CN107463069A - 一种大面积连续辊动曝光装置及方法 - Google Patents

一种大面积连续辊动曝光装置及方法 Download PDF

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CN107463069A CN201710751853.2A CN201710751853A CN107463069A CN 107463069 A CN107463069 A CN 107463069A CN 201710751853 A CN201710751853 A CN 201710751853A CN 107463069 A CN107463069 A CN 107463069A
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朱俊杰
周有泉
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Abstract

本发明公开了一种大面积连续辊动曝光装置及方法，该装置包括：辊送系统和光路系统；其中，所述辊送系统包括：平台、辊送PET柔性基底的辊送机构、胶液池和清洗池，辊送机构、胶液池和清洗池均设在平台上；所述光路系统包括：计算机、DMD数字掩膜、照明子系统、调焦子系统和投影成像子系统。该装置能以低软硬件成本，在限定柔性基底张力的基础上，精密地控制基底移位和输入DMD掩膜图形同步变换，实现连续的涂胶、光刻、清洗，完成大面积图形无掩膜光刻。

Description

一种大面积连续辊动曝光装置及方法
技术领域
本发明涉及光学技术领域，具体涉及一种基于数字微镜器件DMD无掩膜光刻技术的大面积连续辊动曝光装置及方法。
背景技术
光刻技术是近年的研究热点，是半导体加工领域的核心技术之一。随着掩膜尺寸的缩小，如何降低光学掩膜制作和加工成本一直困扰着研究人员，无掩膜光刻技术开始进入人们视野。
无掩膜光刻技术如电子束直写、激光直写等精度高但设备昂贵，基于数字微镜器件(DMD)的无掩膜光刻技术受到微纳加工及相关领域的普遍关注。DMD具有灵活、并行和高速等优点，它替代传统的光学掩膜，降低了传统掩膜在制作和加工方面的困难和成本，简化了传统光刻技术的繁琐工艺流程，提高了光刻系统的加工效率。
现有的基于DMD无掩膜光刻技术一次加工面积有限，加工大面积的图形只能靠多次曝光拼接，现有的无掩膜光刻系统能实现大面积图形曝光拼接，但是设备昂贵而且是单帧图形之间的拼接精度有待提高。
发明内容
基于现有技术所存在的问题，本发明的目的是提供一种大面积连续辊动曝光装置及方法，能以低软硬件成本，在限定柔性基底张力的基础上，精密地控制基底移位和输入DMD掩膜图形同步变换，实现连续的涂胶、光刻、清洗，完成大面积图形无掩膜光刻。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
本发明实施例提供一种大面积连续辊动曝光装置，包括：
辊送系统和光路系统；其中，
所述辊送系统包括：平台、辊送PET柔性基底的辊送机构、胶液池和清洗池，辊送机构、胶液池和清洗池均设在平台上；所述辊送机构包括：设置在该辊送机构前端的卷送辊子，设置在该辊送机构后端的卷收辊子、设置在卷送辊子与卷送辊子之间的速度辊子、设在所述卷送辊子与所述速度辊子之间的滚涂辊子和设在所述速度辊子与所述卷收辊子之间的清洗辊组，所述胶液池设在所述辊送机构前端下方，所述滚涂辊子辊送PET柔性基底的路径处于所述胶液池内，所述清洗池设在所述辊送机构后端下方，所述清洗辊组辊送PET柔性基底的路径处于所述清洗池内；
所述光路系统包括：计算机、DMD数字掩膜、照明子系统、调焦子系统和投影成像子系统；所述计算机分别与DMD和调焦子系统通信连接，所述DMD、调焦子系统和投影成像子系统依次设在所述照明子系统的光通路上，所述投影成像子系统的曝光输出端对应照射于所述辊送系统的滚涂辊子辊送后的PET柔性基底的曝光部位上。
