WO2010095187A1 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2010095187A1
WO2010095187A1 PCT/JP2009/005327 JP2009005327W WO2010095187A1 WO 2010095187 A1 WO2010095187 A1 WO 2010095187A1 JP 2009005327 W JP2009005327 W JP 2009005327W WO 2010095187 A1 WO2010095187 A1 WO 2010095187A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
substrate
liquid crystal
electrode
conductive film
display device
Prior art date
Application number
PCT/JP2009/005327
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
阿比留学
山岸慎治
Original Assignee
シャープ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by シャープ株式会社 filed Critical シャープ株式会社
Priority to US13/148,620 priority Critical patent/US20110317115A1/en
Publication of WO2010095187A1 publication Critical patent/WO2010095187A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/047—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using sets of wires, e.g. crossed wires
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396—Spacers having different sizes

Definitions

  • the present invention relates to a liquid crystal display device that detects position information on a display screen, and a manufacturing method thereof.
  • liquid crystal display devices have been widely used in various devices such as personal computers, mobile phones, PDAs and game machines.
  • a liquid crystal display device that detects position information on a display screen by arranging a touch panel on a liquid crystal display panel.
  • a touch panel position detection method for example, a resistance film method and a capacitance method are generally known.
  • a transparent conductive film is attached to both the surface of the substrate attached to the display panel and the substrate side surface of the film attached to the surface of the substrate with a slight gap. And when the said film is pressed with a finger
  • the first touch electrode is disposed so as to overlap the gate wiring and the source wiring of the TFT substrate constituting the liquid crystal display panel, while the second touch electrode is disposed so as to overlap the black matrix of the counter substrate. It is disclosed that the first and second touch electrodes are formed in a lattice shape. In addition, an alignment film may not be provided on the surface where the first and second touch electrodes are in contact with each other so that the first touch electrode and the second touch electrode are reliably insulated without being insulated by the alignment film. It is disclosed.
  • Patent Document 2 discloses that an organic solvent ( ⁇ -butyrolactone) is applied to an alignment film covering the touch electrode by an inkjet method and the alignment film is locally dissolved to expose the touch electrode from the alignment film. Has been.
  • the shortest pitch at which the organic solvent is applied by the ink jet method is about 70 ⁇ m, which is relatively large, when the touch electrode is formed to a size of about 20 ⁇ m ⁇ 20 ⁇ m, for example, the alignment film is accurately removed by the ink jet method. It is difficult to reliably expose the touch electrode. That is, the method of Patent Document 2 has a problem that it is difficult to accurately remove the alignment film from the finely formed touch electrode.
  • the present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to accurately remove the alignment film in a region where the pair of substrates are in contact with each other.
  • a liquid crystal display device includes a first substrate, a second substrate disposed opposite to the first substrate, and the first substrate and the second substrate.
  • a liquid crystal layer provided, and an alignment film provided and cured on each of the liquid crystal layer side surfaces of the first substrate and the second substrate, and when the first substrate or the second substrate is pressed and curved.
  • the liquid crystal display device is configured to detect a pressing position when contact areas which are partial areas of the first substrate and the second substrate are in contact with each other.
  • a conductive film that repels the alignment film before being cured is provided in a state of being exposed from the cured alignment film.
  • a touch sensor protrusion protruding toward the second substrate is formed in the contact area of the first substrate, and the conductive film is a first conductive layer provided on the tip side of the touch sensor protrusion.
  • the tip of the touch sensor protrusion is provided with a first electrode covered with the first conductive film, while the contact area of the second substrate is covered with the second conductive film.
  • a second electrode may be provided.
  • a detection element connected to the second electrode and detecting a conduction state between the second electrode and the first electrode may be disposed on the second substrate.
  • the method for manufacturing a liquid crystal display device includes a first substrate and a second substrate facing each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and the liquid crystal layer side surface of the first substrate and the second substrate.
  • the contact regions which are partial regions of the first substrate and the second substrate come into contact with each other.
  • a method of manufacturing a liquid crystal display device configured to detect a pressed position, wherein the alignment film before curing is repelled in a region to be a contact region of the first substrate in a first insulating substrate. After forming one conductive film, the alignment film before curing is applied on the first insulating substrate, and the first conductive film is exposed from the alignment film to form the first substrate.
  • the first step and the second substrate in the second insulating substrate After forming the second conductive film that repels the alignment film before curing in a region to be a touch area, the alignment film before curing is applied on the second insulating substrate, and the alignment film is used to A second step of exposing the second conductive film to form the second substrate; and a third step of bonding the first substrate and the second substrate to each other on the side where the alignment film is formed. ing.
  • the tip side of the touch sensor protrusion is formed.
  • the first conductive film may be formed.
  • the first conductive film is formed so as to cover the first electrode, and in the second step, the first electrode is formed.
  • the second conductive film may be formed so as to cover the second electrode after the second electrode is formed in the region to be the contact region of the two insulating substrate.
  • a detection element connected to the second electrode and detecting a conduction state between the second electrode and the first electrode may be formed on the second insulating substrate. Good.
  • the first conductive film and the second conductive film are respectively formed by photolithography.
  • the contact region of the first substrate and the contact region of the second substrate come into contact with each other.
  • Each contact region of the first substrate and the second substrate is provided with a conductive film in a state exposed from the alignment film. Therefore, when the first substrate or the second substrate is pressed, The conductive films come into contact with each other and are conducted. As a result, the pressed position is detected.
  • the touch sensor protrusion is formed in the contact area of the first substrate, the first sensor provided on the tip side of the touch sensor protrusion when the first substrate or the second substrate is pressed.
  • the one conductive film is brought into contact with the second conductive film provided in the contact region of the second substrate to be conducted.
  • the first conductive film and the second conductive film are formed.
  • the first electrode and the second electrode are brought into conduction through the conductive film.
  • the conduction state between the first electrode and the second electrode can be detected by the detection element. become.
  • a first conductive film that repels the alignment film before curing is formed in a region that becomes a contact region of the first substrate in the first insulating substrate. To do. Thereafter, an uncured alignment film is applied on the first insulating substrate, and the first conductive film is exposed from the alignment film to form the first substrate.
  • the first conductive film can be formed with higher accuracy by using, for example, a photolithography method.
  • the first sensor substrate is formed on the tip side of the touch sensor protrusion.
  • One conductive film may be formed. This makes it possible to detect the pressed position with high accuracy.
  • the first conductive film is formed so as to cover the first electrode after the first electrode is formed in advance on the protrusion for the touch sensor, the first electrode and the first conductive film Reliable position detection on the tip side of the projection for the touch sensor becomes possible.
  • an alignment film before curing is applied on the first insulating substrate.
  • the first conductive film is exposed from the alignment film.
  • the first substrate is formed.
  • a second conductive film that repels the alignment film before curing is formed in a region to be a contact region of the second substrate in the second insulating substrate.
  • an uncured alignment film is applied onto the second insulating substrate, and the second conductive film is exposed from the alignment film to form a second substrate.
  • the second conductive film can be formed with higher accuracy by using, for example, a photolithography method.
  • the second conductive film may be formed so as to cover the second electrode after previously forming the second electrode in a region to be a contact region of the second substrate.
  • a detection element may be formed on the second insulating substrate and connected to the second electrode. Thereby, the conduction state between the first electrode and the second electrode can be detected by the detection element.
  • the first substrate and the second substrate are bonded to each other on the side of the first substrate where the alignment film is formed and the side of the second substrate where the alignment film is formed. . Thereby, a liquid crystal display device is manufactured.
  • each contact region of the first substrate and the second substrate is provided with the conductive film that repels the alignment film before curing, so even if the contact region is relatively small
  • the alignment film can be accurately removed from the contact region.
