~3h,随炉冷却至室温,获得Cu(Ti)W合金。
本发明通过在CuW合金中引入Ti元素,改善了Cu、W的润湿性,提高了Cu/W相界面结合强度。同时Ti元素的添加可以很好强化弱击穿相-Cu相,制得的Cu(Ti)W合金,具有良好的强度和导电性,提高了电触头使用寿命的目的。
实施例1
将表面杂质打磨干净的纯Cu块与Ti块(质量为Cu块质量的0.5%)放入Φ40mm刚玉坩埚中,再将刚玉坩埚放入铺有石墨纸的石墨坩埚中。最后将装好的坩埚放入Ar气气氛保护的感应熔炼炉中,以0.5A/min的速率加电流至26A,保温20min,再以1A/min的速率降电流至13A,关闭电流仪。取出试样后,机加工去除表面的氧化层和杂质,获得CuTi合金。按照所制备的铜钨合金中W的含量为70wt.%,将W粉倒入经脱模剂涂抹后的模具,在WE-10型万能材料试验机上进行压制成型,得到钨压坯。压力为200MPa,保压40s,以便气体能够顺利排出,同时保证粉末在型腔中得到充分填实。将压制好的钨压坯放入气氛烧结炉中,通入氢气40min后检验氢气的纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至800℃保温1h,随炉冷却至室温,获得钨骨架。将30wt.%的CuTi合金(理论值,实际应比理论多40-60%,以确保充分熔渗)块叠放于钨骨架上方,再放入烧结炉中。通入氢气40min后,检验氢气纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至950℃保温1.5h,再升温至1350℃,保温1h,随炉冷却至室温,获得Cu(Ti)W合金。
实施例2
将表面杂质打磨干净的纯Cu块与Ti块(质量为Cu块质量的1.0%)后放入Φ40mm刚玉坩埚中,再将刚玉坩埚放入铺有石墨纸的石墨坩埚中,防止两种坩埚粘连。最后将装好的坩埚放入Ar气气氛保护的感应熔炼炉中,以1A/min的速率加电流至26A,保温30min,再以2A/min的速率降电流至13A,关闭电流仪。取出试样后,机加工去除表面的氧化层和杂质,获得CuTi合金。按照所制备的铜钨合金中W的含量为82wt.%,将W粉倒入经脱模剂涂抹后的模具,在WE-10型万能材料试验机上进行压制成型,得到钨压坯。压力为400MP,保压20s,以便气体能够顺利排出,同时保证粉末在型腔中得到充分填实。将压制好的钨压坯放入气氛烧结炉中,通入氢气40min后检验氢气的纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至900℃保温1h,随炉冷却至室温,获得钨骨架。将18wt.%的CuTi合金块(理论值,实际应比理论多40-60%,以确保充分熔渗)叠放于钨骨架上方,再放入烧结炉中。通入氢气40min后,检验氢气纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至850℃保温1h,再升温至1200℃,保温3h,随炉冷却至室温,获得Cu(Ti)W合金。
实施例3
将表面杂质打磨干净的纯Cu块与Ti块(质量为Cu块质量的1.5%)后放入Φ40mm刚玉坩埚中,再将刚玉坩埚放入铺有石墨纸的石墨坩埚中,防止两种坩埚粘连。最后将装好的坩埚放入Ar气气氛保护的感应熔炼炉中,以1A/min的速率加电流至28A,保温23min,再以2A/min的速率降电流至13A,关闭电流仪。取出试样后,机加工去除表面的氧化层和杂质,获得CuTi合金。按照所制备的铜钨合金中W的含量为76wt.%,将W粉倒入经脱模剂涂抹后的模具,在WE-10型万能材料试验机上进行压制成型,得到钨压坯。压力为300MPa,保压30s,以便气体能够顺利排出,同时保证粉末在型腔中得到充分填实。将压制好的钨压坯放入气氛烧结炉中,通入氢气40min后检验氢气的纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至850℃保温2h,随炉冷却至室温,获得钨骨架。将24wt.%的CuTi合金块(理论值,实际应比理论多40-60%,以确保充分熔渗)叠放于钨骨架上方,再放入烧结炉中。通入氢气40min后,检验氢气纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至900℃保温1.5h,再升温至1300℃,保温1h,随炉冷却至室温,获得Cu(Ti)W合金。
实施例4
