CN107419307A - 一种碱性氰化金的电镀液 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种碱性氰化金的电镀液,包括溶剂水、4‑10g/L的氰化亚金钾、7‑14g/L的络合剂、17‑22g/L的缓冲剂、20‑25g/L的柠檬酸钾、0.1‑0.2g/L的表氯醇或表溴醇以及15‑20g/L导电盐。本发明的金电镀液配方简单,电镀的金薄膜层效果好、均一性高;金沉积的选择性高;工艺条件要求温和,易于实现;降低了电镀金的成本。
Description
技术领域
本发明涉及电镀液,尤其涉及一种金的电镀液。
背景技术
金是一种贵金属,其优良的特性及外观的特殊性,越来越广泛的应用于电子元件和饰品、奖牌、纪念章等领域,由于金较昂贵,所以,在使用时成本会大大提高,为了既能够利用其优良的特性和外观的美观,又可以降低成本,采用电镀金的方式解决了成本高的问题。目前镀金广泛应用于精密仪器仪表、印刷板,集成电路、电子管外壳、电接点等零件,外观为金黄色,延展性好,易抛光,有很好的抗变性能、导电性能,易于焊接,耐高温。例如连接电子装置的电子元件由于其使用性能需要良好的耐腐蚀性、耐磨性和导电性而采用金电镀;如饰品、奖牌、纪念章等等需要具有较好的视觉美感,通常在表面电镀金。
目前,电镀金的电镀液配方较多,但是由于组分和配比的原因,通常会导致电镀液不稳定,电镀的金薄膜性能差,质量低,表面沉积均一性不足,且在有些电子元件和饰品中,需要局部镀金,在镀金部位的选择性上较差。
发明内容
发明目的:本发明提供了一种碱性氰化金的电镀液,该电镀液解决了电镀的金薄膜质量低、均一性不足、选择性差的问题。
技术方案:本发明的碱性氰化金的电镀液,包括溶剂水、4-10g/L的氰化亚金钾、7-14g/L的络合剂、17-22g/L的缓冲剂、20-25g/L的柠檬酸钾、0.1-0.2g/L的表氯醇和/或表溴醇以及15-20g/L导电盐。电镀液中电镀金属的盐的浓度以及强电解质(导电盐)在此范围内时,可以获得均一性较高的金属层;表氯醇和/或表溴醇的添加使金电镀液的长期稳定性得到了提高,而且金沉积的选择性高,可以限制到需要金的区域。
所述络合剂为氰化钠和/或氰化钾。
为维持镀液的pH值变化不大,所述缓冲剂为碳酸氢钾、碳酸氢钠和磷酸氢二钾中的一种或几种。
为提高镀电导率,降低镀液的阴极化作用,所述导电盐为钠盐和/或钾盐。
为改善金镀层的性能,所述电镀液中还包括光亮剂、整平剂和润湿剂中的一种或几种。
所述光亮剂为丁炔二醇、苄亚基丙酮和糖精中的一种或几种,其中电镀液中光亮剂的浓度为0.07-0.12g/L。
所述整平剂四氢噻唑硫酮、亚乙基硫脲和噻二唑嗡盐结构单元的聚合物中的一种或几种,其中电镀液中整平剂的浓度为0.07-0.12g/L。
所述润湿剂为K-1 2十二烷基硫酸钠、OP-10和AEO乳化剂中的一种或几种,其中电镀液中润湿剂的浓度为0.07-0.12g/L。
所述电镀液中温度为60-65℃,pH为9-11,阴极电流密度为0.05-0.09A/dm2。
有益效果:1、本发明的金电镀液配方简单,电镀的金薄膜层效果好、均一性高;2、金沉积的选择性高;3、工艺条件要求温和,易于实现;4、降低了电镀金的成本。
具体实施方式
实施例1
首先,配制碱性氰化金的电镀液,其中电镀液中氰化亚金钾4g/L、氰化钠7g/L、碳酸氢钾17g/L、柠檬酸钾20g/L、表氯醇0.1g/L、氯化钠15g/L、光亮剂丁炔二醇0.07g/L,水为溶剂。
然后,在温度为60℃,pH为9,阴极电流密度为0.05A/dm2的条件下,将镀件置于电镀液中。
电镀完毕后,取出镀件,其表面金属层均一性好,光亮度高。
实施例2
首先,配制碱性氰化金的电镀液,其中电镀液中氰化亚金钾10g/L、氰化钾14g/L、碳酸氢钠22g/L、柠檬酸钾25g/L、表溴醇0.2g/L、硝酸钾20g/L、整平剂亚乙基硫脲0.12g/L,水为溶剂。
然后,在温度为65℃,pH为11,阴极电流密度为0.09A/dm2的条件下,将已经局部涂布绝缘涂料的纪念章置于电镀液中。
电镀完毕后,取出纪念章,其表面金属层均一性好,平整度高,且金的沉积位置准确,沉积到未涂布绝缘材料的部分。
实施例3
首先,配制碱性氰化金的电镀液,其中电镀液氰化亚金钾7g/L、氰化钾10g/L、磷酸氢二钾20g/L、柠檬酸钾22g/L、表溴醇0.14g/L、硝酸钾17g/L、整平剂四氢噻唑硫酮0.1g/L、光亮剂苄亚基丙酮0.11g/L,水为溶剂;在温度为63℃,pH为10,阴极电流密度为0.07A/dm2的条件下,将已经局部涂布绝缘涂料的纪念章置于电镀液中。电镀完毕后,取出纪念章,其表面金属层均一性好,平整度高,且金的沉积位置准确。
Claims (9)
1.一种碱性氰化金的电镀液,其特征在于:包括溶剂水、4-10g/L的氰化亚金钾、7-14g/L的络合剂、17-22g/L的缓冲剂、20-25g/L的柠檬酸钾、0.1-0.2g/L的表氯醇或表溴醇以及15-20g/L导电盐。
2.根据权利要求1所述的碱性氰化金的电镀液,其特征在于:所述络合剂为氰化钠和/或氰化钾。
3.根据权利要求1所述的碱性氰化金的电镀液,其特征在于:所述缓冲剂为碳酸氢钾、碳酸氢钠和磷酸氢二钾中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的碱性氰化金的电镀液,其特征在于:所述导电盐为钠盐和/或钾盐。
5.根据权利要求1所述的碱性氰化金的电镀液,其特征在于:所述电镀液中还包括光亮剂、整平剂和润湿剂中的一种或几种。
