CN107537416B - 一种化学试剂装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种化学试剂装置，包括固定安装在墙体上的反应池、安装在地面中的试剂箱以及分流管，反应池右侧顶部设有通联反应池内部容腔的漏斗，漏斗顶部设有端盖，分流管中上端固定设置有第一封闭块，第一封闭块左下端设置有突部，突部中设置有第一弯折孔，第一弯折孔的垂直端开端向上并固定安装有与反应池底部连接的接联管，第一弯折孔的横直端开端朝右，分流管中还设置有位于突部下方的隔开板，隔开板将分流管内部下端隔开成冲刷腔和试剂腔，试剂腔中可上下滑移地安装有第二封闭块。

Description

一种化学试剂装置

技术领域

本发明涉及化学试剂领域，具体地说是一种化学试剂装置。

背景技术

在一些化学实验室或一些化工厂内，往往要将多种化学试剂融合反应后使用，然而传统的化学试剂装置无法将反应后的化学试剂集中存放，而且在对反应池冲洗过程中，极易将冲洗水与化学试剂混合，使得化学试剂掺杂有水分，浓度降低，严重影响使用效果。

发明内容

针对上述技术的不足，本发明提出了一种化学试剂装置。

本发明的 一种化学试剂装置，包括固定安装在墙体上的反应池、安装在地面中的试剂箱以及分流管，所述反应池右侧顶部设有通联所述反应池内部容腔的漏斗，所述漏斗用于化学试剂的倒放操作，所述漏斗顶部设有端盖，所述分流管中上端固定设置有第一封闭块，所述第一封闭块左下端设置有突部，所述突部中设置有第一弯折孔，所述第一弯折孔的垂直端开端向上并固定安装有与所述反应池底部连接的接联管，所述第一弯折孔的横直端开端朝右，所述分流管中还设置有位于所述突部下方的隔开板，所述隔开板将所述分流管内部下端隔开成冲刷腔和试剂腔，所述试剂腔中可上下滑移地安装有第二封闭块，所述第二封闭块中设置有第二弯折孔，所述第二弯折孔的横直端开端朝左，所述第二弯折孔的垂直端开端朝下，所述冲刷腔底部设置有通联排污系统的输出管，所述试剂腔底部设置有试剂管，所述试剂管与所述试剂箱通联，所述第二封闭块上端面中设置有磁铁，所述第一封闭块接近所述磁铁端面中设置有铁臂，所述铁臂上固定安装有通电线圈，所述反应池上方设置有冲刷装置，所述冲刷装置用以冲洗所述反应池，地面中还设置有触发装置，所述触发装置用以控制所述通电线圈通电。

进一步的技术方案，其中，所述触发装置包括设置在地面中且开端朝上的滑移腔以及滑移安装在所述滑移腔中的滑移块，所述滑移腔底壁上固定安装有第一触发器，所述第一触发器用以控制所述通电线圈通电，所述滑移块底面固定设置有触碰块，所述触碰块用以与所述第一触发器接触，所述滑移腔底壁上左右互称设置有伸缩垫，所述滑移块底壁还固定安装有与所述滑移腔底壁固定连接的第一拉簧，所述第一拉簧用以将所述滑移块向上顶压而使所述触碰块不与所述第一触发器接触。

进一步的技术方案，其中，所述冲刷装置包括固定安装在墙体中的安置块以及固定安装在所述安置块右端的壳套，所述安置块中设置有第一滑移槽，所述壳套中设置有第二滑移槽，所述第二滑移槽中滑移安装有推送块，所述推送块左端固定设置有第一导杆和第二导杆，所述第一滑移槽左端壁上安装有冲刷电门，所述冲刷电门用以与所述第一导杆配合而实现控制冲水阀门开启，所述第一导杆和第二导杆左端贯通所述安置块并穿进所述第一滑移槽中，所述第一滑移槽左端壁上安装有第二触发器，所述第二触发器用以与所述第二导杆配合而控制所述通电线圈中电流反向运行，所述第二滑移槽中还安装有第二拉簧，所述第二拉簧用以将所述推送块向右顶压，所述第一导杆和第二导杆上位于所述第一滑移槽中设置有卡紧环，从而可防止所述推送块滑出所述第二滑移槽。