  • the pressed position in the liquid crystal display device can be detected with high accuracy.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a longitudinal cross-sectional structure of the liquid crystal display device of the present embodiment.
  • FIG. 2 is a plan view schematically showing a plurality of pixels of the liquid crystal display device of the present embodiment.
  • FIG. 3 is an enlarged plan view showing one pixel on the TFT substrate.
  • 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.
  • FIG. 5 is a circuit diagram showing a circuit configuration including a TFT and a detection element.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing the conductive film 49 formed on the glass substrate 35.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing the second conductive film 39 formed by photolithography.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing the second alignment film formed on the glass substrate 35.
  • Embodiment of the Invention >> 1 to 7 show an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a longitudinal cross-sectional structure of the liquid crystal display device 1 of the present embodiment.
  • FIG. 2 is a plan view schematically showing a plurality of pixels 5 of the liquid crystal display device 1 of the present embodiment.
  • FIG. 3 is an enlarged plan view showing one pixel 5 on the TFT substrate 12. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.
  • FIG. 5 is a circuit diagram showing a circuit configuration including the TFT 16 and the detection element 42.
  • the liquid crystal display device 1 of the present embodiment is configured as, for example, a transmissive liquid crystal display device that performs at least transmissive display.
  • the liquid crystal display device 1 includes a counter substrate 11 that is a first substrate, a TFT substrate 12 that is a second substrate disposed so as to face the counter substrate 11, and the counter substrate 11 and the TFT substrate. 12 and the alignment films 31 and 32 which are provided and cured on the liquid crystal layer 10 side surfaces of the counter substrate 11 and the TFT substrate 12, respectively.
  • the liquid crystal display device 1 has a so-called in-cell type touch panel.
  • the counter substrate 11 or the TFT substrate 12 is pressed and curved, the counter substrate 11 and the TFT substrate 12 are provided.
  • the contact areas 71 and 72 which are partial areas of each other, come into contact with each other, the pressed position (touch position) is detected.
  • the liquid crystal display device 1 has, for example, a rectangular display area and a frame area that is a non-display area formed in a frame shape around the display area.
  • the display area is composed of a plurality of pixels 5 arranged in a matrix.
  • the counter substrate 11 includes a glass substrate 25 as a first insulating substrate, a color filter layer 26 and a counter electrode (common electrode) 27 that are sequentially stacked on the liquid crystal layer 10 side of the glass substrate 25. have.
  • the glass substrate 25 is formed with a thickness of 0.7 mm or less, for example.
  • a polarizing plate (not shown) is attached to the surface of the glass substrate 25 opposite to the liquid crystal layer 10.
  • the color filter layer 26 is composed of a plurality of colored layers.
  • the colored layer is composed of colored layers of red (R), green (G), and blue (B).
  • R red
  • G green
  • B blue
  • a black matrix that is a light shielding film is formed between adjacent colored layers.
  • the counter electrode 27 is made of, for example, ITO (Indium Tin Oxide), and is formed substantially uniformly over the entire display region so as to cover the color filter layer 26 and the black matrix.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • a spacer 33 that defines the thickness of the liquid crystal layer 10 is formed on the counter substrate 11 so as to protrude toward the TFT substrate 12.
  • the spacer 33 is a so-called photo spacer, which is formed of, for example, the same material as that of the color layer of the color filter layer 26 and is disposed, for example, in the lower right corner of the pixel 5 as shown in FIG.
  • a first alignment film 31 made of, for example, polyimide is formed on the surface of the counter substrate 11 on the liquid crystal layer 10 side.
  • the first alignment film 31 is provided so as to cover the surfaces of the counter electrode 27 and the spacer 33.
  • the tip of the spacer 33 is in contact with the surface of the TFT substrate 12 via the first alignment film 31.
  • the TFT substrate 12 is configured as a so-called active matrix substrate.
  • the TFT substrate 12 has a glass substrate 35 as a second insulating substrate.
  • the glass substrate 35 is formed to a thickness of 0.7 mm or less, for example.
  • a plurality of gate wirings 13 are formed on the glass substrate 35 so as to extend in parallel with each other.
  • a plurality of source lines 14 are formed on the TFT substrate 12 so as to extend across the gate lines 13.
  • the TFT substrate 12 is formed with a pattern of gate lines 13 and source lines 14 in a grid pattern.
  • Each pixel 5 is formed of a rectangular region partitioned by the gate wiring 13 and the source wiring 14 as shown in FIGS.
  • Each pixel 5 includes a plurality of pixel electrodes 15 facing the counter electrode 27 and a TFT (Thin-Film Transistor) 16 that is connected to the pixel electrode 15 and is a switching element for switching and driving the liquid crystal layer 10.
  • TFT Thin-Film Transistor
  • the TFT 16 is disposed, for example, in the upper right corner of the pixel 5 in FIGS. 2 and 3, and is connected to the gate electrode 17 connected to the gate wiring 13, the source electrode 18 connected to the source wiring 14, and the pixel electrode 15.
  • the drain electrode 19 is provided. That is, the gate wiring 13 and the source wiring 14 are connected to the TFT 16. Further, a semiconductor layer 34 is interposed between the gate electrode 17 and the source electrode 18 and the drain electrode 19.
  • the drain electrode 19 is covered with an interlayer insulating film (not shown), and a contact hole 23 is formed through the interlayer insulating film as shown in FIG.
  • the drain electrode 19 is connected to the pixel electrode 15 through the contact hole 23.
  • the pixel electrode 15 is covered with a second alignment film 32.
  • the signal voltage is supplied from the source wiring 14 to the pixel electrode 15 via the source electrode 18 and the drain electrode 19 in a state where the scanning voltage is applied to the gate electrode 17 via the gate wiring 13. ing.
  • the signal voltage applied between the pixel electrode 15 and the counter electrode 27 drives the liquid crystal layer 10 of the pixel 5 so that a desired image is displayed.
  • a plurality of capacitor lines 20 are formed on the TFT substrate 12 in parallel with each other along the gate lines 13 so as to pass through the approximate center of each pixel 5.
  • An insulating film (not shown) is interposed between the capacitor wiring 20 and the pixel electrode 15, thereby forming a capacitor element 21 that is also called an auxiliary capacitor.
  • the capacitive element 21 is formed in each pixel 5, and the display voltage in each pixel 5 is maintained substantially constant.
  • a second alignment film 32 made of polyimide or the like is formed on the surface of the TFT substrate 12 on the liquid crystal layer 10 side.
  • the second alignment film 32 is provided on the glass substrate 35 so as to cover the surface of the pixel electrode 15.
  • a first contact region 71 that is a contact region of the counter substrate 11 and a second contact region 72 that is a contact region of the TFT substrate 12 facing the first contact region 71 include Conductive films 38 and 39 for repelling the alignment films 31 and 32 before being cured are provided in a state of being exposed from the cured alignment films 31 and 32, respectively.
  • the touch sensor protrusion 50 protruding toward the TFT substrate 12 is formed.
  • the touch sensor protrusion 50 is formed of the same material as the colored layer of the color filter layer 26 as in the case of the spacer 33, but its protruding length is shorter than that of the spacer 33.
  • These touch sensor protrusions 50 are arranged at the lower right corner of the pixel 5, for example, like the spacer 33.
  • the conductive films 38 and 39 include a first conductive film 38 provided on the tip side of the touch sensor protrusion 50 and a second conductive film 39 provided in a second contact region 72 of the TFT substrate 12 described later. And have.
  • the first conductive film 38 and the second conductive film 39 have a configuration in which conductive fine particles such as tin oxide and indium oxide are dispersed in a water-repellent material such as silicon rubber and fluorine resin. .
  • the first electrode 40 is provided at the tip of the touch sensor protrusion 50.
  • the touch sensor protrusion 50 is covered with the counter electrode 27 together with the color filter layer 26.
  • a portion of the counter electrode 27 covering the tip of the touch sensor protrusion 50 constitutes the first electrode 40.
  • the first electrode 40 is covered with the first conductive film 38.
  • the first alignment film 31 includes a counter electrode 27 covering the color filter layer 26, a counter electrode 27 covering the side surface of the touch sensor protrusion 50, and the side surface and tip of the spacer 33. Are provided so as to cover each. That is, the first alignment film 31 is not provided on the tip side of the touch sensor protrusion 50 in the first contact region 71, and the first conductive film 38 is exposed.
  • a second electrode 41 as a touch electrode is formed on the glass substrate 35 in the second contact region 72 of the TFT substrate 12.
  • the second electrode 41 is disposed in, for example, the cutout portion of the pixel electrode 15 in the lower right corner in FIG. 3, and the surface thereof is formed at the same height as the pixel electrode 15.
  • the second electrode 41 is made of, for example, ITO and is formed in the same process as the pixel electrode 15.
  • the surface of the second electrode 41 on the touch sensor projection 50 side is covered with the second conductive film 39.
  • the side surface of the second electrode 41 is covered with a second alignment film 32 as shown in FIG. That is, in the second contact region 72, the second alignment film 32 is not provided, and the second conductive film 39 is exposed.
  • the second conductive film 39 faces the first conductive film 38.
