CN107589631A - 掩模板及其制造方法、显示面板、触控板 - Google Patents

掩模板及其制造方法、显示面板、触控板 Download PDF

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Abstract

一种掩模板及其制造方法、显示面板、触控板。该掩模板的制造方法包括：提供基底；在所述基底上形成光阻材料层；利用扫描束对所述光阻材料层进行至少两次扫描曝光，其中，每次扫描曝光沿着平行于所述基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中所述扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的所述光阻材料层，至少一对相邻两个所述扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中。上述制备方法获得的掩模板可以提高利用其制造的装置的良率。

Description

掩模板及其制造方法、显示面板、触控板
技术领域
本公开至少一个实施例涉及一种掩模板及其制造方法、显示面板、触控板。
背景技术
在当前高精度的电子显示产品的生产工艺过程中，需要进行多次曝光工艺。曝光工艺中需要使用掩模板，借助掩模板上的图案以在产品中形成相应形状的图形。
但是，受限于当前的掩模板制造工艺，在制备掩模图案的过程中会存在部分图形被重复曝光，而重复曝光部分的图形的关键尺寸(Critical Dimension，CD)存在偏差，采用具有CD偏差的掩模板制备电子产品时，例如，显示面板时，会使得整个电子产品出现功能性不良，例如显示面板发生显示不良等。
发明内容
本公开至少一个实施例提供一种掩模板的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上形成光阻材料层；以及利用扫描束对所述光阻材料层进行至少两次扫描曝光，其中，每次扫描曝光沿着平行于所述基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中所述扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的所述光阻材料层，至少一对相邻两个所述扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，在将利用该掩模板形成的装置的结构层的过程中，所述第一区域在所述装置所在面的投影与所述装置的非有效区域重合，所述预设宽度为所述扫描束在垂直于所述第一方向的第二方向上的宽度。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述装置包括有效区域，利用所述掩模板形成所述装置时，所述掩模板的缩影倍率为X：1，并且在所述第二方向上，所述有效区域的宽度为W1，所述非有效区域的宽度为W2，每个所述有效区域两侧分别设置有所述非有效区域，所述预设宽度为L，所述预设宽度满足：
X*(W1+W2)≤L≤X*(N*(W1+W2)+2*W2)
其中，N为正整数，X>0。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述部分交叠的区域的宽度为L1，所述部分交叠的区域的宽度满足：0≤L1≤2X*W2，所述部分交叠的区域的宽度为所述第二方向上的宽度。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，在所述基底上形成所述光阻材料层之前，还包括：在所述基底上形成遮光材料层；所述制造方法，还包括：对所述光阻材料层进行显影，以去除部分所述光阻材料层；刻蚀所述遮光材料层并去除所述遮光材料层的未覆盖有所述光阻材料层的部分；以及去除所述光阻材料层，以形成掩模图案。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，在每个扫描区域中，所述掩模图案形成在所述部分交叠的区域之外。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，其中，在每个扫描区域中，所述部分交叠的区域中形成有部分所述掩模图案。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述装置为显示面板，所述显示面板包括多个像素单元，每个所述像素单元包括显示区和非显示区，所述非有效区域为所述非显示区，所述有效区域为所述显示区。