CN107562280B - 压力触控显示装置及制作和驱动方法 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种压力触控显示装置及制作和驱动方法，属于显示技术领域。压力触控显示装置包括：阵列基板、导光板和金属反射板，所述导光板设置在所述阵列基板和所述金属反射板之间；所述阵列基板中包括第一衬底基板以及设置在所述第一衬底基板上的金属线栅和金属连接端，且所述金属连接端与所述金属反射板电连接；其中所述金属线栅由多条平行排列的金属线构成，以使通过所述金属线栅的光成为线性偏振光。本公开提供的压力触控显示装置并未增加显示装置的厚度，可以实现轻薄化，且不与任何金属线或者透明电极共用，这样可以大大降低驱动难度，可以实现低成本化。

Description

压力触控显示装置及制作和驱动方法

技术领域

本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种压力触控显示装置及制作和驱动方法。

背景技术

随着用户对触控显示装置的体验度要求越来越高，触控技术不断发展，压力感测的应用，大大提升了用户的体验度，为用户提供更多维度的是体验和操作。

目前压力感测主要包括电阻式、电容式、光学式，其中电容式是通过用户手指在触摸屏上施加压力来改变电容两端电极的距离，进而使电容大小发生变化，通过检测电容的变化实现对压力的感测。由于需要产生形变，对触控装置而言，需要特殊设置。

因此，现有技术中的技术方案还存在有待改进之处。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种压力触控显示装置及制作方法和驱动方法，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得清晰，或者部分地通过本公开的实践而习得。

根据本公开的一个方面，提供一种压力触控显示装置，包括：阵列基板、导光板和金属反射板，所述导光板设置在所述阵列基板和所述金属反射板之间；

所述阵列基板中包括第一衬底基板以及设置在所述第一衬底基板上的金属线栅和金属连接端，且所述金属连接端与所述金属反射板电连接；

其中所述金属线栅由多条平行排列的金属线构成，以使通过所述金属线栅的光成为线性偏振光。

在本公开的一种示例性实施例中，所述金属连接端与所述金属反射板通过导电胶带电连接。

在本公开的一种示例性实施例中，所述金属线栅和所述金属连接端均设置在所述第一衬底基板背离所述导光板的一侧。

在本公开的一种示例性实施例中，所述金属线栅为一整块的电极图案。

在本公开的一种示例性实施例中，所述金属线栅包括多个矩阵式的电极图案，且相邻的所述电极图案通过分割区分隔开。

在本公开的一种示例性实施例中，还包括彩膜基板，所述彩膜基板包括第二衬底基板以及在所述第二衬底基板上设置的多个间隔分布的彩色膜层和黑矩阵单元，所述金属线栅的投影落在所述彩色膜层的投影内，所述分割区的投影落在所述黑矩阵单元的投影内。

在本公开的一种示例性实施例中，所述阵列基板还包括：触控驱动电路，所述金属连接端与所述触控驱动电路均位于非显示区域，所述触控驱动电路与所述金属连接端电连接；

其中所述金属连接端连接接地端或一直流信号端。

在本公开的一种示例性实施例中，所述金属线栅的厚度范围为100～200nm。

根据本公开的第二方面，还提供一种压力触控显示装置的制作方法，包括：

在第一衬底基板上采用构图工艺形成金属线栅、金属连接端、驱动元件以及开关元件，得到阵列基板，所述金属线栅由多条平行排列的金属线构成，以使通过所述金属线栅的光成为线性偏振光；