本发明实施方式还提供一种大面积连续辊动曝光方法，采用本发明所述的大面积连续辊动曝光装置，包括以下步骤：
将待曝光的PET柔性基底设在所述曝光装置的辊送系统的辊送机构上，辊送过程中先在该PET柔性基底上进行涂胶；
将所述曝光装置的光路系统的DMD数字掩膜设为需曝光的一帧图形，利用所述光路系统对所述涂胶后的PET柔性基底进行曝光，曝光后经所述辊送机构移动所述PET柔性基底相应的距离，并切换所述光路系统的DMD数字掩膜为对应的后一帧图形后再对所述涂胶后的PET柔性基底进行再次曝光，重复上述过程直到在所述PET柔性基底上多次曝光的图形拼接后得到完整图形。
由上述本发明提供的技术方案可以看出，本发明实施例提供的大面积连续辊动曝光方法及装置，其有益效果为：
通过在辊送系统的辊送机构中设置卷送辊子和卷收辊子的同时，还设置速度辊子，由卷送辊子和卷收辊子用于控制PE柔性基底的张力，卷收辊子与速度辊子作为驱动辊子，卷收辊子不能单独带动卷送辊子送卷，卷收辊子不再以作为移位控制辊子，PE柔性基底的移送量只由速度辊子控制，由于PE柔性基底在输送过程中只是绕经速度辊子，不会卷绕在速度辊子上，因此其辊径始终保持不变，不会随着收卷和放卷的进行而不断变化，故无需加装精密辊径测量传感器，也无需采用复杂的控制方式进行控制。进而实现了用相对低成本的方式，即可完成收送卷、涂胶、清洗工艺步骤，高效地实现了高精度柔性基底移位及基底张力控制。另外，由于光路系统设有照明子系统对光的均匀稳定性有很大提升，设置调焦子系统进行调焦反馈，能完成精准对焦，通过设置投影成像子系统与辊送系统配合，能使曝光过程将一帧图形的一次曝光变为多次曝光，将两帧图形之间拼接的移动过程分为多步，减少了拼接误差，提升了图形的拼接精度，经实验证明获得了很好的滚动拼接效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。
图1为本发明实施例提供的辊动曝光装置结构示意图；
图2为本发明实施例提供的辊动曝光装置的光路系统中为4f双远心结构投影成像系统原理示意图；
图3为本发明实施例提供的辊动曝光装置的辊动曝光原理示意图；
图4为本发明实施例提供的辊动曝光装置曝光两帧图形DMD输入图形变换顺序图；
图中：1.卷收辊子；2.清洗池；3.浮动辊子；4.速度辊子；5.平台辊子；6.PET柔性基底；7.刮涂棒；8.胶液池；9.滚涂辊子；10.卷送辊子；11.投影物镜；12.反射镜；13.分光棱镜；14.CCD；15.消色差双胶合透镜；16.电脑；17.DMD数字掩膜；18.准直调节器；19.光导管；20.光源；21.第一辅助辊子；22.第二辅助辊子；23.第三辅助辊子；24.第四辅助辊子；25.第五辅助辊子；26.第六辅助辊子；27.第七辅助辊子；28.第八辅助辊子。
具体实施方式
下面结合本发明的具体内容，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明的保护范围。
如图1所示，本发明实施例提供一种大面积连续辊动曝光装置，包括：
辊送系统和光路系统；其中，
所述辊送系统包括：平台、辊送PET柔性基底6的辊送机构、胶液池8和清洗池2，辊送机构、胶液池8和清洗池2均设在平台上；所述辊送机构包括：设置在该辊送机构前端的卷送辊子10，设置在该辊送机构后端的卷收辊子1、设置在卷送辊子10与卷送辊子10之间的速度辊子4、设在所述卷送辊子10与所述速度辊子4之间的滚涂辊子9和设在所述速度辊子4与所述卷收辊子1之间的清洗辊组以及浮动辊子3，所述胶液池8设在所述辊送机构前端下方，所述滚涂辊子9辊送PET柔性基底6的路径处于所述胶液池8内，所述清洗池2设在所述辊送机构后端下方，所述清洗辊组辊送PET柔性基底6的路径处于所述清洗池内；