  • the second conductive film 39 comes into contact with the first conductive film 38 when, for example, the counter substrate 11 is pressed and curved toward the TFT substrate 12, so that the second electrode 41 becomes the second electrode 41.
  • the first electrode 40 is electrically connected through the conductive film 39 and the first conductive film 38.
  • the TFT substrate 12 is formed with a detection element 42 connected to the second electrode 41 for each pixel 5.
  • the detection element 42 is for detecting a conduction state between the second electrode 41 and the first electrode 40 (that is, the counter electrode 27).
  • the detection element 42 is arranged in the lower right corner of each pixel 5 in FIGS. 2 and 3, for example, and is configured by a TFT. As shown in FIGS. 3 and 5, a detection wiring 43 extending along the gate wiring 13 and a source wiring 14 are connected to the detection element 42.
  • the detection element 42 has a gate portion 45 connected to the detection wiring 43, a source portion 46 connected to the source wiring 14, and a drain portion that is the second electrode 41.
  • a gate insulating film 36 is formed on the glass substrate 35 so as to cover the gate portion 45.
  • a semiconductor layer 44 is formed on the surface of the gate insulating film 36 so as to cover the gate portion 45.
  • the source part 46 and the second electrode 41 are formed so as to cover a part of the surface of the semiconductor layer 44.
  • the source part 46 is covered with the interlayer insulating film 37, while the second electrode 41 is not covered with the interlayer insulating film 37, and the second conductive film 39 is laminated.
  • the second electrode 41 which is the drain part of the detection element 42 connected to the detection wiring 43 and the source part 46 are brought into conduction. Turns on. At this time, the counter substrate 11 is touched by the user, and the first conductive film 38 on the tip side of the touch sensor protrusion 50 in the counter substrate 11 is in contact with the second electrode 41 in the detection element 42 in the ON state. Then, the second electrode 41 is electrically connected to the first electrode 40 via the second conductive film 39 and the first conductive film 38, and a current is supplied to the source wiring 14 according to the voltage applied to the counter electrode 27. Flows. By detecting this current, a touch position (pressed position) is detected.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing the conductive film 49 formed on the glass substrate 35.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing the second conductive film 39 formed by photolithography.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing the second alignment film formed on the glass substrate 35.
  • the manufacturing method of this embodiment includes a first step of forming the counter substrate 11, a second step of forming the TFT substrate, and a third step of bonding the counter substrate 11 and the TFT substrate 12 together. Either the first step or the second step may be performed first.
  • the second step For convenience of explanation, the second step will be described.
  • the pixel electrode 15, the second electrode 41, the TFT 16, the detection element 42, and the like are formed on the glass substrate 35 by photolithography.
  • the second electrode 41 is formed simultaneously in the same process as the pixel electrode 15 in the region to be the second contact region 72 on the glass substrate 35.
  • the detection element 42 is simultaneously formed in the same process as the TFT 16.
  • a conductive film 49 is applied and formed on the entire surface of the glass substrate 35 so as to cover the second electrode 41, the pixel electrode 15, and the like.
  • the conductive film 49 has a configuration in which conductive fine particles such as tin oxide and indium oxide are dispersed in a water repellent material such as silicon rubber and fluorine resin.
  • a photomask 53 having an opening 54 is disposed opposite to the glass substrate 35, and the region on the second electrode 41 (in other words, the second contact region 72 on the glass substrate 35 and Align so that the area to be shielded from light. Then, the conductive film 49 is irradiated with ultraviolet rays through the mask 53 in an ozone atmosphere.
  • the conductive film 49 formed outside the region on the second electrode 41 is removed by ashing by photolithography, so that the region that becomes the second contact region 72 covers the second electrode 41.
  • the second conductive film 39 is formed.
  • a liquid second alignment film 32 before being cured is applied on the glass substrate 35. Since the second conductive film 39 has a property of repelling the second alignment film 32 made of polyimide or the like, the second alignment film 32 is repelled and removed from the surface of the second conductive film 39. As a result, the second conductive film 39 is exposed from the second alignment film 32. In this way, the TFT substrate 12 is formed.
  • the color filter layer 26 and the black matrix are formed on the glass substrate 25 by photolithography, and the spacer 33 and the touch sensor protrusion 50 are formed.
  • the spacer 33 and the touch sensor protrusion 50 are formed in the same process as the color filter layer 26. Further, the touch sensor protrusion 50 is formed in a region to be the first contact region 71 in the glass substrate 25.
  • the counter electrode 27 is formed by depositing an ITO film on the surface of the color filter layer 26 and the surface of the touch sensor protrusion 50.
  • the first electrode 40 is formed by the counter electrode 27 formed at the tip of the touch sensor protrusion 50.
  • the first conductive film 38 is formed on the glass substrate 25 in the region to be the first contact region 71 (that is, the tip side of the touch sensor protrusion 50).
  • the first conductive film 38 is formed by photolithography in the same manner as the second conductive film 39 described above.
  • a conductive film (not shown) made of the same material as the conductive film 49 so as to cover the counter electrode 27 including the first electrode 40, the spacer 33, and the like on the entire surface of the glass substrate 25. ) Is applied and formed.
  • the conductive film is irradiated with ultraviolet rays through a photomask (not shown) in an ozone atmosphere.
  • the conductive film formed outside the region on the first electrode 40 is removed by ashing by photolithography.
  • the tip of the protrusion 50 for the touch sensor in the region serving as the first contact region 71 is removed.
  • the first conductive film 38 is formed so as to cover the first electrode 40.
  • the liquid first alignment film 31 before being cured is applied on the glass substrate 25. Since the first conductive film 38 has a property of repelling the first alignment film 31 made of polyimide or the like, the first alignment film 31 is repelled from the surface of the first conductive film 38 and removed. As a result, the first conductive film 38 is exposed from the first alignment film 31. In this way, the counter substrate 11 is formed.
  • the first conductive film 38 that repels the first alignment film 31 before being cured is formed in the first contact region 71 of the counter substrate 11 by photolithography, and the first conductive film 38 of the TFT substrate 12 is formed. Since the second conductive film 39 that repels the second alignment film 32 before being cured is formed on the two contact area 72 by photolithography, the first and second contact areas 71 and 72 are relatively small. Even so, the first alignment film 31 can be accurately removed from the first contact region 71, and the second alignment film 32 can be accurately removed from the second contact region 72.
  • the liquid crystal display Since the first electrode 40 and the second electrode 41 can be reliably conducted through the first conductive film 38 and the second conductive film 39 at the touch position (pressing position), the liquid crystal display The touch position (pressing position) in the device 1 can be detected with high accuracy.
  • the second electrode 41 that contacts the counter electrode 27 when the counter substrate 11 is pressed and the detection element 42 that detects the conduction between the second electrode 41 and the counter electrode 27 are arranged in the plurality of pixels 5. As a result, multiple touch positions can be detected simultaneously.
  • the number of wirings connected to the detection element 42 is also used as the source wiring 14, the number of wirings can be reduced and the aperture ratio of the pixel 5 can be improved.
  • the first conductive film 38 is stacked on the first electrode 40 and the second conductive film 39 is stacked on the second electrode 41.
  • the present invention is not limited to this.
  • the liquid crystal display device 1 in which the touch sensor protrusion 50 is formed on the counter substrate 11 has been described.
  • the present invention is not limited thereto.
  • the touch sensor protrusion is formed on the TFT substrate 12.
  • it may be formed on both the TFT substrate 12 and the counter substrate 11.
  • one of the two wirings connected to the detection element 42 is shared with the source wiring 14 connected to the display control TFT 16
  • One of the two wirings connected to the detection element 42 may be shared with the gate wiring 13.
  • the two wirings connected to the detection element 42 may be formed independently of the source wiring 14 and the gate wiring 13. In this case, two detection lines extending along the source line 14 and the gate line 13 are formed. In this way, the touch position can always be detected independently of the display control by the gate line 13 and the source line 14, and therefore the detection accuracy can be further improved.
  • the TFT 16 and the detection element 42 are not limited to the TFT, and other switching elements that turn on or off the current flow can also be applied.
  • the present invention is useful for a liquid crystal display device that detects position information on a display screen and a manufacturing method thereof.
  • liquid crystal display device 10 liquid crystal layer 11 counter substrate (first substrate) 12 TFT substrate (second substrate) 25 Glass substrate (first insulating substrate) 27 counter electrode 31 first alignment film 32 second alignment film 35 glass substrate (second insulating substrate) 38 First Conductive Film 39 Second Conductive Film 40 First Electrode 41 Second Electrode 42 Detection Element 49 Conductive Film 50 Touch Sensor Projection 71 First Contact Area 72 Second Contact Area