进一步的技术方案，其中，所述铁臂下端安装有防护垫，从而可防止水汽与铁臂接触。

进一步的技术方案，其中，所述试剂箱左端上端设置有溢出管，所述溢出管与所述输出管通联。

进一步的技术方案，所述试剂腔中还设置有支承块，从而在所述第二封闭块底部与所述支承块相抵时，所述第二封闭块上端面与所述隔开板上端平齐，由此，所述第二弯折孔的横直端被所述隔开板封盖。

本发明的有益效果是：

将多种化学试剂倒入所述反应池中反应时，操作人员站立在所述滑移块上，所述滑移块在人的重力作用下向下滑动，所述滑移块向下滑动后，所述触碰块会与所述第一触发器接触，由此，所述通电线圈可通电，所述通电线圈通电后可使所述铁臂产生与吸引所述磁铁的磁极，由此所述铁臂可驱动所述第二封闭块向上滑动；

当所述第二封闭块上端面与所述第一封闭块底面相抵时，所述第二弯折孔的横直端与所述第一弯折孔的横直端通联，此时化学试剂会以此通过所述接联管、第一弯折孔、第二弯折孔和试剂管而流入到所述试剂箱中；

操作完成后，按下所述推送块，所述推送块可驱动所述第一导杆和第二导杆向左滑动而分别触发所述冲刷电门和所述第二触发器，所述第二触发器被触发后，所述通电线圈上的电流会反向，因此，所述铁臂可产生排斥所述磁铁的磁极，故可将所述第二封闭块向下顶压并与所述支承块相抵，所述冲刷电门被触发后，可控制冲水系统出水对反应池进行冲洗，而水可依次流经所述接联管、第一弯折孔、冲刷腔、输出管，最终流到排污系统中；

而当操作人员离开所述滑移块后，在所述第一拉簧的作用下，所述滑移块被向上顶压而使所述触碰块脱离与所述第一触发器接触，从而所述通电线圈可断电；

当所述试剂箱中的化学试剂超过所述溢出管上端时，化学试剂可从所述溢出管流入到所述输出管中，最终也流到排污系统中；

本发明装置可实现对反应后的化学试剂集中存放，且冲洗反应池的水不会流入到试剂箱中，故可保持原有化学试剂的浓度，可防止化学试剂掺杂水分而影响使用效果。

附图说明

为了更清楚地说明发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的一种化学试剂装置的结构示意图；

图2为图1中分流管处的结构放大示意图；

图3为图2中通电线圈通电时的结构示意图；

图4为图1中冲刷装置处的结构放大示意图；

图5为图1中反应池的右视图。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。

本说明书（包括任何附加权利要求、摘要和附图）中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。

如图1至图5所示，本发明装置的一种化学试剂装置，包括固定安装在墙体上的反应池10、安装在地面中的试剂箱14以及分流管20，所述反应池10右侧顶部设有通联所述反应池10内部容腔的漏斗101，所述漏斗101用于化学试剂的倒放操作，所述漏斗101顶部设有端盖102，所述分流管20中上端固定设置有第一封闭块24，所述第一封闭块24左下端设置有突部240，所述突部240中设置有第一弯折孔241，所述第一弯折孔241的垂直端开端向上并固定安装有与所述反应池10底部连接的接联管11，所述第一弯折孔241的横直端开端朝右，所述分流管20中还设置有位于所述突部240下方的隔开板23，所述隔开板23将所述分流管20内部下端隔开成冲刷腔21和试剂腔22，所述试剂腔22中可上下滑移地安装有第二封闭块25，所述第二封闭块25中设置有第二弯折孔251，所述第二弯折孔251的横直端开端朝左，所述第二弯折孔251的垂直端开端朝下，所述冲刷腔21底部设置有通联排污系统的输出管12，所述试剂腔22底部设置有试剂管13，所述试剂管13与所述试剂箱14通联，所述第二封闭块25上端面中设置有磁铁252，所述第一封闭块24接近所述磁铁252端面中设置有铁臂26，所述铁臂26上固定安装有通电线圈261，所述反应池10上方设置有冲刷装置6，所述冲刷装置6用以冲洗所述反应池10，地面中还设置有触发装置8，所述触发装置8用以控制所述通电线圈261通电。