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述装置为触控板，所述触控板包括触控功能区和非触控功能区，所述非有效区域为所述非触控功能区，所述有效区域为触控功能区。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，在利用所述掩模板形成所述显示面板中的所述结构层时，所述掩模图案在所述显示面板所在面上的投影位于所述显示区或者部分位于非显示区中。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，在利用所述掩模板形成所述触控板时，所述掩模图案在所述触控板所在面上的投影位于所述触控功能区中或者部分位于非触控功能区中。
例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述结构层包括有源层、栅绝缘层、栅电极、层间绝缘层、源漏电极层、钝化层、栅线和数据线中的一种或多种。
本公开至少一个实施例提供一种掩模板，所述掩模板根据前述任一实施例中所述的制造方法制备。
本公开至少一个实施例提供一种显示面板，所述显示面板前述任一实施例中的掩模板制造。
本公开至少一个实施例提供一种触控板，所述触控板前述任一实施例中的掩模板制造。
在本公开至少一个实施例提供的掩模板及其制造方法、显示面板、触控板中，相邻扫描区的部分交叠的区域位于掩模板的第一区域内，而第一区域对应于装置中的非有效区域，从而光阻材料层的被扫描束重复曝光的区域也会对应于装置中的非有效区域，降低或者消除因扫描束对光阻材料层重复曝光导致的不良导致的由该掩模板制造的装置的不良问题。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。
图1为一种掩模板的制造方法的示意图；
图2为图1所示制造方法获得的掩模板的结构示意图；
图3为本公开一个实施例提供的掩模板的制造方法的示意图；
图4为图3所示制造方法获得的掩模板的结构示意图；
图5为图4所示掩模板与使用该掩模板制造的装置的结构关系的示意图；
图6为图5所示A区域的结构示意图；
图7A为本公开一个实施例提供的触控板的平面图；
图7B为图7A所示触控板沿M-N的截面图；
图7C为本公开一个实施例提供的掩模板与使用该掩模板制造的装置的结构关系的示意图；
图8为本公开一个实施例提供的一种掩模板的制造方法的过程图；以及
图9A～图9D为本公开一个实施例提供的另一种掩模板的制造方法的过程图。
附图标记：
1-衬底；2-扫描束；3-掩模图案；10-基底；20-光阻材料层；30-遮光材料层；100-掩模板；110-掩模图案；200-显示面板；210-像素单元；211-显示区；212-非显示区；300-触控板；310-触控单元；301-非触控区；302-触控区；320-第一电极；330-第二电极；340-绝缘层。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
图1为一种掩模板的制造方法的示意图。例如图1所示，在掩模板的制备过程中，在衬底1上沉积材料层后需要对其进行图案化工艺(例如涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀等)以在衬底1上形成掩模图案，在对光刻胶的曝光过程中，需要使用扫描束2对光刻胶扫描曝光，但是扫描束2的宽度有限，所以需要将掩模板划分为多个扫描区域(例如S1、S2、S3等)以完成对掩模板的曝光，但是，在实际工艺中，保证对整个掩模板的曝光工艺，相邻扫描区域(例如S2和S3)之间会部分交叠，例如扫描区域S1和扫描区域S2、扫描区域S2和扫描区域S3之间的部分交叠的区域如图1中的区域P所示。
图2为图1所示制造方法获得的掩模板的结构示意图。如图2所示，掩模板上包括多个掩模图案3。在光刻工艺中，通过对扫描束2的能量的控制来获得掩模图案，但是，在区域P中的部分光刻胶可能被扫描束2重复曝光，使得区域P中形成的掩模图案3的关键尺寸(CD，Critical Dimension)存在偏差。此外，因掩模板的制造过程中可能需要多次扫描曝光，掩模图案3的上述CD差异可能会以周期性呈现。当利用该掩模板制造产品例如显示面板，掩模板中的掩模图案3的周期性差异会使得显示面板中的结构出现周期性不良，并且掩模图案3的周期性差异问题在对显示面板的结构曝光的过程中可能会进一步放大，例如，当利用具有关键尺寸偏差的该掩模图案形成显示面板的显示区的图形时，会使得显示面板的例如显示图像出现周期性不良。而且，随着显示面板的解析度的增加，上述情况导致的显示面板的显示不良的问题也会更加严重，严重制约了高解析度电子显示产品例如显示面板的发展。