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

　液晶表示装置は、第１基板又は第２基板が押圧されて湾曲した際に、第１基板及び第２基板の一部の領域である接触領域同士が互いに接触することにより、押圧位置を検出するように構成されている。そして、第１基板及び第２基板の各接触領域には、硬化する前の配向膜を弾く導電性膜が、硬化した配向膜から露出した状態で、それぞれ設けられている。

Description

液晶表示装置及びその製造方法
　本発明は、表示画面上の位置情報を検出する液晶表示装置、及びその製造方法に関するものである。
　近年、液晶表示装置は、パーソナルコンピュータ、携帯電話、ＰＤＡ及びゲーム機器等の種々の機器に広く用いられている。また、タッチパネルが液晶表示パネルに重ねて配置することにより、表示画面上の位置情報を検出する液晶表示装置も知られている。タッチパネルの位置検出方式としては、例えば、抵抗膜方式や静電容量方式等が、一般に知られている。
　抵抗膜方式では、表示パネルに貼り付けられた基板の表面と、当該基板の表面に僅かな隙間で貼り付けたフィルムの基板側表面との双方に、透明導電膜が貼り付けられている。そして、指やペン先等で上記フィルムを押圧すると、フィルムが基板側へ撓んで各透明導電膜同士が接触して導通する。このとき、上記各透明導電膜における電位の分圧をそれぞれ測定することにより、押された位置を検出するようになっている。
　しかし、表示パネルにタッチパネルを重ねて配置する構成では、表示パネルの表面、タッチパネルの裏面、タッチパネルの内部、及びタッチパネルの表面から反射光が生じるため、表示のコントラストが低下してしまう問題がある。
　また、上記各反射光が互いに干渉することによってモワレが生じる結果、表示品位が低下する問題もある。さらに、表示パネルとタッチパネルとを積層する構造上、表示装置全体が厚くなる問題もある。
　そこで、液晶表示パネルと抵抗膜方式のタッチパネルとを一体化した所謂インセル型のタッチパネルを有する液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１及び２等参照）。
　特許文献１には、液晶表示パネルを構成するＴＦＴ基板のゲート配線及びソース配線に第１タッチ電極を重ねて配置する一方、対向基板のブラックマトリクスに第２タッチ電極を重ねて配置することにより、上記第１及び第２タッチ電極を格子状に形成することが開示されている。また、第１タッチ電極及び第２タッチ電極が配向膜によって絶縁されずに確実に導通するように、第１及び第２タッチ電極が互いに接触する表面において、配向膜を設けないようにすることも開示されている。
　特許文献２には、タッチ電極を覆う配向膜に有機溶剤（γ－ブチロラクトン）をインクジェット法により塗布して当該配向膜を局所的に溶解させることにより、配向膜からタッチ電極を露出させることが開示されている。
特開２００１－０７５０７４号公報 特開２００７－０５２３６９号公報
　しかし、インクジェット法により有機溶剤が塗布される位置の最短ピッチは、約７０μｍ程度で比較的大きいため、タッチ電極を例えば２０μｍ×２０μｍサイズ程度に形成する場合、インクジェット法により配向膜を精度良く除去して確実にタッチ電極を露出させることは困難である。つまり、上記特許文献２の方法では、微小に形成されたタッチ電極上から配向膜を精度良く除去することが難しいという問題がある。
　本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、一対の基板の互いに接触する領域において、配向膜を精度良く除去しようとすることにある。
　上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶表示装置は、第１基板と、上記第１基板に対向して配置された第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層と、上記第１基板及び第２基板の上記液晶層側表面にそれぞれ設けられて硬化した配向膜とを備え、上記第１基板又は第２基板が押圧されて湾曲した際に、上記第１基板及び上記第２基板の一部の領域である接触領域同士が互いに接触することにより、押圧位置を検出するように構成された液晶表示装置であって、上記第１基板及び第２基板の各接触領域には、硬化する前の上記配向膜を弾く導電性膜が、上記硬化した配向膜から露出した状態で、それぞれ設けられている。
　さらに、上記第１基板の接触領域には、上記第２基板側に突出したタッチセンサ用突起が形成され、上記導電性膜は、上記タッチセンサ用突起の先端側に設けられた第１導電性膜と、上記第２基板の接触領域に設けられた第２導電性膜とを有するように構成してもよい。
　さらに、上記タッチセンサ用突起の先端には、上記第１導電性膜によって覆われた第１電極が設けられる一方、上記第２基板の接触領域には、上記第２導電性膜によって覆われた第２電極が設けられていてもよい。
　さらに、上記第２基板には、上記第２電極に接続されて該第２電極と上記第１電極との導通状態を検出する検出用素子が配置されていてもよい。
　また、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶層を介して互いに対向する第１基板及び第２基板と、該第１基板及び第２基板の上記液晶層側表面にそれぞれ設けられて硬化した配向膜とを備え、上記第１基板又は第２基板が押圧されて湾曲した際に、上記第１基板及び上記第２基板の一部の領域である接触領域同士が互いに接触することにより、押圧位置を検出するように構成された液晶表示装置を製造する方法であって、第１絶縁性基板における上記第１基板の接触領域となる領域に、硬化する前の上記配向膜を弾く第１導電性膜を形成した後、上記第１絶縁性基板上に上記硬化する前の配向膜を塗布し、該配向膜から上記第１導電性膜を露出させて、上記第１基板を形成する第１工程と、第２絶縁性基板における上記第２基板の接触領域となる領域に、硬化する前の上記配向膜を弾く第２導電性膜を形成した後、上記第２絶縁性基板上に上記硬化する前の配向膜を塗布し、該配向膜から上記第２導電性膜を露出させて、上記第２基板を形成する第２工程と、上記第１基板及び第２基板を上記配向膜が形成されている側で互いに貼り合わせる第３工程とを備えている。
　上記第１工程では、上記第１絶縁性基板における上記第１基板の接触領域となる領域に、上記第２基板側に突出するタッチセンサ用突起を形成した後に、上記タッチセンサ用突起の先端側に上記第１導電性膜を形成するようにしてもよい。
　さらに、上記第１工程では、上記タッチセンサ用突起の先端に第１電極を形成した後に、該第１電極を覆うように上記第１導電性膜を形成し、上記第２工程では、上記第２絶縁性基板の上記接触領域となる領域に第２電極を形成した後に、該第２電極を覆うように上記第２導電性膜を形成するようにしてもよい。
　さらに、上記第２工程では、上記第２電極に接続されて該第２電極と上記第１電極との導通状態を検出する検出用素子を、上記第２絶縁性基板に形成するようにしてもよい。
　さらに、上記第１工程及び上記第２工程では、上記第１導電性膜及び上記第２導電性膜を、それぞれフォトリソグラフィにより形成することが好ましい。
　　　－作用－
　次に、本発明の作用について説明する。
　上記液晶表示装置は、第１基板又は第２基板が押圧されて湾曲した際に、第１基板の接触領域と第２基板の接触領域とが互いに接触する。第１基板及び第２基板の各接触領域には、配向膜から露出した状態で導電性膜が設けられているため、上記第１基板又は第２基板が押圧された際に、各接触領域の導電性膜が互いに接触して導通する。そのことにより、押圧位置が検出される。
　さらに、第１基板の接触領域にタッチセンサ用突起が形成されている場合には、上記第１基板又は第２基板が押圧された際に、上記タッチセンサ用突起の先端側に設けられた第１導電性膜が、第２基板の接触領域に設けられた第２導電性膜に接触して導通する。