在第二衬底基板上采用构图工艺形成多个间隔分布的彩色膜层和黑矩阵单元，得到彩膜基板；

将所述阵列基板与所述彩膜基板对盒，形成显示面板，其中所述金属线栅的投影落在所述彩色膜层的投影内；

在所述显示面板靠近所述阵列基板的一侧贴附导光板和金属反射板，且所述导光板位于所述阵列基板和所述金属反射板之间；

将所述金属反射板与所述金属连接端电连接。

根据本公开的第三方面，还提供一种压力触控显示装置的驱动方法，包括：

向所述金属反射板提供一接地信号或一直流信号；

当有压力作用时，通过检测所述金属线栅与所述金属反射板之间电容大小的变化计算所述压力的大小。

本公开的某些实施例提供的压力触控显示装置及制作和驱动方法，将阵列基板中的金属线栅作为上电极层，将金属反射板作为下电极层，并将阵列基板中的金属连接端与金属反射板电连接，当手指触摸到显示面板上时，在压力的作用下第一衬底基板与金属反射板之间各膜层发生压缩形变，即改变了上电极层与下电极层之间的距离，进而改变两者之间的电容，通过电容的变化情况来进行压力大小的检测。本公开提供的压力触控显示装置并未增加显示装置的厚度，可以实现轻薄化，且不与任何金属线或者透明电极共用，这样可以大大降低驱动难度，可以实现低成本化。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出相关实施例中一种压力触控显示装置的剖面示意图。

图2示出相关实施例中另一种压力触控显示装置的剖面示意图。

图3示出本公开一实施例中提供的一种压力触控显示装置的剖面示意图。

图4示出本公开一实施例中压力传感器的原理示意图。

图5示出本公开一实施例中提供的另一种压力触控显示装置的剖面示意图。

图6示出本公开一实施例中金属线栅结构的俯视图。

图7示出本公开一实施例中触控驱动电路以及显示驱动电路在阵列基板上的位置关系示意图。

图8示出本公开一实施例中阵列基板上的金属连接端与金属线栅同层的示意图。

图9示出本公开一实施例中阵列基板上的金属连接端与金属线栅同层的示意图。

图10示出本公开另一实施例中提供的一种压力触控显示装置的制作方法的示意图。

图11示出本实施例另一实施例中提供的一种压力触控显示装置的驱动方法的示意图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对它们的重复描述。

此外，所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、方法、装置、实现、材料或者操作以避免喧宾夺主而使得本公开的各方面变得模糊。

附图中所示的一些方框图是功能实体，不一定必须与物理或逻辑上独立的实体相对应。可以采用软件形式来实现这些功能实体，或在一个或多个硬件模块或集成电路中实现这些功能实体，或在不同网络和/或处理器装置和/或微控制器装置中实现这些功能实体。

在本文中，“内侧”、“外侧”的方位术语分别是指朝向液晶层的一侧和背离液晶层的一侧，例如，衬底基板的内侧是指衬底基板朝向液晶层的一层。另外，“上”、“下”、“左”以及“右”等方位术语是相对于附图中显示器件示意置放的方位来定义的。应当理解到，上述方向性术语是相对的概念，它们用于相对于的描述和澄清，其可以根据显示器件所放置的方位的变化而相应地发生变化。

图1示出相关实施例中一种压力触控显示装置的剖面示意图，压力触控显示装置100包括：金属保护框101、压力触控层108、反射膜102、导光板103、下偏光片104、阵列基板105、彩膜基板106以及上偏光片107。如图1所示，在压力触控显示装置100中在导光板103和金属保护框101之间单独设置一层压力触控层102，当手指按压时，面板中各电极层与压力触控层108之间的距离发生变化，且压力触控层108检测到手指按压的电容变化情况，进而实现压力的感测。另外，图1中在导光板103的侧面还设置有LED(Light Emitting Diode，发光二极管)109作为光源。可见，这种结构还需要额外加一层压力触控层，会增加模组厚度，无法满足模组轻薄化的技术发展需求。

