CN107519834A - 一种催化剂制备装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种催化剂制备装置，属于催化剂制备技术领域，一反应釜，所述反应釜的截面为圆形，上表面为向上凸起的弧形面；一液碱入口，所述液碱入口设置于所述反应釜顶面的中心处，所述液碱入口所在管路上设置有阀门；一分流罩板，所述分流罩板位于所述反应釜的上表面的下方，其下沿与所述反应釜的内壁留有空隙；一环流挡板，所述环流挡板设置于所述分流罩板与所述反应釜的内壁所形成的空隙下方，且液碱经所述空隙流下后落入到所述环流挡板上。该催化剂制备装置用于雷尼镍催化剂的制备，其在制备过程中可实现内壁雷尼镍残留物的自清洗，并且液碱加入时与料液接触充分，反应均匀，可控性更佳。

Description

一种催化剂制备装置
技术领域
本发明涉及催化剂制备技术领域，具体地指一种催化剂制备装置。
背景技术
雷尼镍又译兰尼镍，加氢催化剂，是一种由带有多孔结构的镍铝合金的细小晶粒组成的固态异相催化剂，它最早由美国工程师莫里·雷尼在植物油的氢化过程中，作为催化剂而使用。其制备过程是把镍铝合金用浓氢氧化钠溶液处理，在这一过程中，大部分的铝会和氢氧化钠反应而溶解掉，留下了很干燥的活化后的雷尼镍。
雷尼镍在制备之后，反应釜内壁通常会残留颗粒状的雷尼镍颗粒，其易燃的特性使得下次的雷尼镍制备过程变得危险且不可控，因此需要每次人工清洗反应釜内部的雷尼镍残留物，造成制备周期延长，人力成本增加。
发明内容
申请本发明的目的就是要提供一种催化剂制备装置，用于雷尼镍催化剂的制备，其在制备过程中可实现内壁雷尼镍残留物的自清洗，并且液碱加入时与料液接触充分，反应均匀，可控性更佳。
为实现上述目的，本发明所设计的一种催化剂制备装置，包含有：
一反应釜，所述反应釜的截面为圆形，上表面为向上凸起的弧形面；
一液碱入口，所述液碱入口设置于所述反应釜顶面的中心处，所述液碱入口所在管路上设置有阀门；
一分流罩板，所述分流罩板位于所述反应釜的上表面的下方，其下沿与所述反应釜的内壁留有空隙；
一环流挡板，所述环流挡板设置于所述分流罩板与所述反应釜的内壁所形成的空隙下方，且液碱经所述空隙流下后落入到所述环流挡板上。
作为上述技术方案的优选，所述分流罩板的轮廓形状与所述反应釜的上表面相适配，所述分流罩板与所述反应釜上表面之间的间隙保持不变。
作为上述技术方案的优选，所述分流罩板与所述反应釜上表面之间的间隙距离为0.5~3毫米。
作为上述技术方案的优选，所述分流罩板的下沿处于同一水平面上。
作为上述技术方案的优选，所述环流挡板的内缘与所述反应釜的内表面通过弧面相连接。
作为上述技术方案的优选，所述反应釜的上方设置有氮气入口。
作为上述技术方案的优选，所述反应釜的上方设置有氢气排空管，所述氢气排空管的内壁设置有聚四氟乙烯涂层。
作为上述技术方案的优选，所述催化剂制备装置还包括有一个搅拌装置，所述搅拌装置包括设置于所述搅拌釜内的搅拌转子和设置于所述搅拌釜下方的磁力搅拌器。
作为上述技术方案的优选，所述反应釜上设置有用于投放料液的投放口。
环流挡板首先使得加入的碱液能够较为分散的加入到料液中，反应充分均匀，降低了对搅拌的依赖；然后，液碱沿反应釜内壁流下，对溅射在内壁上的雷尼镍起到一个清洗作用，防止其残留物干燥引发安全隐患；只需分流罩板与环流挡板相配合的简单结构即能够反应更加充分和安全的双重技术效果，同时使得反应能够连续进行，节约了人工清理的时间和人力成本。
本发明与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：
该催化剂制备装置用于雷尼镍催化剂的制备，其在制备过程中可实现内壁雷尼镍残留物的自清洗，并且液碱加入时与料液接触充分，反应均匀，可控性更佳。
附图说明
图1为催化剂制备装置结构示意图。
图中：反应釜1、液碱入口11、分流罩板12、环流挡板13、氮气入口14、氢气排空管15、搅拌装置16、投放口17。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的详细描述：
实施例1：参考图1，一种催化剂制备装置，包含有：
一反应釜1，所述反应釜1的截面为圆形，上表面为向上凸起的弧形面并设置有液碱入口11、氮气入口14、氢气排空管15，其中所述氢气排空管15的内壁设置有聚四氟乙烯涂层，所述液碱入口11设置于所述反应釜1顶面的中心处，所述反应釜1上部还设置有用于投放料液的投放口17；
一分流罩板12，所述分流罩板12位于所述反应釜1的上表面的下方，其下沿处于同一水平面上，其轮廓形状与所述反应釜1的上表面相适配，其下沿与所述反应釜1的内壁留有空隙且所述分流罩板11与所述反应釜1上表面之间的间隙保持不变，为0.5毫米；
一环流挡板13，所述环流挡板13设置于所述分流罩板12与所述反应釜1的内壁所形成的空隙下方，且液碱经所述空隙流下后落入到所述环流挡板13上，所述环流挡板13的内缘与所述反应釜1的内表面通过弧面相连接；
一搅拌装置16，所述搅拌装置16包括设置于所述搅拌釜1内的搅拌转子和设置于所述搅拌釜1下方的磁力搅拌器。
实施例2：参考图1，一种催化剂制备装置，与实施例1的不同之处在于：所述分流罩板11与所述反应釜1上表面之间的间隙为3毫米。

Claims (9)

1.一种催化剂制备装置，其特征在于，包含有：
一反应釜（1），所述反应釜（1）的截面为圆形，上表面为向上凸起的弧形面；
一液碱入口（11），所述液碱入口（11）设置于所述反应釜（1）顶面的中心处，所述液碱入口（11）所在管路上设置有阀门；
一分流罩板（12），所述分流罩板（12）位于所述反应釜（1）的上表面的下方，其下沿与所述反应釜（1）的内壁留有空隙；
一环流挡板（13），所述环流挡板（13）设置于所述分流罩板（12）与所述反应釜（1）的内壁所形成的空隙下方，且液碱经所述空隙流下后落入到所述环流挡板（13）上。
2.根据权利要求1所述的一种催化剂制备装置，其特征在于：所述分流罩板（11）的轮廓形状与所述反应釜（1）的上表面相适配，所述分流罩板（11）与所述反应釜（1）上表面之间的间隙保持不变。
3.根据权利要求2所述的一种催化剂制备装置，其特征在于：所述分流罩板（11）与所述反应釜（1）上表面之间的间隙距离为0.5~3毫米。
4.根据权利要求1或2所述的一种催化剂制备装置，其特征在于：所述分流罩板（11）的下沿处于同一水平面上。
5.根据权利要求1所述的一种催化剂制备装置，其特征在于：所述环流挡板（13）的内缘与所述反应釜（1）的内表面通过弧面相连接。
6.根据权利要求1所述的一种催化剂制备装置，其特征在于：所述反应釜（1）的上方设置有氮气入口（14）。
7.根据权利要求1所述的一种催化剂制备装置，其特征在于：所述反应釜（1）的上方设置有氢气排空管（15），所述氢气排空管（15）的内壁设置有聚四氟乙烯涂层。
8.根据权利要求1所述的一种催化剂制备装置，其特征在于：所述催化剂制备装置还包括有一个搅拌装置（16），所述搅拌装置（16）包括设置于所述搅拌釜（1）内的搅拌转子和设置于所述搅拌釜（1）下方的磁力搅拌器。
9.根据权利要求1所述的一种催化剂制备装置，其特征在于：所述反应釜（1）上设置有用于投放料液的投放口（17）。
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