所述光路系统包括：计算机16、DMD数字掩膜17、照明子系统、调焦子系统和投影成像子系统；所述计算机16分别与DMD17和调焦子系统通信连接，所述DMD17、调焦子系统和投影成像子系统依次设在所述照明子系统的光通路上，所述投影成像子系统的曝光输出端对应照射于所述辊送系统的滚涂辊子9辊送后的PET柔性基底6的曝光部位上。
上述辊动曝光装置中，辊送系统的辊送机构包括：
依次间隔横向交错设置的卷送辊子10、滚涂辊子9、第八辅助辊子28、刮涂棒7、平台辊子5、第七辅助辊子27、速度辊子4、第六辅助辊子26、浮动辊子3、第五辅助辊子25、第四辅助辊子24、第三辅助辊子23、第二辅助辊子22、第一辅助辊子21和卷收辊子1；其中，所述卷送辊子10设在所述滚涂辊子9与所述刮涂棒7之间的上方；所述第八辅助辊子28与滚涂辊子9靠近设置，滚涂辊子9设在所述胶液池8内；
所述第四辅助辊子24、第三辅助辊子23、第二辅助辊子22、第一辅助辊子21组成清洗辊组，其中，所述第二辅助辊子22和第三辅助辊子23设在所述清洗池2内；
所述PET柔性基底6一端绕设在所述卷收辊子1上，该PET柔性基底6另端绕设在所述卷送辊子10上，该PET柔性基底6的中间部分绕经所述滚涂辊子9、胶液池8、第八辅助辊子28、刮涂棒7、平台辊子5、第七辅助辊子27、速度辊子4、第六辅助辊子26、浮动辊子3、第五辅助辊子25、第四辅助辊子24、第三辅助辊子23、清洗池2、第二辅助辊子22和第一辅助辊子21；
所述平台辊子5之间的PET柔性基底6为所述光路系统照射的曝光部位；
旋转位移台，与所述速度辊子4连接，能驱动所述速度辊子4控制所述PET柔性基底的位移量；
所述平台辊子5上设有编码器，与所述旋转位移台通信连接，能向所述旋转位移台发送对所述速度辊子进行反馈控制的编码；
所述卷送辊子10设有磁粉制动器；
所述卷收辊子1经磁粉离合器与步进电机连接，能由所述步进电机驱动转动。
上述辊动曝光装置中，浮动辊子3能上下滑动以与所述卷收辊子1和卷送辊子10配合控制所述PET柔性基底6的张力。
上述辊动曝光装置中，辊送系统的胶液池内设有光敏树脂；
所述辊送系统的清洗池内设有清洗液。
上述辊动曝光装置的光路系统中，
所述照明子系统包括：光源20，其光输出端经光导管19与准直调节器18连接；
所述投影成像系统包括：消色差双胶合透镜15、反射镜12和投影物镜11，所述消色差双胶合透镜15与投影物镜11之间设置所述反射镜12组成4f双远心光路，所述消色差双胶合透镜15的光路经所述反射镜12反射90度后传输至所述投影物镜11；
所述调焦子系统包括：分光棱镜13和CCD14，所述分光棱镜13设在所述投影成像系统的消色差双胶合透镜15与反射镜12之间，所述CCD14设在所述分光棱镜13的光输出通路上；
所述照明子系统的光路经所述DMD数字掩膜17反射后经所述投影成像系统的消色差双胶合透镜15和所述调焦子系统、反射镜12和投影物镜11输出至所述辊送系统辊送的PET柔性基底6的曝光部位上。
本发明实施例还提供一种大面积连续辊动曝光方法，其特征在于，采用上述的大面积连续辊动曝光装置，包括以下步骤：
将待曝光的PET柔性基底设在所述曝光装置的辊送系统的辊送机构上，辊送过程中先在该PET柔性基底上进行涂胶，即涂覆光敏树脂；
将所述曝光装置的光路系统的DMD数字掩膜设为需曝光的一帧图形，利用所述光路系统对所述涂胶后的PET柔性基底进行曝光，曝光后经所述辊送机构移动所述PET柔性基底相应的距离，并切换所述光路系统的DMD数字掩膜为对应的后一帧图形后再对所述涂胶后的PET柔性基底进行再次曝光，重复上述过程直到在所述PET柔性基底上多次曝光的图形拼接后得到完整图形。
上述辊动曝光方法中，曝光后经所述辊送机构移动所述PET柔性基底相应的距离为：