图2相关实施例中另一种压力触控显示装置的剖面示意图，压力触控显示装置200包括：金属保护框201、反射膜202、导光板203、下偏光片204、阵列基板205、彩膜基板206、上偏光片207，阵列基板205和彩膜基板207之间设置有压力触控下电极层(可以与公共电极共用)208和压力触控上电极层209。如图2所示，在彩膜基板206靠近阵列基板207的一侧设置有压力触控上电极层209，阵列基板207靠近彩膜基板206的一侧设置有压力触控下电极层208。另外，图2中在导光板203的侧面还设置有LED(Light Emitting Diode，发光二极管)210作为光源。由于图2所示结构中压力触控下电极层208与显示面板的金属线或者透明公共电极共用，因此在驱动时需要进行分时驱动，当进行显示驱动时，压力触控检测不工作，当进行压力触控检测时，显示驱动不工作，这样大大增加了驱动的难度，且由于共用电极的关系，当压力触控检测工作时会对显示效果有一定程度的影响，严重时，显示效果大大降低。

基于上述，图1和图2所示的相关实施例中的压力触控显示装置对压力触控层均需要进行特殊的设置，无法保证既能满足模组轻薄化的需求又能保证显示效果不受影响。

图3示出本公开一实施例中提供的一种压力触控显示装置的剖面示意图。如图3所示，该压力触控显示装置300包括：阵列基板、导光板303和金属反射板302。

其中阵列基板中包括第一衬底基板305以及设置在第一衬底基板305上的金属线栅308和金属连接端309，且金属连接端309与金属反射板302电连接，导光板303设置在阵列基板和金属反射板302之间；其中金属线栅308由多条平行排列的金属线构成，以使通过金属线栅的光成为线性偏振光。

需要说明的是，金属线栅位于阵列基板的显示区域，金属连接端位于阵列基板的非显示区域。另外，本实施例中的阵列基板中除了包括在第一衬底基板305上设置的金属线栅308和金属连接端309之外，还包括传统工艺中阵列基板所包括的结构(图3未示出)，如：开关元件及驱动元件的栅极、源极、漏极，以及像素电极、公共电极等等，还包括各电极层之间的绝缘层、层间介质层等膜层，本实施例中不再一一赘述。

如图3所示，在本实施例中，阵列基板上的金属连接端309与金属反射板302通过导电胶带301电连接，而且金属连接端309连接接地端GND或一直流信号端，将GND或者一直流信号输入给金属反射板302。其中导电胶带301可以与任何金属面以粘接方式，完成电搭接和缝隙的电封闭，如本实施例中的金属连接端309与金属反射板302均是金属面，可以与导电胶带粘接，实现两者的电连接。

需要说明的是，本实施例中的金属反射板302可以为一整面的、且朝向导光板一侧具有反射层的金属板，通过对金属板朝向导光板的一侧进行抛光打磨形成反射层。图3中在导光板303的侧面也设置有LED(Light Emitting Diode，发光二极管)310作为光源，LED310发出的光经过导光板303变成面光源，为显示装置提供光源。另外，本实施例中金属反射板302除了通过反射层起到对光起到反射作用之外，还可以起到金属保护框的作用，即本实施例中金属反射板可以起到图1和图2中反射膜102、202和金属保护框101、201两者的作用，因此本实施例中利用金属反射板既能实现反射作用，又能起到保护作用，节省空间，避免增加显示装置的厚度。

在本实施例中，图4示出本实施例中压力传感器的原理示意图，该压力传感器为电容式的压力传感器，如图4所示，金属线栅308作为压力触控的上电极层，金属反射板302作为压力触控的下电极层，两个金属的电极之间夹着电介质D。其中本实施例中的介质层D就是指图3中所示的金属反射板302与金属线栅308之间的各个膜层，如第一衬底基板305、导光板303以及板间的缝隙等，介质层D还可以包括图3中未示出的各常用膜层。

当有压力作用在某一电极层上时，金属线栅308与金属反射板302之间各膜层发生压缩形变，即可改变了上电极层和下电极层之间的距离，进而改变两者之间的电容，通过对电容的变化情况来检测压力的大小。如图4所示，当手指触摸到显示面板上时，在手指压力的作用下，两电极层之间的电介质发生压缩，两电极层之间的距离缩小，变化量为Δh，根据平板电容的计算公式：C＝(ε*S)/d，可知，随着两电极层(302和308)之间的距离d变小，电容C增大。这样，就可以通过测量两电极层之间的电容，来检测压力的大小。