6.根据权利要求5所述的碱性氰化金的电镀液,其特征在于:所述光亮剂为丁炔二醇、苄亚基丙酮和糖精中的一种或几种,其中电镀液中光亮剂的浓度为0.07-0.12g/L。
7.根据权利要求5所述的碱性氰化金的电镀液,其特征在于:所述整平剂四氢噻唑硫酮、亚乙基硫脲和噻二唑嗡盐结构单元的聚合物中的一种或几种,其中电镀液中整平剂的浓度为0.07-0.12g/L。
8. 根据权利要求5所述的碱性氰化金的电镀液,其特征在于:所述润湿剂为K-1 2十二烷基硫酸钠、OP-10和AEO乳化剂中的一种或几种,其中电镀液中润湿剂的浓度为0.07-0.12g/L。
9.根据权利要求1所述的碱性氰化金的电镀液,其特征在于:所述电镀液中温度为60-65℃,pH为9-11,阴极电流密度为0.05-0.09A/dm2。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024140976A1 (zh) * | 2022-12-29 | 2024-07-04 | 华为技术有限公司 | 电镀金镀液及其应用 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT382898B (de) * | 1983-09-09 | 1987-04-27 | Videoton Elekt Vallalat | Verfahren zur herstellung einer glaenzenden, kobalt legiert enthaltenden hartgoldplattierung auf galvanischem weg |
CN1497069A (zh) * | 2002-06-03 | 2004-05-19 | 希普雷公司 | 匀平剂化合物 |
CN101629310A (zh) * | 2008-07-14 | 2010-01-20 | 深圳市百泰珠宝首饰有限公司 | 电铸液配方及电铸液制备方法及电铸液的工艺控制条件 |
CN102011154A (zh) * | 2010-12-15 | 2011-04-13 | 秦雅军 | 一种用于镀线路板金手指的电镀金液 |
CN102560572A (zh) * | 2010-11-25 | 2012-07-11 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 金电镀液 |
TW201333275A (zh) * | 2011-10-06 | 2013-08-16 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | 選擇性硬金沉積 |
CN106319587A (zh) * | 2015-06-30 | 2017-01-11 | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 | 用于金和金合金的表面处理溶液 |
-
2017
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT382898B (de) * | 1983-09-09 | 1987-04-27 | Videoton Elekt Vallalat | Verfahren zur herstellung einer glaenzenden, kobalt legiert enthaltenden hartgoldplattierung auf galvanischem weg |
CN1497069A (zh) * | 2002-06-03 | 2004-05-19 | 希普雷公司 | 匀平剂化合物 |
CN101629310A (zh) * | 2008-07-14 | 2010-01-20 | 深圳市百泰珠宝首饰有限公司 | 电铸液配方及电铸液制备方法及电铸液的工艺控制条件 |
CN102560572A (zh) * | 2010-11-25 | 2012-07-11 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 金电镀液 |
CN102011154A (zh) * | 2010-12-15 | 2011-04-13 | 秦雅军 | 一种用于镀线路板金手指的电镀金液 |
TW201333275A (zh) * | 2011-10-06 | 2013-08-16 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | 選擇性硬金沉積 |
CN106319587A (zh) * | 2015-06-30 | 2017-01-11 | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 | 用于金和金合金的表面处理溶液 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
张胜涛: "《电镀实用技术》", 30 November 2011 * |
张胜涛等: "《电镀工程》", 31 May 2002 * |
祝新伟: "《压力管道腐蚀与防护》", 31 July 2015 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024140976A1 (zh) * | 2022-12-29 | 2024-07-04 | 华为技术有限公司 | 电镀金镀液及其应用 |
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