设移动所述PET柔性基底相应的距离为△S，若光敏树脂在所述PET柔性基底上的固化时间为T，一帧图形在投影在所述PET柔性基底上实际成像长度为L，则PET柔性基底每次移位的相应的距离△S＝L/3。
上述辊动曝光方法中，曝光后经所述辊送机构移动所述PET柔性基底相应的距离的控制过程为：首先，所述光路系统的DMD数字掩膜输入一帧图形，经过T/3时间后，DMD数字掩膜全关，PET柔性基底的移动距离△S＝L/3，由辊送机构的旋转控制分辨率为0.00125°的旋转位移台驱动速度辊子控制所述PET柔性基底的位移量。
下面对本发明实施例具体作进一步地详细描述。
为了完成连续无掩膜光刻，如图1所示，该装置分成两部分，包括：光路系统和辊送系统；
其中，辊送系统包括：卷收辊子1、清洗池2、浮动辊子3、速度辊子4、平台辊子5、PET柔性基底6、刮涂棒7、胶液池8、滚涂辊子9、卷送辊子10以及中间的多个辅助辊子；其中，卷收辊子、卷送辊子和速度辊子带动PET柔性基底滚动，卷收辊子与速度辊子均为驱动辊子，且速度辊子带动卷送辊子送卷，卷收辊子不能单独带动所述卷送辊子送卷。卷送辊子1、卷收辊子10和浮动辊子3用于控制PET柔性基底6的张力，速度辊子4和平台辊子5用于控制PET柔性基底6的高精度移位量，速度辊子控制PET柔性基底位移量，它直接由旋转位移台的驱动控制，旋转位移台旋转控制分辨率达到0.00125°。
平台辊子上设置有编码器，能对速度辊子进行反馈控制。两个平台辊子之间为曝光区域，曝光区域设有防止经过该区域内的柔性基底发生侧向移动的侧向移位限定装置。
卷送辊子设有磁粉制动器，卷收辊子由步进电机驱动并与步进电机之间设有磁粉离合器；柔性基底的张力由卷收辊子和卷送辊子以及可以上下滑动的浮动辊子控制。
胶液池里储存光敏树脂，滚涂辊子在PET柔性基底上进行一次滚涂，刮涂棒进行二次刮涂，刮匀胶液和控制胶液厚度；
涂胶模块(胶液池8，滚涂辊子9，第八辅助辊子28，刮涂棒7)用于完成PET柔性基底6上稳定且胶厚可控的胶液涂覆；清洗模块(清洗池2和第一至第四辅助辊子21,22,23,24)用于完成滚印后残胶的清洗工作。
光路系统包括：投影物镜11、反射镜12、分光棱镜13、CCD 14、消色差双胶合透镜15、计算机16、DMD数字掩膜17、准直调节器18、光导管19和光源20；其中，
光源、光导管和准直调节器组成照明子系统，其中光导管起匀光作用，准直调节器调节光的准直性。匀光、准直元件都是封装好的，不会因为在安装或调试的过程中发生变化，相对较稳定。
分光棱镜和CCD组成调焦子系统，其中，分光棱镜放置在DMD和投影物镜之间，曝光光束照射到基底之后，未被吸收的能量将依照光路可逆原理反射回投影物镜，接着被分光棱镜反射进入CCD摄像机；同时，将CCD和DMD调节成相对分光棱镜等光程，这样调焦光路和成像光路就是共轭的，从而使得曝光过程和调焦过程等价。
消色差双胶合透镜与投影物镜组成投影成像子系统，它们组成4f双远心光路，能一定程度消减DMD栅格效应。
假设光敏树脂固化所需时间为T，一帧图形投影在PET柔性基底上长度为L，将图形分成n步曝光，每次曝光时间为T/n，曝光后DMD数字掩膜全关，速度辊子运动L/n(△S)长度(即PET柔性基底向卷收辊子方向运动L/n)，DMD数字掩膜输入后一帧图形再次曝光，刚好能保证图形每一部分曝光时间都为T，实现了多次曝光并将每次曝光的图形准确拼接起来。
图3展示了辊动曝光过程的原理，要曝光一个大面积的图形，先曝光图形边缘的一部分，随后基底移动一段距离△S，DMD数字掩膜也随之切换到相应掩膜图形，再进行曝光，重复这个过程可得到完整图形。