本实施例中的金属线栅可以作为一整体的电极板，也可以为分割为对应多个(如n*n)触控单元的矩阵式电极图案。本实施例中图3示出金属线栅为一整体的电极板的剖面示意图，图5示出金属线栅包括多个电极图案的剖面示意图，图5中以3*3＝9个电极图案为例。其中图3中彩膜基板306并未示出具体结构，仅用306一整体的结构示出，而图5中彩膜基板示出其包括第二衬底基板304和在第二衬底基板304上间隔分布的彩色膜层311以及黑矩阵单元312。

图6示出本实施例中金属线栅结构的俯视图，图6所示俯视图与图5所示剖面示意图对应，如图6所示，作为下电极层的金属反射板302为一整体结构，作为上电极层的金属线栅308包括多个矩阵式的电极图案，且相邻的电极图案通过分割区E分隔开。如图6所示，在分割区E中还包括连接线L，用于将上电极层中的每一块电极(触控电极或感测电极)与控制电路(未图示)连接。图6所示结构可以实现多点的压力触控感测，而图3所示剖面示意图所示的金属线栅作为一整体的电极板时，可以实现单点的压力触控感测。

另外，图7为示出本实施例中触控驱动电路以及显示驱动电路在阵列基板上的位置关系示意图。本实施例中阵列基板还包括触控驱动电路(触控IC)313和显示驱动电路(显示IC)314设置在阵列基板的非显示区域(即周边位置)，其中触控驱动电路314与金属连接端309电连接，金属连接端309通过导电胶带301与金属反射板302电连接。

如图5所示，在本实施例的压力触控显示装置300中还包括彩膜基板，彩膜基板包括第二衬底基板304以及在第二衬底基板304上设置的多个间隔分布的彩色膜层311和黑矩阵单元312。

如图6所示，当金属线栅308包括多个矩阵式的电极图案时，金属线栅308的投影落在彩色膜层311的投影内，分割区E以及分割区E内的连接线L的投影均落在黑矩阵单元312的投影内。

需要说明的是，本实施例中金属线栅308由多条平行排列的金属线构成，可以使通过金属线栅的光成为线性偏振光，金属线栅作为上电极层除了具有电极作用的同时，能够对光线起到偏振片的作用，进而使得该阵列基板应用于显示装置时，能够省去下偏光片。另外，本实施例中金属线栅对光线的偏振方向与彩膜基板外侧的上偏振片307对光线的偏振方向相互垂直或具有一定夹角，以便对光线再不同方向上起到偏振作用。其中图6所示是以多条金属线沿垂直方向排列的金属线栅为例，在其他实施例中金属线的排列方向可以做出适应性变化。需要注意的是，这里的“垂直”是以图6所示俯视图当前的方位作为参考的描述，如果将图6所示的俯视图进行旋转，相应的方位描述也随之发生变化，因此金属线的排列方向描述为“垂直”还是“水平”并不是本公开所要保护的重点，只要金属线栅308与上偏振片307在不同方向上对光线起到偏振作用即可。

本实施例中的金属线栅308和金属连接端309均设置在第一衬底基板305背离导光板303的一侧，即金属线栅为朝向阵列基板内侧的方向。当通过导电胶带将金属连接端309与金属反射板302连接时，两者之间的第一衬底基板305、导光板303以及板间的缝隙作为介质层。