有益地或示例性地，其中，所述触发装置8包括设置在地面中且开端朝上的滑移腔80以及滑移安装在所述滑移腔80中的滑移块81，所述滑移腔80底壁上固定安装有第一触发器82，所述第一触发器82用以控制所述通电线圈通电，所述滑移块81底面固定设置有触碰块83，所述触碰块83用以与所述第一触发器82接触，所述滑移腔80底壁上左右互称设置有伸缩垫85，所述滑移块81底壁还固定安装有与所述滑移腔80底壁固定连接的第一拉簧84，所述第一拉簧84用以将所述滑移块81向上顶压而使所述触碰块83不与所述第一触发器82接触。

有益地或示例性地，其中，所述冲刷装置6包括固定安装在墙体中的安置块60以及固定安装在所述安置块60右端的壳套67，所述安置块60中设置有第一滑移槽63，所述壳套67中设置有第二滑移槽68，所述第二滑移槽68中滑移安装有推送块65，所述推送块65左端固定设置有第一导杆69和第二导杆64，所述第一滑移槽63左端壁上安装有冲刷电门61，所述冲刷电门61用以与所述第一导杆69配合而实现控制冲水阀门开启，所述第一导杆69和第二导杆64左端贯通所述安置块60并穿进所述第一滑移槽63中，所述第一滑移槽63左端壁上安装有第二触发器62，所述第二触发器62用以与所述第二导杆64配合而控制所述通电线圈261中电流反向运行，所述第二滑移槽68中还安装有第二拉簧66，所述第二拉簧66用以将所述推送块65向右顶压，所述第一导杆69和第二导杆64上位于所述第一滑移槽63中设置有卡紧环640，从而可防止所述推送块65滑出所述第二滑移槽68。

有益地或示例性地，其中，所述铁臂26下端安装有防护垫262，从而可防止水汽与铁臂26接触。

有益地或示例性地，其中，所述试剂箱14左端上端设置有溢出管15，所述溢出管15与所述输出管12通联。

有益地或示例性地，其中，所述试剂腔22中还设置有支承块220，从而在所述第二封闭块25底部与所述支承块220相抵时，所述第二封闭块25上端面与所述隔开板23上端平齐，由此，所述第二弯折孔251的横直端被所述隔开板23封盖。

本发明装置在初始状态时，在所述第一拉簧84的作用下，所述滑移块81被向上顶压而使所述触碰块83不与所述第一触发器82接触，从而所述通电线圈261不通电，所述第二封闭块25底部与所述支承块220相抵，所述第二弯折孔251的横直端被所述隔开板23封盖；

将多种化学试剂倒入所述反应池10中反应时，操作人员会站立在所述滑移块81上，所述滑移块81在人的重力作用下向下滑动，所述滑移块81向下滑动后，所述触碰块83会与所述第一触发器82接触，由此，所述通电线圈261可通电，所述通电线圈261通电后可使所述铁臂26产生与吸引所述磁铁252的磁极，由此所述铁臂26可驱动所述第二封闭块25向上滑动，当所述第二封闭块25上端面与所述第一封闭块24底面相抵时，所述第二弯折孔251的横直端与所述第一弯折孔241的横直端通联，此时化学试剂会以此通过所述接联管11、第一弯折孔241、第二弯折孔251和试剂管13而流入到所述试剂箱14中；操作完成后，按下所述推送块65，所述推送块65可驱动所述第一导杆69和第二导杆64向左滑动而分别触发所述冲刷电门61和所述第二触发器62，所述第二触发器62被触发后，所述通电线圈261上的电流会反向，因此，所述铁臂26可产生排斥所述磁铁252的磁极，故可将所述第二封闭块252向下顶压并与所述支承块220相抵，所述冲刷电门61被触发后，可控制冲水系统出水对反应池10进行冲洗，而水可依次流经所述接联管11、第一弯折孔241、冲刷腔21、输出管12，最终流到排污系统中；而当操作人员离开所述滑移块81后，在所述第一拉簧84的作用下，所述滑移块81被向上顶压而使所述触碰块83脱离与所述第一触发器82接触，从而所述通电线圈261可断电；

当所述试剂箱14中的化学试剂超过所述溢出管15上端时，化学试剂可从所述溢出管15流入到所述输出管12中，最终也流到排污系统中。

本发明的有益效果是：将多种化学试剂倒入所述反应池中反应时，操作人员站立在所述滑移块上，所述滑移块在人的重力作用下向下滑动，所述滑移块向下滑动后，所述触碰块会与所述第一触发器接触，由此，所述通电线圈可通电，所述通电线圈通电后可使所述铁臂产生与吸引所述磁铁的磁极，由此所述铁臂可驱动所述第二封闭块向上滑动；