　さらに、第１導電性膜が第１電極を覆うように形成されると共に、第２導電性膜が第２電極を覆うように形成されている場合には、上記第１導電性膜及び第２導電性膜を介して、第１電極と第２電極とが導通することとなる。
　さらに、上記第２電極に接続された検出用素子が第２基板に配置されている場合には、上記第１電極と第２電極との導通状態を、当該検出用素子によって検出することが可能になる。
　上記液晶表示装置を製造する場合には、第１工程において、まず、第１絶縁性基板における第１基板の接触領域となる領域に、硬化する前の配向膜を弾く第１導電性膜を形成する。その後、第１絶縁性基板上に硬化する前の配向膜を塗布し、この配向膜から第１導電性膜を露出させて、第１基板を形成する。第１導電性膜は、例えばフォトリソグラフィ法を用いることによって、より精度良く形成することが可能である。
　この第１工程では、第１絶縁性基板における第１基板の接触領域となる領域に、第２基板側に突出するタッチセンサ用突起を形成した後に、このタッチセンサ用突起の先端側に上記第１導電性膜を形成するようにしてもよい。このことにより、押圧位置を精度良く検出することが可能になる。
　さらに、タッチセンサ用突起に予め第１電極を形成した後に、この第１電極を覆うように上記第１導電性膜を形成するようにすれば、これら第１電極及び第１導電性膜により、タッチセンサ用突起の先端側における確実な位置検出が可能になる。
　その後、第１絶縁性基板上に硬化する前の配向膜を塗布する。このとき、上記接触領域となる領域において、配向膜が上記第１導電性膜によって弾かれるため、第１導電性膜は配向膜から露出することとなる。こうして、第１基板が形成される。
　一方、第２工程では、まず、第２絶縁性基板における第２基板の接触領域となる領域に、硬化する前の配向膜を弾く第２導電性膜を形成する。その後、第２絶縁性基板上に硬化する前の配向膜を塗布し、この配向膜から第２導電性膜を露出させて、第２基板を形成する。第２導電性膜は、上記第１導電性膜と同様に、例えばフォトリソグラフィ法を用いることによって、より精度良く形成することが可能である。
　さらに、上記第２基板の接触領域となる領域に、予め第２電極を形成した後、この第２電極を覆うように、上記第２導電性膜を形成するようにしてもよい。これら第２電極及び第２導電性膜により、第２基板の接触領域における確実な位置検出が可能になる。
　さらにこの場合、第２絶縁性基板に検出用素子を形成して上記第２電極に接続するようにしてもよい。このことにより、第１電極と第２電極との導通状態を、上記検出用素子によって検出することが可能になる。
　その後、第２絶縁性基板上に硬化する前の配向膜を塗布する。このとき、配向膜は、上記接触領域となる領域において、配向膜が上記第２導電性膜によって弾かれるため、第２導電性膜は配向膜から露出することとなる。こうして、第２基板が形成される。
　次に、第３工程では、上記第１基板及び第２基板を、その第１基板の配向膜が形成されている側と、第２基板の配向膜が形成されている側とにおいて互いに貼り合わせる。そのことにより、液晶表示装置を製造する。
　本発明によれば、第１基板及び第２基板の各接触領域に、硬化する前の配向膜を弾く導電性膜をそれぞれ設けるようにしたので、当該接触領域が比較的小さい場合であっても、上記接触領域から配向膜を精度良く除去することができる。その結果、液晶表示装置における押圧位置を高精度に検出することができることとなる。
図１は、本実施形態の液晶表示装置の縦断面構造を模式的に示す断面図である。 図２は、本実施形態の液晶表示装置の複数の画素を模式的に示す平面図である。 図３は、ＴＦＴ基板における１つの画素を拡大して示す平面図である。 図４は、図３におけるIV－IV線断面図である。 図５は、ＴＦＴ及び検出用素子を含む回路構成を示す回路図である。 図６は、ガラス基板３５上に形成された導電性膜４９を示す断面図である。 図７は、フォトリソグラフィにより形成された第２導電性膜３９を示す断面図である。 図８は、ガラス基板３５上に形成された第２配向膜を示す断面図である。
　以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
　《発明の実施形態》
　図１～図７は、本発明の実施形態を示している。
　図１は、本実施形態の液晶表示装置１の縦断面構造を模式的に示す断面図である。図２は、本実施形態の液晶表示装置１の複数の画素５を模式的に示す平面図である。図３は、ＴＦＴ基板１２における１つの画素５を拡大して示す平面図である。図４は、図３におけるIV－IV線断面図である。図５は、ＴＦＴ１６及び検出用素子４２を含む回路構成を示す回路図である。
　　－液晶表示装置の構成－
　本実施形態の液晶表示装置１は、例えば、少なくとも透過表示を行う透過型の液晶表示装置に構成されている。液晶表示装置１は、図１に示すように、第１基板である対向基板１１と、対向基板１１に対向して配置された第２基板であるＴＦＴ基板１２と、これら対向基板１１及びＴＦＴ基板１２の間に設けられた液晶層１０と、対向基板１１及びＴＦＴ基板１２の液晶層１０側表面にそれぞれ設けられて硬化した配向膜３１，３２を備えている。
　そして、液晶表示装置１は、図１に示すように、所謂インセル型のタッチパネルを有しており、対向基板１１又はＴＦＴ基板１２が押圧されて湾曲した際に、上記対向基板１１及びＴＦＴ基板１２の一部の領域である接触領域７１，７２同士が互いに接触することにより、その押圧位置（タッチ位置）を検出するように構成されている。
　液晶表示装置１は、図示を省略するが、例えば矩形状の表示領域と、この表示領域の周囲に枠状に形成された非表示領域である額縁領域とを有している。上記表示領域は、マトリクス状に配置された複数の画素５によって構成されている。
　　（対向基板の構成）
　対向基板１１は、図１に示すように、第１絶縁性基板としてのガラス基板２５と、ガラス基板２５の液晶層１０側に順に積層されたカラーフィルタ層２６及び対向電極（共通電極）２７とを有している。
　ガラス基板２５は、例えば０．７ｍｍ以下の厚みに形成されている。また、ガラス基板２５における液晶層１０と反対側の表面には、図示省略の偏光板が貼り付けられている。
　カラーフィルタ層２６は、複数色の着色層により構成されている。着色層は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）の各着色層によって構成されている。図示を省略するが、隣り合う各着色層同士の間には、遮光膜であるブラックマトリクスが形成されている。
　対向電極２７は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）により構成され、カラーフィルタ層２６及び上記ブラックマトリクスを覆うように、表示領域の全体に亘って略一様に形成されている。
　また、対向基板１１には、図１に示すように、液晶層１０の厚みを規定するスペーサ３３が、ＴＦＴ基板１２側に突出して形成されている。スペーサ３３は、所謂フォトスペーサであり、例えばカラーフィルタ層２６の着色層と同じ材料によって形成され、図２に示すように、例えば画素５における右下隅部に配置されている。
　対向基板１１の液晶層１０側表面には、例えばポリイミド等からなる第１配向膜３１が形成されている。第１配向膜３１は、対向電極２７及びスペーサ３３の表面を覆うように設けられている。そして、上記スペーサ３３は、その先端が第１配向膜３１を介してＴＦＴ基板１２の表面に当接している。
　　（ＴＦＴ基板の構成）
　一方、ＴＦＴ基板１２は、いわゆるアクティブマトリクス基板に構成されている。ＴＦＴ基板１２は、第２絶縁性基板としてのガラス基板３５を有している。ガラス基板３５は、例えば０．７ｍｍ以下の厚みに形成されている。
　上記ガラス基板３５には、図２及び図３に示すように、複数のゲート配線１３が互いに平行に延びて形成されている。また、ＴＦＴ基板１２には、複数のソース配線１４が上記ゲート配線１３と交差して延びるように形成されている。そのことにより、ＴＦＴ基板１２には、ゲート配線１３及びソース配線１４からなる配線が格子状にパターン形成されている。