另外，本实施例中的金属连接端309与金属线栅308可以同层，也可以不同层。图8示出本实施例中阵列基板上的金属连接端与金属线栅同层的示意图。如图8所示，在第一衬底基板305上对同一层金属层通过构图工艺，分别在显示区域形成金属线栅308，在非显示区域形成金属连接端309。在金属线栅上以及金属线栅之间的分割区还设置有平坦层315，平坦层315上方在设置有传统背板工艺的各层结构(统一用316表示)，如开关元件及驱动元件的栅极、源极、漏极，以及像素电极、公共电极等等，还包括各电极层之间的绝缘层、层间介质层等膜层。图9示出本实施例中阵列基板上的金属连接端与金属线栅不同层的示意图。如图9所示，首先在第一衬底基板305上通过构图工艺在显示区域形成金属线栅308，在金属线栅308上以及金属线栅之间的分割区还设置有平坦层315，平坦层315上方在设置有传统背板工艺的各层结构(统一用316表示)，如开关元件及驱动元件的栅极、源极、漏极，以及像素电极、公共电极等等，还包括各电极层之间的绝缘层、层间介质层等膜层。最后通过构图工艺在非显示区域形成金属连接端，因此得到的金属连接端与金属线栅不同层。另外，金属连接端还可以与传统背板工艺中的金属同层形成，例如与栅极或源漏极的金属层同层形成。

需要说明的是，图8和图9为阵列基板示意图，由于仅为了示出阵列基板中金属连接端以及金属栅线的膜层关系，因此并未示出阵列基板中全部的膜层结构，例如对于传统背板工艺部分并未示出细节。

在本实施例中，金属线栅的线宽范围为50～100nm，线间距的范围为50～100nm，优选50nm，如果工艺允许还可以做的线间距更小，厚度范围为100～200nm，因此在传统阵列基板的工艺中增加金属线栅，不会对显示装置的整体厚度产生明显影响。

基于上述，本实施例中的金属线栅与上电极层共用，既能起到上电极层的电极作用，又能起到偏振片的作用，将金属线栅集成在阵列基板内，且不与其他任何金属线或者透明电极共用，从而可以降低驱动难度，而且不增加显示装置的厚度，能够达到轻薄化和低成本化。

综上所述，本公开通过将阵列基板中的金属线栅作为上电极层，将金属反射板作为下电极层，并将阵列基板中的金属连接端与金属反射板电连接，当手指触摸到显示面板上时，在压力的作用下第一衬底基板与金属反射板之间各膜层发生压缩形变，即改变了上电极层与下电极层之间的距离，进而改变两者之间的电容，通过电容的变化情况来进行压力大小的检测。本公开提供的压力触控显示装置并未增加显示装置的厚度，可以实现轻薄化，且不与任何金属线或者透明电极共用，这样可以大大降低驱动难度，可以实现低成本化。

图10还示出本实施例另一实施例中提供的一种压力触控显示装置的制作方法的示意图。

如图10所示，在步骤S101中，在第一衬底基板上采用构图工艺形成金属线栅、金属连接端、驱动元件以及开关元件，得到阵列基板。金属线栅由多条平行排列的金属线构成，以使通过金属线栅的光成为线性偏振光。其中金属线栅形成在阵列基板的显示区域，金属连接端形成在阵列基板的非显示区域。

在本实施例中，金属线栅与金属连接端为同层或不同层的金属层形成。

以金属线栅与金属连接端同层为例，则阵列基板的制作步骤为：首先，在第一衬底基板上对同一层金属层通过构图工艺，分别在显示区域形成金属线栅，在非显示区域形成金属连接端。之后，在金属线栅上以及金属线栅之间的分割区形成平坦层，平坦层上方形成传统背板工艺的各层结构，如开关元件及驱动元件的栅极、源极、漏极，以及像素电极、公共电极等等，还包括各电极层之间的绝缘层、层间介质层等膜层，得到阵列基板的结构如图8所示。

以金属线栅与金属连接端不同层为例，则阵列基板的制作步骤为：首先，在第一衬底基板上通过构图工艺在显示区域形成金属线栅，之后，在金属线栅上以及金属线栅之间的分割区形成平坦层，平坦层上方形成传统背板工艺的各层结构，如开关元件及驱动元件的栅极、源极、漏极，以及像素电极、公共电极等等，还包括各电极层之间的绝缘层、层间介质层等膜层。最后，通过构图工艺在非显示区域形成金属连接端，得到阵列基板的结构如图9所示。