当所述第二封闭块上端面与所述第一封闭块底面相抵时，所述第二弯折孔的横直端与所述第一弯折孔的横直端通联，此时化学试剂会以此通过所述接联管、第一弯折孔、第二弯折孔和试剂管而流入到所述试剂箱中；

操作完成后，按下所述推送块，所述推送块可驱动所述第一导杆和第二导杆向左滑动而分别触发所述冲刷电门和所述第二触发器，所述第二触发器被触发后，所述通电线圈上的电流会反向，因此，所述铁臂可产生排斥所述磁铁的磁极，故可将所述第二封闭块向下顶压并与所述支承块相抵，所述冲刷电门被触发后，可控制冲水系统出水对反应池进行冲洗，而水可依次流经所述接联管、第一弯折孔、冲刷腔、输出管，最终流到排污系统中；

而当操作人员离开所述滑移块后，在所述第一拉簧的作用下，所述滑移块被向上顶压而使所述触碰块脱离与所述第一触发器接触，从而所述通电线圈可断电；

当所述试剂箱中的化学试剂超过所述溢出管上端时，化学试剂可从所述溢出管流入到所述输出管中，最终也流到排污系统中；

本发明装置可实现对反应后的化学试剂集中存放，且冲洗反应池的水不会流入到试剂箱中，故可保持原有化学试剂的浓度，可防止化学试剂掺杂水分而影响使用效果。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (4)

1.一种化学试剂装置，包括固定安装在墙体上的反应池、安装在地面中的试剂箱以及分流管，其特征在于：所述反应池右侧顶部设有通联所述反应池内部容腔的漏斗，所述漏斗顶部设有端盖，所述分流管中上端固定设置有第一封闭块，所述第一封闭块左下端设置有突部，所述突部中设置有第一弯折孔，所述第一弯折孔的垂直端开端向上并固定安装有与所述反应池底部连接的接联管，所述第一弯折孔的横直端开端朝右，所述分流管中还设置有位于所述突部下方的隔开板，所述隔开板将所述分流管内部下端隔开成冲刷腔和试剂腔，所述试剂腔中可上下滑移地安装有第二封闭块，所述第二封闭块中设置有第二弯折孔，所述第二弯折孔的横直端开端朝左，所述第二弯折孔的垂直端开端朝下，所述冲刷腔底部设置有通联排污系统的输出管，所述试剂腔底部设置有试剂管，所述试剂管与所述试剂箱通联，所述第二封闭块上端面中设置有磁铁，所述第一封闭块接近所述磁铁端面中设置有铁臂，所述铁臂上固定安装有通电线圈，所述反应池上方设置有冲刷装置，地面中还设置有触发装置；所述触发装置包括设置在地面中且开端朝上的滑移腔以及滑移安装在所述滑移腔中的滑移块，所述滑移腔底壁上固定安装有第一触发器，所述滑移块底面固定设置有触碰块，所述滑移腔底壁上左右互称设置有伸缩垫，所述滑移块底壁还固定安装有与所述滑移腔底壁固定连接的第一拉簧；所述冲刷装置包括固定安装在墙体中的安置块以及固定安装在所述安置块右端的壳套，所述安置块中设置有第一滑移槽，所述壳套中设置有第二滑移槽，所述第二滑移槽中滑移安装有推送块，所述推送块左端固定设置有第一导杆和第二导杆，所述第一滑移槽左端壁上安装有冲刷电门，所述第一导杆和第二导杆左端贯通所述安置块并穿进所述第一滑移槽中，所述第一滑移槽左端壁上安装有第二触发器，所述第二滑移槽中还安装有第二拉簧，所述第一导杆和第二导杆上位于所述第一滑移槽中设置有卡紧环。

2.根据权利要求1所述的一种化学试剂装置，其特征在于：所述铁臂下端安装有防护垫。

3.根据权利要求1所述的一种化学试剂装置，其特征在于：所述试剂箱左端上端设置有溢出管，所述溢出管与所述输出管通联。

4.根据权利要求1所述的一种化学试剂装置，其特征在于：所述试剂腔中还设置有支承块。