图4展示了曝光两帧图形，DMD数字掩膜的切换过程。PET柔性基底6运动方向如图中箭头所示。设光敏树脂固化时间为T，一帧图形投影在PET柔性基底6上实际成像长度为L，PET柔性基底6每次移位距离△S＝L/3，首先DMD 17输入图形A，经过T/3时间后，DMD 17全关，PET柔性基底6向图示方向移动△S＝L/3，PET柔性基底6位移量由速度辊子4控制，速度辊子4固连在旋转位移台上，旋转位移台旋转控制分辨率达到0.00125°。PET柔性基底6移动完毕后，DMD 17输入图形B，再次重复上述过程，直到曝光完最后一张图片H，曝光完毕。
本发明提供的连续辊动曝光装置不仅设有卷送辊子和卷收辊子，同时还设有速度辊子，其中卷送辊子和卷收辊子仅用于控制柔性基底的张力，卷收辊子与速度辊子均为驱动辊子，但卷收辊子不能单独带动卷送辊子送卷，柔性基底的移送量只由速度辊子控制，也就是说，移位控制辊子不再是卷收辊子，而是另外单独设置的速度辊子，由于柔性基底在输送过程中只是绕经速度辊子，不会卷绕在速度辊子上，因此其辊径始终保持不变，不会随着收卷和放卷的进行而不断变化，故无需加装精密辊径测量传感器，也无需采用复杂的算法进行控制。这样，用相对低成本的方式，即可完成收送卷、涂胶、清洗工艺步骤，高效地实现了高精度柔性基底移位及基底张力控制。光路系统设有匀光、准直环节，对光的均匀稳定性有很大提升，同时设有调焦反馈系统，能完成精准对焦，最关键是曝光过程将一帧图形的一次曝光变为多次曝光，将两帧图形之间拼接的移动过程分为多步，减少了拼接误差，提升了图形的拼接精度，经实验证明获得了很好的滚动拼接效果。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明披露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种大面积连续辊动曝光装置，其特征在于，包括：
辊送系统和光路系统；其中，
所述辊送系统包括：平台、辊送PET柔性基底(6)的辊送机构、胶液池(8)和清洗池(2)，辊送机构、胶液池(8)和清洗池(2)均设在平台上；所述辊送机构包括：设置在该辊送机构前端的卷送辊子(10)，设置在该辊送机构后端的卷收辊子(1)、设置在卷送辊子(10)与卷送辊子(10)之间的速度辊子(4)、设在所述卷送辊子(10)与所述速度辊子(4)之间的滚涂辊子(9)和设在所述速度辊子(4)与所述卷收辊子(1)之间的清洗辊组以及浮动辊子(3)，所述胶液池(8)设在所述辊送机构前端下方，所述滚涂辊子(9)辊送PET柔性基底(6)的路径处于所述胶液池(8)内，所述清洗池(2)设在所述辊送机构后端下方，所述清洗辊组辊送PET柔性基底(6)的路径处于所述清洗池内；
所述光路系统包括：计算机(16)、DMD数字掩膜(17)、照明子系统、调焦子系统和投影成像子系统；所述计算机(16)分别与DMD(17)和调焦子系统通信连接，所述DMD(17)、调焦子系统和投影成像子系统依次设在所述照明子系统的光通路上，所述投影成像子系统的曝光输出端对应照射于所述辊送系统的滚涂辊子(9)辊送后的PET柔性基底(6)的曝光部位上。
2.根据权利要求1所述的大面积连续辊动曝光装置，其特征在于，所述辊送系统的辊送机构包括：
依次间隔横向交错设置的卷送辊子(10)、滚涂辊子(9)、第八辅助辊子(28)、刮涂棒(7)、平台辊子(5)、第七辅助辊子(27)、速度辊子(4)、第六辅助辊子(26)、浮动辊子(3)、第五辅助辊子(25)、第四辅助辊子(24)、第三辅助辊子(23)、第二辅助辊子(22)、第一辅助辊子(21)和卷收辊子(1)；其中，所述卷送辊子(10)设在所述滚涂辊子(9)与所述刮涂棒(7)之间的上方；所述第八辅助辊子(28)与滚涂辊子(9)靠近设置，所述滚涂辊子(9)设在所述胶液池(8)内；
所述第四辅助辊子(24)、第三辅助辊子(23)、第二辅助辊子(22)、第一辅助辊子(21)组成清洗辊组，其中，所述第二辅助辊子(22)和第三辅助辊子(23)设在所述清洗池(2)内；
所述PET柔性基底(6)一端绕设在所述卷收辊子(1)上，该PET柔性基底(6)另端绕设在所述卷送辊子(10)上，该PET柔性基底(6)的中间部分绕经所述滚涂辊子(9)、胶液池(8)、第八辅助辊子(28)、刮涂棒(7)、平台辊子(5)、第七辅助辊子(27)、速度辊子(4)、第六辅助辊子(26)、浮动辊子(3)、第五辅助辊子(25)、第四辅助辊子(24)、第三辅助辊子(23)、清洗池(2)、第二辅助辊子(22)和第一辅助辊子(21)；
所述平台辊子(5)之间的PET柔性基底(6)为所述光路系统照射的曝光部位；
旋转位移台，与所述速度辊子(4)连接，能驱动所述速度辊子(4)控制所述PET柔性基底的位移量；
所述平台辊子(5)上设有编码器，与所述旋转位移台通信连接，能向所述旋转位移台发送对所述速度辊子进行反馈控制的编码；
所述卷送辊子(10)设有磁粉制动器；
所述卷收辊子(1)经磁粉离合器与步进电机连接，能由所述步进电机驱动转动。
3.根据权利要求2所述的大面积连续辊动曝光装置，其特征在于，所述浮动辊子(3)能上下滑动以与所述卷收辊子(1)和卷送辊子(10)配合控制所述PET柔性基底(6)的张力。
4.根据权利要求1至3任一项所述的大面积连续辊动曝光装置，其特征在于，所述辊送系统的胶液池内设有光敏树脂；
所述辊送系统的清洗池内设有清洗液。
5.根据权利要求1至3任一项所述的大面积连续辊动曝光装置，其特征在于，所述光路系统中，
所述照明子系统包括：光源(20)，其光输出端经光导管(19)与准直调节器(18)连接；
所述投影成像系统包括：消色差双胶合透镜(15)、反射镜(12)和投影物镜(11)，所述消色差双胶合透镜(15)与投影物镜(11)之间设置所述反射镜(12)组成4f双远心光路，所述消色差双胶合透镜(15)的光路经所述反射镜(12)反射90度后传输至所述投影物镜(11)；
所述调焦子系统包括：分光棱镜(13)和CCD(14)，所述分光棱镜(13)设在所述投影成像系统的消色差双胶合透镜(15)与反射镜(12)之间，所述CCD(14)设在所述分光棱镜(13)的光输出通路上；
所述照明子系统的光路经所述DMD数字掩膜(17)反射后经所述投影成像系统的消色差双胶合透镜(15)和所述调焦子系统、反射镜(12)和投影物镜(11)输出至所述辊送系统辊送的PET柔性基底(6)的曝光部位上。
6.一种大面积连续辊动曝光方法，其特征在于，采用权利要求1至5任一项所述的大面积连续辊动曝光装置，包括以下步骤：
将待曝光的PET柔性基底设在所述曝光装置的辊送系统的辊送机构上，辊送过程中先在该PET柔性基底上进行涂胶；
将所述曝光装置的光路系统的DMD数字掩膜设为需曝光的一帧图形，利用所述光路系统对所述涂胶后的PET柔性基底进行曝光，曝光后经所述辊送机构移动所述PET柔性基底相应的距离，并切换所述光路系统的DMD数字掩膜为对应的后一帧图形后再对所述涂胶后的PET柔性基底进行再次曝光，重复上述过程直到在所述PET柔性基底上多次曝光的图形拼接后得到完整图形。
7.根据权利要求6所述的大面积连续辊动曝光方法，其特征在于，所述方法中，曝光后经所述辊送机构移动所述PET柔性基底相应的距离为：
设移动所述PET柔性基底相应的距离为△S，若光敏树脂在所述PET柔性基底上的固化时间为T，一帧图形投影在所述PET柔性基底上实际成像长度为L，则PET柔性基底每次移位的相应的距离△S＝L/3。
8.根据权利要求7所述的大面积连续辊动曝光方法，其特征在于，所述方法中，曝光后经所述辊送机构移动所述PET柔性基底相应的距离的控制过程为：首先，所述光路系统的DMD数字掩膜输入一帧图形，经过T/3时间后，DMD数字掩膜全关，PET柔性基底的移动距离△S＝L/3，由辊送机构的旋转控制分辨率为0.00125°的旋转位移台驱动速度辊子控制所述PET柔性基底的位移量。
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