以金属线栅与金属连接端不同层为例，则阵列基板的制作步骤还可以为：首先，在第一衬底基板上通过构图工艺在显示区域形成金属线栅，在金属线栅上以及金属线栅之间的分割区形成平坦层，之后，平坦层上方形成传统背板工艺的各层结构，如开关元件及驱动元件的栅极、源极、漏极，其中在形成栅极或源漏极的过程中，可以利用栅极金属层或源漏极金属层通过构图工艺在非显示区域形成金属连接端，最后，形成传统背板工艺还包括像素电极和/或公共电极等等，以及各电极层之间的绝缘层、层间介质层等膜层，得到阵列基板的结构如图9所示。

如图8所示，为实现多点的压力触控感测，金属线栅分割为对应多个(如n*n)触控单元的矩阵式电极图案，相邻的电极图案之间通过分割区E分隔开。

如图10所示，在步骤S102中，在第二衬底基板上采用构图工艺形成多个间隔分布的彩色膜层和黑矩阵单元，得到彩膜基板。

另外，得到彩膜基板后，还包括在彩膜基板的外侧贴附上偏振片。

如图10所示，在步骤S103中，将阵列基板与彩膜基板对盒，形成显示面板。

在本实施例中，阵列基板中的金属线栅的投影落在彩膜基板中的彩色膜层的投影内，阵列基板中的金属线栅之间的分割区的投影落在彩膜基板中的黑矩阵单元的投影内。

如图10所示，在步骤S104中，在显示面板靠近阵列基板的一侧贴附导光板和金属反射板，且导光板位于阵列基板和金属反射板之间。

导光板的侧面设置有光源，光源(点光源)发出的光经过导光板变成面光源，为显示装置提供光源。金属反射板除了通过反射层起到对光起到反射作用之外，还可以起到传统结构中金属保护框的作用。

如图10所示，在步骤S105中，将金属反射板与金属连接端电连接。

如通过导电胶带将金属反射板与金属连接端电连接，而且金属连接端连接接地端GND或一直流信号端，将GND或者一直流信号输入给金属反射板。

需要说明的是，本实施例中的构图工艺，可指包括光刻工艺，或，包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨、纳米压印等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺，是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。在实际加工过程中可根据本公开中所形成的结构选择相应的构图工艺。

综上所述，本公开提供的压力触控显示装置的制作方法，在形成阵列基板的过程中还形成金属线栅，将金属线栅作为上电极层，将金属反射板作为下电极层，并将阵列基板中的金属连接端与金属反射板电连接，当手指触摸到显示面板上时，在压力的作用下第一衬底基板与金属反射板之间各膜层发生压缩形变，即改变了上电极层与下电极层之间的距离，进而改变两者之间的电容，通过电容的变化情况来进行压力大小的检测。该制作方法得到的压力触控显示装置并未增加显示装置的厚度，可以实现轻薄化，且不与任何金属线或者透明电极共用，这样可以大大降低驱动难度，可以实现低成本化。

图11还示出本实施例另一实施例中提供的一种压力触控显示装置的驱动方法的示意图。

如图11所示，在步骤S111中，向金属反射板提供一接地信号或一直流信号。由于本实施例中触控驱动电路与金属连接端电连接，金属连接端又通过导电胶带与金属反射板电连接，因此可以通过触控驱动电路向金属翻身版输入接地信号或直流信号。

如图11所示，在步骤S112中，当有压力作用时，通过检测金属线栅与金属反射板之间电容大小的变化计算压力的大小。

当手指触摸到压力触控显示装置的显示面板上时，在手指压力的作用下，金属线栅与金属反射板之间的电介质发生压缩，两电极层之间的距离缩小，变化量为Δh，如图4所示，根据平板电容的计算公式：C＝(ε*S)/d，可知，随着金属线栅与金属反射板之间之间的距离d变小，电容C增大。这样，就可以通过测量两电极层之间的电容，来检测压力的大小。

本实施例提供的驱动方法能够实现与上述压力触控显示装置及其制作方法相同的技术效果，此处不再赘述。

应清楚地理解，本公开描述了如何形成和使用特定示例，但本公开的原理不限于这些示例的任何细节。相反，基于本公开公开的内容的教导，这些原理能够应用于许多其它实施方式。

以上具体地示出和描述了本公开的示例性实施方式。应可理解的是，本公开不限于这里描述的详细结构、设置方式或实现方法；相反，本公开意图涵盖包含在所附权利要求的精神和范围内的各种修改和等效设置。

Claims (10)

1.一种压力触控显示装置，其特征在于，包括：阵列基板、导光板和金属反射板，所述导光板设置在所述阵列基板和所述金属反射板之间，所述金属反射板为压力触控的下电极层；

所述阵列基板中包括第一衬底基板以及设置在所述第一衬底基板上的金属线栅和金属连接端，且所述金属连接端与所述金属反射板电连接；

其中所述金属线栅由多条平行排列的金属线构成，以使通过所述金属线栅的光成为线性偏振光，所述金属线栅为压力触控的上电极层。

2.根据权利要求1所述的压力触控显示装置，其特征在于，所述金属连接端与所述金属反射板通过导电胶带电连接。

3.根据权利要求1所述的压力触控显示装置，其特征在于，所述金属线栅和所述金属连接端均设置在所述第一衬底基板背离所述导光板的一侧。

4.根据权利要求1所述的压力触控显示装置，其特征在于，所述金属线栅为一整块的电极图案。

5.根据权利要求1所述的压力触控显示装置，其特征在于，所述金属线栅包括多个矩阵式的电极图案，且相邻的所述电极图案通过分割区分隔开。

6.根据权利要求5所述的压力触控显示装置，其特征在于，还包括彩膜基板，所述彩膜基板包括第二衬底基板以及在所述第二衬底基板上设置的多个间隔分布的彩色膜层和黑矩阵单元，所述金属线栅的投影落在所述彩色膜层的投影内，所述分割区的投影落在所述黑矩阵单元的投影内。

7.根据权利要求4或6所述的压力触控显示装置，其特征在于，所述阵列基板还包括：触控驱动电路，所述金属连接端与所述触控驱动电路均位于非显示区域，所述触控驱动电路与所述金属连接端电连接；

其中所述金属连接端连接接地端或一直流信号端。

8.根据权利要求1所述的压力触控显示装置，其特征在于，所述金属线栅的厚度范围为100～200nm。

9.一种权利要求1～8中任一项所述的压力触控显示装置的制作方法，其特征在于，包括：

在第一衬底基板上采用构图工艺形成金属线栅、金属连接端、驱动元件以及开关元件，得到阵列基板，所述金属线栅由多条平行排列的金属线构成，以使通过所述金属线栅的光成为线性偏振光，所述金属线栅为压力触控的上电极层；

在第二衬底基板上采用构图工艺形成多个间隔分布的彩色膜层和黑矩阵单元，得到彩膜基板；

将所述阵列基板与所述彩膜基板对盒，形成显示面板，其中所述金属线栅的投影落在所述彩色膜层的投影内；

在所述显示面板靠近所述阵列基板的一侧贴附导光板和金属反射板，且所述导光板位于所述阵列基板和所述金属反射板之间，所述金属反射板为压力触控的下电极层；

将所述金属反射板与所述金属连接端电连接。

10.一种权利要求1～8中任一项所述的压力触控显示装置的驱动方法，其特征在于，包括：

向所述金属反射板提供一接地信号或一直流信号；

当有压力作用时，通过检测所述金属线栅与所述金属反射板之间电容大小的变化计算所述压力的大小。

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