本公开至少一个实施例提供一种掩模板的制造方法，包括:提供基底；在基底上形成光阻材料层；利用扫描束对光阻材料层进行至少两次扫描曝光，每次扫描曝光沿着平行于基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的光阻材料层，至少一对相邻两个扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中。例如，在本公开至少一个实施例中，在将利用该掩模板形成的装置的结构层的过程中，所述第一区域在所述装置所在面的投影与装置的非有效区域重合，预设宽度为扫描束在垂直于第一方向的第二方向上的宽度。
需要说明的是，掩模板中的第一区域为人为划分的区域，掩模板中可能没有相关的结构(例如掩模图案)对该区域的边界进行限定，在利用该掩模板制造装置中的结构层时，第一区域与装置的非有效区域相对应。因此，在本公开的下述实施例中，以掩模板用于制备装置中的结构层时为参考，以装置的非有效区域对掩模板的第一区域的位置进行间接的限定。
在第二方向上预设宽度的扫描区域之间存在沿第一方向延伸的部分交叠的区域，在掩模板制作过程中，实际的扫描束的扫描宽度可以设定为小于或等于该预设宽度，当不需要在部分交叠区域形成掩模图案时，扫描束的实际扫描宽度便小于该预设宽度，当需要在部件交叠的区域形成掩模图案时，扫描束的实际扫描宽度小于或等于该预设宽度。示例性的，扫描束可以包括多条扫描线(例如激光线等)，在扫描束沿着第一方向进行扫描的过程中，根据欲形成的掩模图案，对扫描束的能量(例如扫描束各位置处的激光线的能量大小)分布进行控制，以对光阻材料进行选择性曝光，所以，在扫描束对光阻材料层进行扫描曝光的过程中，扫描束的实际扫描宽度根据掩模图案的形状进行分布，在局部区域，会使得扫描束的实际扫描宽度小于预设宽度。
这里需要说明的是，重复曝光区域指的是被扫描束至少两次曝光的区域，而且相邻扫描区域的扫描束的实际扫描宽度可以不相同或者相同，在相邻两个预设宽度的扫描区域的部分交叠区域可以均不被扫描束实际扫描曝光或者可以仅被两束扫描束之一实际扫描曝光或者可以被两束扫描束实际扫描曝光。
当利用这样制作出来的掩模板制造装置时，该部分交叠的区域对应于装置中的非有效区域，当部分交叠区域中设置有掩模图案时，光阻材料层的被扫描束重复曝光的区域也位于该部分交叠区域中，从而光阻材料层的被扫描束重复曝光的区域也会对应于装置中的非有效区域，这样即使重复曝光区域中的掩模图案存在尺寸偏差，但因为该部分图案对应于装置的非有效功能区域，例如，对应于显示面板的非显示区，该尺寸偏差并不会影响装置的有效区域的图形，例如，显示面板的显示区的图形，因此，不会导致装置的功能性不良。进一步地，当该部分交叠的区域(预设宽度的扫描区域的部分交叠区域)中没有形成掩模图案时，该区域处的光阻材料层可以不会被扫描束重复曝光，所以，形成的掩模图案的关键尺寸没有影响，更不会导致装置的功能性不良。因此，本发明实施例的掩模板的制造方法，能够降低甚至消除因光阻材料层重复曝光导致的不良而造成由该掩模板制造的装置的功能性不良问题。
下面，结合附图对根据本公开至少一个实施例中的掩模板及其制造方法、显示面板、触控板进行说明。
本公开至少一个实施例提供一种掩模板的制造方法，图3为本公开一个实施例提供的掩模板的制造方法的示意图。例如图3所示，掩模板的制造方法包括：提供基底10；在基底10上形成光阻材料层20；利用扫描束2对光阻材料层20进行至少两次扫描曝光，每次扫描曝光沿着平行于基底10所在面的第一方向X进行，且每次扫描曝光中扫描束2扫描具有预设宽度的扫描区域中的光阻材料层20，至少一对相邻两个扫描区域是部分交叠的，且该部分交叠的区域P位于掩模板的第一区域中。该掩模板中的第一区域未在图中示出，其位置与装置中的非有效区域对应。
例如，在本公开至少一个实施例中，在将利用该掩模板形成的装置的结构层的过程中，第一区域在装置所在面的投影与装置的非有效区域重合，预设宽度为扫描束2在垂直于第一方向的第二方向Y上的宽度。