　各画素５は、図２及び図３に示すように、上記ゲート配線１３とソース配線１４とによって区画される矩形状の領域により形成されている。各画素５には、対向電極２７に対向する複数の画素電極１５と、画素電極１５に接続されて液晶層１０をスイッチング駆動するためのスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin-Film Transistor）１６とが形成されている。
　ＴＦＴ１６は、例えば画素５における図２及び図３で右上隅部分に配置され、ゲート配線１３に接続されたゲート電極１７と、ソース配線１４に接続されたソース電極１８と、画素電極１５に接続されたドレイン電極１９とを備えている。つまり、ＴＦＴ１６には、ゲート配線１３及びソース配線１４が接続されている。また、ゲート電極１７と、ソース電極１８及びドレイン電極１９との間には、半導体層３４が介在されている。
　ドレイン電極１９は、層間絶縁膜（図示省略）によって覆われており、図３に示すように、その層間絶縁膜にはコンタクトホール２３が貫通形成されている。そして、ドレイン電極１９は、コンタクトホール２３を介して画素電極１５に接続されている。画素電極１５は、図１に示すように、第２配向膜３２によって覆われている。
　そうして、走査電圧がゲート配線１３を介してゲート電極１７に印加された状態で、信号電圧がソース配線１４からソース電極１８及びドレイン電極１９を介して画素電極１５へ供給されるようになっている。その結果、画素電極１５と対向電極２７との間に印加された信号電圧によって、当該画素５の液晶層１０が駆動され、所望の画像が表示されるようになっている。
　また、ＴＦＴ基板１２には、図３に示すように、複数の容量配線２０が各画素５の略中央を通るように、ゲート配線１３に沿って、互いに平行に形成されている。容量配線２０と画素電極１５との間には、図示省略の絶縁膜が介在されており、これらによって補助容量とも称される容量素子２１が形成されている。容量素子２１は、各画素５にそれぞれ形成されており、各画素５における表示電圧を略一定に維持するようになっている。
　ＴＦＴ基板１２の液晶層１０側表面には、例えばポリイミド等からなる第２配向膜３２が形成されている。第２配向膜３２は、画素電極１５の表面を覆うように、ガラス基板３５上に設けられている。
　　（接触領域の構成）
　そして、本発明の特徴として、図１に示すように、対向基板１１の接触領域である第１接触領域７１と、これに対向するＴＦＴ基板１２の接触領域である第２接触領域７２には、硬化する前の配向膜３１，３２を弾く導電性膜３８，３９が、硬化した配向膜３１，３２から露出した状態で、それぞれ設けられている。
　すなわち、対向基板１１の第１接触領域７１には、ＴＦＴ基板１２側に突出したタッチセンサ用突起５０が形成されている。タッチセンサ用突起５０は、スペーサ３３と同様に、上記カラーフィルタ層２６の着色層と同じ材料により形成されているが、その突出長さはスペーサ３３よりも短くなっている。これらタッチセンサ用突起５０は、スペーサ３３と同様に、例えば画素５における右下隅部に配置されている。
　上記導電性膜３８，３９は、タッチセンサ用突起５０の先端側に設けられた第１導電性膜３８と、後述するＴＦＴ基板１２の第２接触領域７２に設けられた第２導電性膜３９とを有している。第１導電性膜３８及び第２導電性膜３９は、例えばシリコンゴムやフッ素系樹脂等の撥水性材料に、例えば酸化スズや酸化インジウム等の導電性微粒子が分散された構成を有している。
　また、タッチセンサ用突起５０の先端には、第１電極４０が設けられている。ここで、図１に示すように、タッチセンサ用突起５０は、カラーフィルタ層２６と共に、対向電極２７によって覆われている。そして、対向電極２７のタッチセンサ用突起５０先端を覆っている部分が、上記第１電極４０を構成している。第１電極４０は、上記第１導電性膜３８によって覆われている。
　上記第１配向膜３１は、図１に示すように、カラーフィルタ層２６を覆っている対向電極２７と、タッチセンサ用突起５０の側面を覆っている対向電極２７と、スペーサ３３の側面及び先端とを、それぞれ覆うように設けられている。すなわち、第１接触領域７１におけるタッチセンサ用突起５０の先端側には、第１配向膜３１が設けられておらず、上記第１導電性膜３８が露出するようになっている。
　一方、ＴＦＴ基板１２の第２接触領域７２には、ガラス基板３５上に、タッチ電極としての第２電極４１が形成されている。第２電極４１は、各画素５において、図３で例えば右下隅部における画素電極１５の切欠部分に配置されると共に、その表面が画素電極１５と同じ高さに形成されている。また、第２電極４１は、例えばＩＴＯにより構成され、画素電極１５と同じ工程で形成される。
　そして、第２電極４１は、図１に示すように、タッチセンサ用突起５０側の表面が上記第２導電性膜３９によって覆われている。一方、第２電極４１の側面は、図１に示すように、第２配向膜３２によって覆われている。すなわち、第２接触領域７２には、第２配向膜３２が設けられておらず、上記第２導電性膜３９が露出するようになっている。このことにより、第２導電性膜３９は、第１導電性膜３８に対向している。そうして、第２導電性膜３９は、例えば対向基板１１が押圧されてＴＦＴ基板１２側に湾曲した際に、第１導電性膜３８に接触することにより、第２電極４１が、第２導電性膜３９及び第１導電性膜３８を介して第１電極４０に導通するようになっている。
　　（検出用素子）
　そして、図２～図４に示すように、ＴＦＴ基板１２には、各画素５毎に、第２電極４１に接続された検出用素子４２がそれぞれ形成されている。検出用素子４２は、第２電極４１と第１電極４０（つまり、対向電極２７）との導通状態を検出するためのものである。
　検出用素子４２は、各画素５における例えば図２及び図３で右下隅部分に配置され、ＴＦＴによって構成されている。検出用素子４２には、図３及び図５に示すように、上記ゲート配線１３に沿って延びる検出用配線４３と、ソース配線１４とが接続されている。
　すなわち、検出用素子４２は、検出用配線４３に接続されたゲート部４５と、ソース配線１４に接続されたソース部４６と、第２電極４１であるドレイン部とを有している。図４に示すように、ガラス基板３５上には、ゲート部４５を覆うようにゲート絶縁膜３６が形成されている。ゲート絶縁膜３６の表面には、半導体層４４がゲート部４５を覆うように形成されている。さらに、半導体層４４の一部の表面を覆うように、上記ソース部４６及び第２電極４１が形成されている。ソース部４６は層間絶縁膜３７に覆われる一方、第２電極４１は層間絶縁膜３７に覆われずに、上記第２導電性膜３９が積層されている。
　　－タッチ位置検出方法－
　次に、上記液晶表示装置１によるタッチ位置検出方法について説明する。
　ある行の検出用配線４３に所定の走査電圧が印加されると、当該検出用配線４３に接続されている検出用素子４２のドレイン部である第２電極４１とソース部４６とが導通してＯＮ状態になる。このとき、対向基板１１が使用者にタッチされ、対向基板１１におけるタッチセンサ用突起５０先端側の第１導電性膜３８が、上記ＯＮ状態の検出用素子４２における第２電極４１に接触していれば、第２電極４１が第２導電性膜３９及び第１導電性膜３８を介して第１電極４０に導通し、対向電極２７に印加されている電圧に応じて、ソース配線１４に電流が流れる。この電流が検知されることによって、タッチ位置（押圧位置）が検出される。
　一方、対向基板１１がタッチされておらず、第１導電性膜３８及び第２導電性膜３９が互いに接触していなければ、ソース配線１４に電流は流れない。したがって、この場合には、タッチ位置（押圧位置）が検出されず、非接触であると検出される。そうして、この一連の位置検出が、各行について順次行われることにより、表示領域の全体についてタッチ位置の検出が行われることとなる。
　　－製造方法－
　次に、上記液晶表示装置１の製造方法について、図６～図８を参照して説明する。
　図６は、ガラス基板３５上に形成された導電性膜４９を示す断面図である。図７は、フォトリソグラフィにより形成された第２導電性膜３９を示す断面図である。図８は、ガラス基板３５上に形成された第２配向膜を示す断面図である。