将表面杂质打磨干净的纯Cu块与Ti块(质量为Cu块质量的2.0%)后放入Φ40mm刚玉坩埚中,再将刚玉坩埚放入铺有石墨纸的石墨坩埚中,防止两种坩埚粘连。最后将装好的坩埚放入Ar气气氛保护的感应熔炼炉中,以0.5A/min的速率加电流至30A,保温27min,再以1A/min的速率降电流至13A,关闭电流仪。取出试样后,机加工去除表面的氧化层和杂质,获得CuTi合金。按照所制备的铜钨合金中W的含量为68wt.%,将W粉倒入经脱模剂涂抹后的模具,在WE-10型万能材料试验机上进行压制成型,得到钨压坯。压力为350MPa,保压35s,以便气体能够顺利排出,同时保证粉末在型腔中得到充分填实。将压制好的钨压坯放入气氛烧结炉中,通入氢气40min后检验氢气的纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至1000℃保温0.5h,随炉冷却至室温,获得钨骨架。将22wt.%的CuTi合金块(理论值,实际应比理论多40-60%,以确保充分熔渗)叠放于钨骨架上方,再放入烧结炉中。通入氢气40min后,检验氢气纯度,确认安全后点燃氢气,打开冷却水后,开始升温至1000℃保温2h,再升温至1400℃,保温2h,随炉冷却至室温,获得Cu(Ti)W合金。
图2为熔炼CuTi合金时坩埚装配示意图。高温下,Ti易与石墨发生反应,故用刚玉坩埚进行熔炼。将纯Cu块与Ti块后放入Φ40mm刚玉坩埚中,再将刚玉坩埚放入铺有石墨纸的石墨坩埚中,防止两种坩埚粘连。
图3为本发明制备的Cu(Ti)W合金的SEM照片,从图片中可以看出,使用CuTi合金对W骨架进行熔渗制备的CuW合金,组织分布均匀,界面处无孔洞等结合不良的现象。
图4为本发明制备的Cu(Ti)W合金的线扫描图。从图中可以看出熔渗时熔融Cu液中的Ti向W中扩散,最终使得Ti在Cu、W两相中均匀分布。起到强化Cu/W相界面,提高界面强度的目的。
Claims (8)
1.一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其特征在于,具体按以下步骤实施:
步骤1,压制钨压坯:
将W粉在模具中压制成型,得到钨压坯;
步骤2,烧结:
将步骤1得到的钨压坯放入氢气气氛烧结炉中烧结,随炉冷却至室温,获得钨骨架;
步骤3,熔渗:
将CuTi合金放于步骤2得到的钨骨架上方,在氢气气氛烧结炉中,进行熔渗,随炉冷却至室温,获得CuW合金。
2.根据权利要求1所述的一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其特征在于,所述步骤1中W粉用量按照所需制备的CuW合金中W的含量确定。
3.根据权利要求1所述的一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其特征在于,所述步骤1中压制压力为200~400MPa,保压时间为20~40s。
4.根据权利要求1所述的一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其特征在于,所述步骤2中烧结参数为:升温至800~1000℃保温0.5~2h。
5.根据权利要求1所述的一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其特征在于,所述步骤3中熔渗烧结参数为:先升温至800~1000℃保温0.5~2h,再升温至1200~1400℃,保温1~3h。
6.根据权利要求1所述的一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其特征在于,所述步骤3中CuTi合金中,Cu和Ti的质量比为1:0.5~2.0%。
7.根据权利要求1或6所述的一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其特征在于,所述步骤3中CuTi合金通过将纯Cu块和Ti块放入Ar气气氛保护的感应熔炼炉中进行熔炼得到。
8.根据权利要求7所述的一种使用CuTi合金熔渗制备CuW合金的方法,其特征在于,所述熔炼过程中,首先以0.5~1.0A/min的速率加电流至26~30A,保温20~30min,再以1~2A/min的速率降电流至13A。
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