在该实施例中，部分交叠的区域P对应于装置的非有效区域，即扫描束2的扫描位置和扫描的预设宽度根据待形成的装置的结构尺寸进行了限定，以免掩模板中的因重复曝光造成的不良问题对装置的功能产生影响。下面，对通过本公开实施例的制备方法获得的掩模板和利用该掩模板制造的装置的结构关系进行分析，进一步说明本公开实施例中的技术方案。
在本公开的实施例中，以基底10为参考对各个结构的位置及方向等进行指定，以便于对本公开的实施例中的技术方案进行说明。例如图3所示，以基底10为参考建立三维坐标系，并且X轴(未示出，可以参考图4)、Y轴的方向平行于基底10所在面，Z轴的方向垂直于基底10所在面。例如，在本公开的实施例中，X轴的方向可以为第一方向，Y轴的方向可以为第二方向。
例如图3所示，在掩模板的制造过程中，光阻材料层20上具有多个扫描区域例如扫描区域S1、扫描区域S2、扫描区域S3和扫描区域S4，上述多个扫描区域具有预设宽度且沿X轴方向延伸。相邻的扫描区域之间例如S1和S2、S2和S3、S3和S4之间存在部分交叠的区域P。位于部分交叠的区域P中的光阻材料层20可以被扫描束2重复曝光。需要说明的是，扫描束2的能量分布根据需要形成的掩模板的结构进行设置，所以，扫描束的实际扫描宽度可能小于扫描区域的预设宽度，所以，部分交叠的区域P中的光阻材料层20不一定全部被扫描束2重复曝光或者可以不被重复曝光或者可以不被曝光，但是，一旦部分交叠区域中的光阻材料层20被重复曝光，则被扫描束2重复曝光的部分位于部分交叠的区域P中。
这里，预设宽度的扫描区域是该扫描束2最大的扫描宽度，实际中，实际的扫描宽度可以小于或等于该预设宽度，本发明的实施例不对此进行限定。
在本公开的实施例中，对由上述实施例中的掩模板的制造方法获得的掩模板制造的装置的类型不做限制。例如，该装置可以为显示面板、触控板等。下面，以该装置为显示面板为例对本公开实施例中的技术方案进行说明。
在本公开的实施例中，装置中包括多种结构，制备装置中各个结构所需要的掩模板可能不同。下面，以该装置为显示面板，且该掩模板用于制备显示面板中的像素电极为例，对本公开下述实施例中的技术方案进行说明。
图4为图3所示制造方法获得的掩模板的结构示意图；图5为图4所示掩模板与使用该掩模板制造的装置的结构关系的示意图；图6为图5所示A区域的结构示意图。
如图4所示，根据本公开至少一个实施例的制造方法获得的掩模板100包括多个掩模图案110。如图3和图4所示，扫描区域S2和S3的预设宽度为L，部分交叠的区域P的宽度为L1。如图5和图6所示，显示面板200可以包括多个像素单元210，每个像素单元210包括非显示区211和显示区212，非显示区211例如位于显示区212的周围，显示单元210的显示区212为显示面板200的有效区域，显示单元210的非显示区211为显示面板200的非有效区域11。在该实施例中，掩模板中的第一区域对应于显示面板200的非有效区域11(非显示区211)。示例性的，在通过掩模板制备显示面板200的结构层时，掩模板中位于第一区域中的部分在显示面板200上的投影与非显示区211重合。
如图4、图5和图6所示，掩模板100上的掩模图案110用于制备显示面板200中的像素电极，如果部分掩模图案110位于部分交叠的区域P中，则掩模图案110的位于P区域中的部分会因光阻材料层20受到扫描束2的重复曝光而存在不良。但是，像素电极中通过掩模图案110的位于P区域中的图案形成的部分位于显示面板200的非有效区域11(非显示区211)中，在显示面板200的显示过程中，像素电极中的结构不良部分不会对显示区212中的显示图像产生影响，提高了显示面板的显示图像的显示效果。或者，在部分交叠的区域P中不具有掩模图案，或者不具有被重复曝光的掩模图案，从而这部分掩模图案不具有关键尺寸偏差，而不会对待形成装置的结构层带来不良影响。
这里需要说明的是，部分交叠区域对应于非有效区域，或者，部分交叠区域的在所述装置所在面的投影位于装置的非有效区域内，所指的是，利用该掩模板形成装置中的结构层时，部分交叠区域被利用形成非有效区域中的图形，例如，通过步进式光刻机的光学系统投影后该部分交叠区域在非有效区域内。
在本公开的实施例中，对扫描束2的类型不做限制。例如，扫描束2可以为激光束或者电子束等。
在本公开的实施例中，扫描区域的预设宽度的尺寸以及位置根据装置的具体结构进行设置。下面，根据装置的具体结构对扫描区域的预设宽度的尺寸及位置进行限定。