　本実施形態の製造方法には、対向基板１１を形成する第１工程と、ＴＦＴ基板を形成する第２工程と、上記対向基板１１及びＴＦＴ基板１２を互いに貼り合わせる第３工程とが含まれる。第１工程及び第２工程は、どちらを先に行っても構わない。
　　（第２工程）
　説明の都合上、第２工程から説明する。この第２工程では、まず、ガラス基板３５上に画素電極１５、第２電極４１、ＴＦＴ１６及び検出用素子４２等を、フォトリソグラフィによって形成する。第２電極４１は、ガラス基板３５上の第２接触領域７２となる領域に、画素電極１５と同じ工程で同時に形成する。また、検出用素子４２は、ＴＦＴ１６と同じ工程で同時に形成する。
　さらに、図６に示すように、上記ガラス基板３５上の全面に、第２電極４１及び画素電極１５等を覆うように、導電性膜４９を塗布して形成する。導電性膜４９は、例えばシリコンゴムやフッ素系樹脂等の撥水性材料に、例えば酸化スズや酸化インジウム等の導電性微粒子が分散された構成を有している。
　次に、図７に示すように、開口部５４を有するフォトマスク５３を、ガラス基板３５に対向配置させ、第２電極４１上の領域（言い換えれば、ガラス基板３５上の第２接触領域７２となる領域）が遮光されるように位置合わせする。そして、オゾン雰囲気中でこのマスク５３を介して上記導電性膜４９に紫外線を照射する。
　このことにより、第２電極４１上の領域以外に形成されていた導電性膜４９がフォトリソグラフィによりアッシングして除去される結果、上記第２接触領域７２となる領域に、第２電極４１を覆うように第２導電性膜３９が形成されることとなる。
　その後、ガラス基板３５上に、硬化する前の液状の第２配向膜３２を塗布する。第２導電性膜３９はポリイミド等により構成された第２配向膜３２を弾く性質を有しているため、第２導電性膜３９の表面から第２配向膜３２が弾かれて除去される。このことにより、第２配向膜３２から第２導電性膜３９が露出することとなる。こうして、ＴＦＴ基板１２を形成する。
　　（第１工程）
　一方、第１工程では、まず、フォトリソグラフィによって、ガラス基板２５にカラーフィルタ層２６及びブラックマトリクス（不図示）を形成すると共に、スペーサ３３及びタッチセンサ用突起５０を形成する。スペーサ３３及びタッチセンサ用突起５０は、カラーフィルタ層２６と同じ工程で形成する。また、タッチセンサ用突起５０は、ガラス基板２５における第１接触領域７１となる領域に形成する。
　続いて、カラーフィルタ層２６の表面、及びタッチセンサ用突起５０の表面に、ＩＴＯ膜を堆積させて、対向電極２７を形成する。なお、タッチセンサ用突起５０の先端に形成された対向電極２７によって、上記第１電極４０が形成される。
　次に、ガラス基板２５における上記第１接触領域７１となる領域（つまり、タッチセンサ用突起５０の先端側）に、第１導電性膜３８を形成する。第１導電性膜３８は、上述の第２導電性膜３９と同様に、フォトリソグラフィによって形成する。
　すなわち、図示は省略するが、ガラス基板２５上の全面に、第１電極４０を含む対向電極２７及びスペーサ３３等を覆うように、上記導電性膜４９と同じ材料からなる導電性膜（不図示）を塗布して形成する。次に、オゾン雰囲気中でフォトマスク（不図示）を介して上記導電性膜に紫外線を照射する。このことにより、第１電極４０上の領域以外に形成されていた上記導電性膜がフォトリソグラフィによりアッシングして除去される結果、上記第１接触領域７１となる領域におけるタッチセンサ用突起５０の先端側に、第１電極４０を覆うように第１導電性膜３８が形成されることとなる。
　その後、ガラス基板２５上に、硬化する前の液状の第１配向膜３１を塗布する。第１導電性膜３８はポリイミド等により構成された第１配向膜３１を弾く性質を有しているため、第１導電性膜３８の表面から第１配向膜３１が弾かれて除去される。このことにより、第１配向膜３１から第１導電性膜３８が露出することとなる。こうして、対向基板１１を形成する。
　　（第３工程）
　その後、第３工程を行って、上記対向基板１１の第１配向膜３１が形成されている側と、ＴＦＴ基板１２の第２配向膜３２が形成されている側とを互いに貼り合わせると共に、これらＴＦＴ基板１２及び対向基板１１の間に液晶層１０を封入する。こうして、上記液晶表示装置１を製造する。
　　－実施形態１の効果－
　したがって、この実施形態１によると、対向基板１１の第１接触領域７１に、硬化する前の第１配向膜３１を弾く第１導電性膜３８をフォトリソグラフィにより形成すると共に、ＴＦＴ基板１２の第２接触領域７２に、硬化する前の第２配向膜３２を弾く第２導電性膜３９をフォトリソグラフィにより形成するようにしたので、当該第１及び第２接触領域７１，７２が比較的小さい場合であっても、その第１接触領域７１から第１配向膜３１を精度良く除去できると共に、第２接触領域７２から第２配向膜３２を精度良く除去することができる。その結果、タッチ位置（押圧位置）において、第１電極４０と第２電極４１とを、第１導電性膜３８及び第２導電性膜３９を介して確実に導通させることができるため、液晶表示装置１におけるタッチ位置（押圧位置）を高精度に検出することができる。
　さらに、対向基板１１が押圧されたときに対向電極２７に接触する第２電極４１と、当該第２電極４１及び対向電極２７の導通を検出する検出用素子４２とを、複数の画素５に配置するようにしたので、多点のタッチ位置を同時に検出することができる。
　さらにまた、検出用素子４２に接続される検出用配線の１つをソース配線１４と兼用にしたため、配線の数を減少させて、画素５の開口率を向上させることができる。
　《その他の実施形態》
　上記実施形態では、第１電極４０に第１導電性膜３８を積層すると共に、第２電極４１に第２導電性膜３９を積層する構成としたが、本発明はこれに限定されず、例えば、第１電極４０及び第２電極４１を設けずに、第１導電性膜３８及び第２導電性膜３９のみを設けて、これら自体を電極とすることも可能である。ただし、電極の導電性を高める点で、上述のように、第１電極４０及び第２電極４１を設けることが好ましい。
　また、上記実施形態では、対向基板１１にタッチセンサ用突起５０が形成された液晶表示装置１について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば、タッチセンサ用突起をＴＦＴ基板１２に形成するようにしてもよく、ＴＦＴ基板１２及び対向基板１１の双方に形成するようにしてもよい。
　また、上記実施形態では、検出用素子４２に接続される２本の配線のうち一方を表示制御用のＴＦＴ１６に接続されるソース配線１４と共通にした例について説明したが、その他にも例えば、上記検出用素子４２に接続される２本の配線のうち一方をゲート配線１３と共通にした構成としてもよい。また、上記検出用素子４２に接続される２本の配線を、ソース配線１４及びゲート配線１３とは別個独立に形成してもよい。この場合には、ソース配線１４及びゲート配線１３にそれぞれ沿って延びる２本の検出用配線を形成する。このようにすれば、ゲート配線１３及びソース配線１４による表示の制御とは独立して、常時、タッチ位置を検出できるため、検出精度をさらに高めることができる。
　また、ＴＦＴ１６及び検出用素子４２は、ＴＦＴに限らず電流の流れをＯＮ又はＯＦＦする他のスイッチング素子を適用することも可能である。
　以上説明したように、本発明は、表示画面上の位置情報を検出する液晶表示装置、及びその製造方法について有用である。
　　　　　　１　　　液晶表示装置
　　　　　１０　　　液晶層
　　　　　１１　　　対向基板（第１基板）
　　　　　１２　　　ＴＦＴ基板（第２基板）
　　　　　２５　　　ガラス基板（第１絶縁性基板）
　　　　　２７　　　対向電極
　　　　　３１　　　第１配向膜
　　　　　３２　　　第２配向膜
　　　　　３５　　　ガラス基板（第２絶縁性基板）
　　　　　３８　　　第１導電性膜
　　　　　３９　　　第２導電性膜
　　　　　４０　　　第１電極
　　　　　４１　　　第２電極
　　　　　４２　　　検出用素子
　　　　　４９　　　導電性膜
　　　　　５０　　　タッチセンサ用突起
　　　　　７１　　　第１接触領域
　　　　　７２　　　第２接触領域