例如，在本公开至少一个实施例中，如图6所示，装置包括有效区域。例如，利用该掩模板形成装置(例如显示面板200)中的结构层时，掩模板的缩影倍率设为X：1，在第二方向上(Y轴的方向)，有效区域(例如显示面板的像素单元210中的显示区212)的宽度为W1，非有效区域的宽度为W2，每个有效区域的两侧分别设置有非有效区域，预设宽度为L，预设宽度满足：
X*(W1+W2)≤L≤X*(N*(W1+W2)+2*W2)
其中，N为正整数，X>0。
在利用掩模板制造装置的过程中，掩模板的缩影倍率的具体数值可以根据实际工艺来设置。示例性的，例如，掩模板的缩影倍率可以为4：1，掩模板上的掩模图案的尺寸为通过该掩模图案制备的结构的尺寸的四倍；例如，掩模板的缩影倍率可以为1：1，掩模板上的掩模图案的尺寸可以与通过该掩模图案制备的结构的尺寸相等。例如，在掩模板的缩影倍率为1：1的情况下，在通过该掩模板形成装置中的结构层时，掩模板在装置所在面上的投影可以为正投影，即，掩模板的第一区域在装置所在面上的正投影与装置的非有效区域重合。
例如，在本公开至少一个实施例中，如图4、图5和图6所示，部分交叠的区域P的宽度为L1，部分交叠的区域P的宽度满足：0≤L1≤2X*W2，部分交叠的区域P的宽度为第二方向(Y轴的方向)的宽度。
在本公开的实施例中，对显示面板200中的非显示区211和显示区212的位置的限定方式不做限制。示例性的，显示面板200还可以包括设置在例如其显示侧的黑矩阵，黑矩阵的开口可以对应于显示面板200的显示区212，黑矩阵的遮光部分对应于显示面板200的非显示区211(非有效区域)。
例如，在实际工艺中，受例如曝光设备的精度等的限制，部分交叠的区域P的宽度可以为8～20微米，而对于当前的PPI(像素密度，pixels per inch)在400或400以上的装置例如显示面板，相邻像素单元之间的非有效区域的宽度通常也在20微米以上。因此，在本公开的实施例中，以掩模板的缩影倍率为1：1为例，对于显示面板中的例如位于显示区中的结构(例如像素电极)，掩模板中用于形成像素电极的掩模图案可以完全避开部分交叠的区域P，从而使得通过该掩模板形成的像素电极的关键尺寸不受影响，而且，也不需要提升曝光设备的精度，降低成本。
例如，在本公开至少一个实施例中，装置还可以为触控板。触控板例如可以包括触控功能区和非触控功能区，装置中的非有效区域为非触控功能区，装置中的有效区域为触控功能区。例如，利用该掩模板形成触控板中的结构层时，掩模板的第一区域与触控板的非触控功能区相对应。
图7A为本公开一个实施例提供的触控板的平面图，图7B为图7A所示触控板沿M-N的截面图。例如，在本公开至少一个实施例中，如图7A和图7B所示，触控板300包括多个触控单元310，每个触控单元310可以包括至少一个触控功能区302以及围绕触控功能区302的非触控功能区301。触控基板300例如包括设置在基底10上的多条第一电极320和多条第二电极330，第一电极320沿X轴方向延伸，第二电极330沿Y轴的方向延伸。在Z轴的方向上，第一电极320和第二电极330之间设置有绝缘层340，如此，第一电极320和第二电极330相互交叠的区域可以形成电容，当外物靠近，相应区域的电容的电容量会发生变化，检测电容量发生变化的电容的位置，可以定位触点。在该实施例中，掩模板中的第一区域对应于触控板300的非有效区域(非触控功能区301)。示例性的，在通过掩模板制备触控板300的结构层时，掩模板中位于第一区域中的部分在触控板300上的投影与非触控功能区301重合。
例如图7A和图7B所示，第一电极320和第二电极330交叠的区域对应于触控板300的触控功能区302，触控板300的其他区域为非触控功能区301。部分交叠的区域P(例如扫描区域S2和扫描区域S3重叠的区域)在触控板300上的投影位于触控板300的非触控功能区301。
图7C为本公开一个实施例提供的掩模板与使用该掩模板制造的装置的结构关系的示意图，该掩模板例如用于制造触控板300中的第一电极320。例如图7A、图7B和图7所示，部分交叠的区域P在触控板300上的投影至少部分位于非触控功能区301中，进一步例如完全位于非触控功能区301中。例如，掩模图案110位于P区域(扫描束2的预设宽度的重叠区域)之外，形成的第一电极320的关键尺寸不受影响，也不会影响触控板300的触控功能区302的触控功能。例如，掩模图案110部分位于P区域(光阻材料层被扫描束的重复曝光的部分所在的区域)之中，第一电极320中通过掩模图案110的位于P区域中的图案形成的部分位于非触控功能区中，在触控基板300的使用过程中，第一电极320中的结构不良部分不会对触控功能区302中的触控功能产生影响，提高了触控基板300的触控效果。
在掩模板用于制造触控板300时，用于制造掩模板的扫描束2的参数(例如预设宽度、扫描区域的位置)可以参考前述实施例(掩模板制造的装置为显示面板的实施例)中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。本公开的实施例对掩模板上的掩模图案的具体位置不做限制，可以根据实际需要对其进行布置。例如，在本公开至少一个实施例中，在每个扫描区域中，掩模图案可以形成在部分交叠的区域(扫描束2的预设宽度的重叠区域)之外，扫描束2可以未对部分交叠的区域的光阻材料层进行重复扫描曝光，如此，掩模图案中不会存在因光阻材料层重复曝光造成的不良。例如，在本公开至少一个实施例中，在每个扫描区域中，部分交叠的区域(光阻材料层被扫描束的重复曝光的部分所在的区域)中可以形成有部分掩模图案，如此，掩模图案的位于部分交叠的区域的部分因光阻材料被重复曝光，可能会使得该部分的关键尺寸存在差异，但是该部分交叠区域的掩模图案对应于装置的非有效区域，也就是，该部分交叠区域的掩模图案用于形成装置的非有效区域的图形，因此，因重复曝光造成的掩模图案的不良不会对装置的有效区域构成影响，保证了装置的性能。
例如，在本公开至少一个实施例中，在利用掩模板形成显示面板中的结构层时，掩模图案在显示面板所在面上的投影至少部分位于像素单元中的非显示区中。例如，掩模图案在显示面板所在面上的投影完全位于显示区中；例如，掩模图案在显示面板所在面上的投影部分位于非显示区中。掩模图案与由其制造的结构的位置关系根据该结构的类型确定，只要掩模板的部分交叠的区域在显示面板上的投影位于非显示区中，就可以降低或者消除显示面板的显示不良问题。
例如，在本公开至少一个实施例中，掩模图案110可以用于形成显示面板200中的结构层，该结构层可以包括有源层、栅绝缘层、栅电极、层间绝缘层、源漏电极层、钝化层、栅线和数据线等结构中的一种或多种。掩模图案110在掩模板上的分布位置根据利用该掩模板形成的显示面板200中的结构层在显示面板200中的位置决定。
示例性的，当掩模板用于制造显示面板200中的像素电极时，在利用掩模板制造显示面板200的过程中，掩模图案110在显示面板所在面上的投影可以设置为至少覆盖像素单元210中的显示区212，也可以部分延伸至像素单元210中的非显示区211中。例如，掩模图案110形成在掩模板的部分交叠的区域P(扫描束2的预设宽度的交叠区域)之外，扫描束2可以未对交叠区域的光阻材料层进行重复扫描曝光，像素电极的关键尺寸不受影响。例如，在每个扫描区域中，部分交叠的区域P(光阻材料层被扫描束的重复曝光的部分所在的区域)中形成有部分掩模图案110，像素电极与该部分交叠的区域P对应的部分，也就是，像素电极的利用该部分交叠的区域P中的掩模图案所形成的部分，位于像素单元210中的非显示区211中，不会对像素单元210的显示图像造成影响。
示例性的，当掩模板用于制造显示面板200中的栅线时，在利用掩模板制造显示面板200的过程中，掩模图案110在显示面板所在面上的投影位于像素单元210中的非显示区211中。例如，掩模图案110大部分形成在掩模板的部分交叠的区域P之外，如此，即使通过掩模板制造的栅线的对应于部分交叠的区域P的部分可能会存在电学不良问题，但该部分交叠区域对应于非显示区，栅线的剩余部分的电学功能良好，位于非显示区的栅线出现不良也不会导致显示面板200的显示区出现显示不良等问题。例如，掩模图案110可以全部形成在掩模板的部分交叠的区域P(扫描束2的预设宽度的交叠区域)之外，扫描束2可以未对交叠区域的光阻材料层进行重复扫描曝光，在此情况下，栅线的关键尺寸不受影响，可以进一步提升通过掩模板制造的栅线的电学性能。
例如，在本公开至少一个实施例中，利用掩模板形成触控板中的结构层时，掩模图案在触控板所在面上的投影至少部分位于触控板的非触控功能区中。例如，掩模图案在触控板所在面上的投影完全位于触控功能区中；例如，掩模图案在触控板所在面上的投影部分位于非触控功能区中。掩模图案与由其制造的结构的位置关系根据该结构的类型确定，只要掩模板的部分交叠的区域在触控板上的投影位于非触控功能区中，就可以降低或者消除触控板的触控功能不良问题。
例如，在本公开至少一个实施例中，掩模图案110用于形成触控板中的结构层可以为触控电极，该触控电极例如包括驱动电极和感应电极等结构中的一种或多种。
在本公开的实施例中，对掩模板中的掩模图案的形成方式、具体结构以及类型等不做限制，可以根据实际需要进行设计。
例如，在本公开至少一个实施例中，掩模板的制造方法还包括：对光阻材料层曝光之后，直接对光阻材料层显影以得到掩模图案。
例如，在本公开至少一个实施例中，掩模板的制造过程包括：在基底上形成遮光材料层；该制造方法，还包括：对光阻材料层进行显影，以去除部分光阻材料层；刻蚀遮光材料层并去除遮光材料层的未覆盖有光阻材料层的部分；以及去除光阻材料层，以形成掩模图案。下面，对上述掩模板的不同制造方法分别进行说明。
例如，在本公开至少一个实施例中，图8为本公开一个实施例提供的一种掩模板的制造方法的过程图。例如图8所示，掩模板的制造方法还可以包括：在如图3所示的扫描束2对光阻材料层20扫描曝光之后，对光阻材料层20显影以选择性去除部分光阻材料层20并得到掩模图案110。光阻材料层20的制备材料可以为掺杂遮光材料的光刻胶等。例如，在本公开一些实施例中，如图8所示，显影后，光阻材料层20剩余的部分形成掩模图案110；例如，在本公开另一些实施例中，显影后，光阻材料层20被去除的部分形成掩模图案110。
例如，在本公开至少一个实施例中，图9A～图9D为本公开一个实施例提供的另一种掩模板的制造方法的过程图。如图9A所示，在基底10上形成光阻材料层20之前，掩模板的制造方法还包括在基底10上形成遮光材料层30；如图9B所示，通过扫描束对光阻材料层20扫描曝光之后，对光阻材料层进行显影以去除部分光阻材料层20；如图9C所示，刻蚀遮光材料层30的未覆盖有光阻材料层20的部分；如图9D所示，去除剩余的光阻材料层20以形成掩模图案110。例如，在本公开一些实施例中，如图9D所示，遮光材料层30的剩余部分形成掩模图案110；例如，在本公开另一些实施例中，显影后，遮光材料层30被去除的部分形成掩模图案110。
在本公开的实施例中，对遮光材料层30的制备材料不做限制。例如，遮光材料层30的制备材料可以为黑色树脂、金属及金属合金等材料。
本公开至少一个实施例提供一种掩模板，该掩模板通过前述任一实施例中的制备方法制备。掩模板的具体化结构可以参考前述实施例(关于掩模板的制造方法的实施例)中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。例如，该掩模板可以为单色调掩模板，也可以为灰色调掩模板。
本公开至少一个实施例提供一种显示面板，该显示面板可以通过前述任一实施例中的掩模板制造。
例如，在本公开至少一个实施例中，该显示面板可以为液晶显示面板，包括阵列基板和对置基板，二者彼此对置以形成液晶盒，在液晶盒中填充有液晶材料。该对置基板例如为彩膜基板。阵列基板的每个像素单元的像素电极用于施加电场对液晶材料的旋转的程度进行控制从而进行显示操作。
例如，在本公开至少一个实施例中，该显示面板可以为有机发光二极管(OLED)显示面板，其中，显示面板的阵列基板上形成有机发光材料的叠层，每个像素单元的像素电极作为阳极或阴极用于驱动有机发光材料发光以进行显示操作。
例如，在本公开至少一个实施例中，该显示面板可以为电子纸显示面板，其中，显示面板的阵列基板上形成有电子墨水层，每个像素单元的像素电极作为用于施加驱动电子墨水中的带电微颗粒移动以进行显示操作的电压。
本公开至少一个实施例提供一种触控板，该触控板可以通过前述任一实施例中的掩模板制造。本公开的实施例对触控板的类型不做限制。例如，触控板的类型可以为电阻式触控板、电容式触控板或者光学式触控板等。
例如，在本公开至少一个实施例中，该触控板可以包括多条并列排布的驱动电极以及多条并列排布的感应电极，驱动电极和感应电极相互交叉，在驱动电极和感应电极相互交叉的位置形成电容，该电容的电容量受到外界物体的干扰，通过对电容的电容量的检测可以对触点进行定位，从而实现触控感功能。
本公开的实施例提供一种掩模板及其制造方法、显示面板、触控板，并且可以具有以下至少一项有益效果：
(1)在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，光阻材料层的相邻具有预设宽度的扫描区域之间的部分交叠的区域位于掩模板中的第一区域内，该第一区域对应于装置中的非有效区域，如此，降低或者消除因扫描束对光阻材料层重复曝光导致的不良导致的由该掩模板制造的装置的不良问题。
(2)在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，形成的掩模图案可以位于相邻具有预设宽度的扫描区域之间的部分交叠的区域之外，降低或消除了掩模图案中的不良，进而提升利用该掩模板制备的装置的质量。
(3)在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，形成的掩模图案可以部分位于相邻具有预设宽度的扫描区域之间的部分交叠的区域中，但因部分交叠区域对应于待形成装置的非有效区域，因此不会对有效区域的图形造成影响，从而降低或者消除因扫描束对光阻材料层重复曝光导致的不良导致的由该掩模板制造的装置的不良问题。
对于本公开，还有以下几点需要说明：
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。
(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种掩模板的制造方法，包括：
提供基底；
在所述基底上形成光阻材料层；以及
利用扫描束对所述光阻材料层进行至少两次扫描曝光，
其中，每次扫描曝光沿着平行于所述基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中所述扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的所述光阻材料层，至少一对相邻两个所述扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中。
2.根据权利要求1所述的掩模板的制造方法，其中，
在将利用该掩模板形成的装置的结构层的过程中，所述第一区域在所述装置所在面的投影与所述装置的非有效区域重合，所述预设宽度为所述扫描束在垂直于所述第一方向的第二方向上的宽度。
3.根据权利要求2所述的掩模板的制造方法，其中，所述装置包括有效区域，利用所述掩模板形成所述装置时，所述掩模板的缩影倍率为X：1，并且在所述第二方向上，
所述有效区域的宽度为W1，所述非有效区域的宽度为W2，每个所述有效区域两侧分别设置有所述非有效区域，所述预设宽度为L，所述预设宽度满足：
X*(W1+W2)≤L≤X*(N*(W1+W2)+2*W2)
其中，N为正整数，X>0。
4.根据权利要求3所述的掩模板的制造方法，其中，
所述部分交叠的区域的宽度为L1，所述部分交叠的区域的宽度满足：0≤L1≤2X*W2，所述部分交叠的区域的宽度为所述第二方向上的宽度。
5.根据权利要求3或4所述的掩模板的制造方法，在所述基底上形成所述光阻材料层之前，还包括：
在所述基底上形成遮光材料层；
所述制造方法，还包括：
对所述光阻材料层进行显影，以去除部分所述光阻材料层；
刻蚀所述遮光材料层并去除所述遮光材料层的未覆盖有所述光阻材料层的部分；以及
去除所述光阻材料层，以形成掩模图案。
6.根据权利要求5所述的掩模板的制造方法，其中，
在每个扫描区域中，所述掩模图案形成在所述部分交叠的区域之外。
7.根据权利要求5所述的掩模板的制造方法，其中，
在每个扫描区域中，所述部分交叠的区域中形成有部分所述掩模图案。
8.根据权利要求5所述的掩模板的制造方法，其中，
所述装置为显示面板，所述显示面板包括多个像素单元，每个所述像素单元包括显示区和非显示区，所述非有效区域为所述非显示区，所述有效区域为所述显示区。
9.根据权利要求5所述的掩模板的制造方法，其中，
所述装置为触控板，所述触控板包括触控功能区和非触控功能区，所述非有效区域为所述非触控功能区，所述有效区域为触控功能区。
10.根据权利要求8所述的掩模板的制备方法，其中，
在利用所述掩模板形成所述显示面板中的所述结构层时，所述掩模图案在所述显示面板所在面上的投影位于所述显示区或者部分位于所述非显示区中。
11.根据权利要求9所述的掩模板的制备方法，其中，
在利用所述掩模板形成所述触控板时，所述掩模图案在所述触控板所在面上的投影位于所述触控功能区中或者部分位于非触控功能区中。
12.根据权利要求10所述的掩模板的制备方法，其中，
所述结构层包括有源层、栅绝缘层、栅电极、层间绝缘层、源漏电极层、钝化层、栅线和数据线中的一种或多种。
13.一种掩模板，所述掩模板根据权利要求1-12中任一项所述的制造方法制备。
14.一种显示面板，所述显示面板利用权利要求13所述的掩模板制造。
15.一种触控板，所述触控板利用权利要求13所述的掩模板制造。
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