Claims (9)

  1. 　第１基板と、
    　上記第１基板に対向して配置された第２基板と、
    　上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層と、
    　上記第１基板及び第２基板の上記液晶層側表面にそれぞれ設けられて硬化した配向膜とを備え、
    　上記第１基板又は第２基板が押圧されて湾曲した際に、上記第１基板及び上記第２基板の一部の領域である接触領域同士が互いに接触することにより、押圧位置を検出するように構成された液晶表示装置であって、
    　上記第１基板及び第２基板の各接触領域には、硬化する前の上記配向膜を弾く導電性膜が、上記硬化した配向膜から露出した状態で、それぞれ設けられている
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  2. 　請求項１に記載された液晶表示装置において、
    　上記第１基板の接触領域には、上記第２基板側に突出したタッチセンサ用突起が形成され、
    　上記導電性膜は、上記タッチセンサ用突起の先端側に設けられた第１導電性膜と、上記第２基板の接触領域に設けられた第２導電性膜とを有している
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  3. 　請求項２に記載された液晶表示装置において、
    　上記タッチセンサ用突起の先端には、上記第１導電性膜によって覆われた第１電極が設けられる一方、
    　上記第２基板の接触領域には、上記第２導電性膜によって覆われた第２電極が設けられている
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  4. 　請求項３に記載された液晶表示装置において、
    　上記第２基板には、上記第２電極に接続されて該第２電極と上記第１電極との導通状態を検出する検出用素子が配置されている
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  5. 　液晶層を介して互いに対向する第１基板及び第２基板と、該第１基板及び第２基板の上記液晶層側表面にそれぞれ設けられて硬化した配向膜とを備え、上記第１基板又は第２基板が押圧されて湾曲した際に、上記第１基板及び上記第２基板の一部の領域である接触領域同士が互いに接触することにより、押圧位置を検出するように構成された液晶表示装置を製造する方法であって、
    　第１絶縁性基板における上記第１基板の接触領域となる領域に、硬化する前の上記配向膜を弾く第１導電性膜を形成した後、上記第１絶縁性基板上に上記硬化する前の配向膜を塗布し、該配向膜から上記第１導電性膜を露出させて、上記第１基板を形成する第１工程と、
    　第２絶縁性基板における上記第２基板の接触領域となる領域に、硬化する前の上記配向膜を弾く第２導電性膜を形成した後、上記第２絶縁性基板上に上記硬化する前の配向膜を塗布し、該配向膜から上記第２導電性膜を露出させて、上記第２基板を形成する第２工程と、
    　上記第１基板及び第２基板を上記配向膜が形成されている側で互いに貼り合わせる第３工程とを備えている
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  6. 　請求項５に記載された液晶表示装置の製造方法において、
    　上記第１工程では、上記第１絶縁性基板における上記第１基板の接触領域となる領域に、上記第２基板側に突出するタッチセンサ用突起を形成した後に、上記タッチセンサ用突起の先端側に上記第１導電性膜を形成する
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  7. 　請求項６に記載された液晶表示装置の製造方法において、
    　上記第１工程では、上記タッチセンサ用突起の先端に第１電極を形成した後に、該第１電極を覆うように上記第１導電性膜を形成し、
    　上記第２工程では、上記第２絶縁性基板の上記接触領域となる領域に第２電極を形成した後に、該第２電極を覆うように上記第２導電性膜を形成する
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  8. 　請求項７に記載された液晶表示装置の製造方法において、
    　上記第２工程では、上記第２電極に接続されて該第２電極と上記第１電極との導通状態を検出する検出用素子を、上記第２絶縁性基板に形成する
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  9. 　請求項５乃至８の何れか１つに記載された液晶表示装置の製造方法において、
    　上記第１工程及び上記第２工程では、上記第１導電性膜及び上記第２導電性膜を、それぞれフォトリソグラフィにより形成する
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
PCT/JP2009/005327 2009-02-23 2009-10-13 液晶表示装置及びその製造方法 WO2010095187A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/148,620 US20110317115A1 (en) 2009-02-23 2009-10-13 Liquid crystal display device and method for manufacturing same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009-039668 2009-02-23
JP2009039668 2009-02-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010095187A1 true WO2010095187A1 (ja) 2010-08-26

Family

ID=42633489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2009/005327 WO2010095187A1 (ja) 2009-02-23 2009-10-13 液晶表示装置及びその製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20110317115A1 (ja)
WO (1) WO2010095187A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012108416A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Ulvac Japan Ltd スペーサ配置方法
US20130215366A1 (en) * 2012-02-21 2013-08-22 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Liquid Crystal Display Panel and Method for Making the Same
CN104460142A (zh) * 2014-12-15 2015-03-25 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140100788A (ko) * 2013-02-07 2014-08-18 삼성전자주식회사 터치 감지가 가능한 디스플레이 패널 및 이를 가지는 디스플레이장치
JP2014174319A (ja) * 2013-03-08 2014-09-22 Sony Corp 表示装置および表示装置の製造方法ならびに電子機器
CN103455202B (zh) * 2013-08-28 2015-11-25 合肥京东方光电科技有限公司 内嵌式触摸屏、其制备方法及显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003005189A (ja) * 1999-10-05 2003-01-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子、液晶表示素子用基板、液晶表示装置、液晶表示素子の製造方法、及び液晶表示素子の駆動方法
JP2004212609A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Dainippon Printing Co Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JP2008165181A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Samsung Electronics Co Ltd ディスプレイ装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003005189A (ja) * 1999-10-05 2003-01-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子、液晶表示素子用基板、液晶表示装置、液晶表示素子の製造方法、及び液晶表示素子の駆動方法
JP2004212609A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Dainippon Printing Co Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JP2008165181A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Samsung Electronics Co Ltd ディスプレイ装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012108416A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Ulvac Japan Ltd スペーサ配置方法
US20130215366A1 (en) * 2012-02-21 2013-08-22 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Liquid Crystal Display Panel and Method for Making the Same
CN104460142A (zh) * 2014-12-15 2015-03-25 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板
WO2016095302A1 (zh) * 2014-12-15 2016-06-23 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板
CN104460142B (zh) * 2014-12-15 2017-05-24 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板

Also Published As

Publication number Publication date
US20110317115A1 (en) 2011-12-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20230333422A1 (en) Display device
KR101199053B1 (ko) 입력 기능을 갖는 액정 표시 장치
WO2010055596A1 (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
TWI492109B (zh) 觸控面板基板及光電裝置
TWI533185B (zh) 觸控面板基板及光電裝置
US8390771B2 (en) Liquid crystal display device
TWI453499B (zh) 顯示裝置、觸控感測器及顯示裝置之製造方法
WO2013105566A1 (ja) タッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置
WO2011125281A1 (ja) タッチパネル付き表示装置
JP2010039380A (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
JP2008009921A (ja) 入力装置、及びその製造方法
WO2008032476A1 (fr) Écran tactile
US20140340597A1 (en) Electronic component and electronic device using the same
WO2010061494A1 (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
US20130076996A1 (en) Integrated touch panel with display device and method of manufacturing the same
WO2010095187A1 (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
US20190072790A1 (en) Method of producing substrate having alignment mark
JP2012220670A (ja) タッチパネル電極付きカラーフィルタとその製造方法
KR20150058629A (ko) 터치 스크린이 내장된 액정표시장치
JP2008009920A (ja) 入力装置、及びその製造方法
JP2012073669A (ja) タッチパネル及び画像表示装置
WO2010106594A1 (ja) 表示装置
US8508678B2 (en) Liquid crystal display device, touch panel, and display device including the same
WO2018038038A1 (ja) タッチパネル付き表示装置
JP2012078483A (ja) 液晶表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 09840294

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13148620

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 09840294

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP