CN107367909A - 曝光机 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种曝光机，曝光腔室外设有包围光源灯室和照明系镜组的透明防护罩，为所述光源灯室和照明系镜组提供了一隔离外部环境即洁净室内空气的空间，且所述透明防护罩与第一气体输送管道连接并相通，所述第一气体输送管道向所述透明防护罩内输送气体从而对所述光源灯室和照明系镜组进行冷却处理，能够避免现有技术直接抽取洁净室内空气对光源灯室和照明系镜组进行冷却而造成曝光腔室外镜片雾化的问题，使所述光源灯室和照明系镜组的镜片可以得到保护，进而可节省售价非常昂贵的高压汞灯或镜片，有效降低了生产成本。

Description

曝光机
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光机。
背景技术
在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
在LCD和OLED的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置掩模，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压汞灯发出UV紫外光线，将掩模上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于掩模的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶)，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶)，从而使光刻胶形成所需的图形。
构图工艺通常在无尘的洁净室内进行，即曝光机放置于洁净室中对基板进行曝光。所述曝光机的构架通常主要包括光源灯室(Lamp House)、设于光源灯室上与光源灯室相连接的照明系镜组、设于光源灯室及照明系镜组下方具有构图图案的掩模、设于掩模下方的投影光学镜组、及设于投影光学镜组下方用于承载基板的工作台，另外为了保证曝光环境便于调节，曝光机还通常会采用密封的曝光腔体设计，其中，掩模、投影光学镜组、及工作台设置于曝光腔体内，该曝光腔体内通过整体送风方式来控制曝光环境的温度、湿度、以及洁净度等，而高压汞灯作为光源在工作时的温度高达400℃，为避免对曝光环境产生影响，包含高压汞灯的光源灯室、及设于光源灯室上的照明系镜组便设置于曝光腔体之外，那么为了保证局部工作环境温度的可控性，防止局部工作环境温度过高，曝光腔体外的所述光源灯室、及照明系镜组也会配有独立的冷却降温装置，通常是在光源灯室的基座上设置抽气装置，其通过抽取洁净室内的空气对所述光源灯室进行吹风而降温。
然而在曝光过程中，由于基板上的光刻胶会产生挥发性气体，因此洁净室内的有机物、酸、碱等挥发性气体的浓度会随着制程的进行而上升，而所述光源灯室、及照明系镜组又是通过抽取洁净室内的空气而进行冷却的，当这些有机物、酸、碱的挥发性气体遇见光源灯室的用于保护高压汞灯并进行聚光的灯罩、及灯罩上照明系镜组的这些镜片时，便会产生盐类而附着于镜片上，从而造成灯罩、及照明系镜片出现雾化现象。
进一步地，当曝光机的灯罩及照明系镜组的镜片出现雾化现象时，镜片的透光率会下降，曝光机的照度也会下降，当曝光机照度下降就会影响产能，如果要维持相同照度而不影响产能，便需要提高高压汞灯的出力值，这就会造成高压汞灯寿命缩短，由于高压汞灯单价很高，这就会进一步造成生产成本提高，或者是更换受雾化的镜片，这同样也会增加生产成本，而如果要保持整个洁净室的空气乾净，则所需的生产成本更是巨大。目前一些厂家所用的方案是从工厂外接经过化学滤网过滤后的气体，直接供给曝光机腔体使用，但此方案并无法保护曝光腔体外的灯罩、及照明系镜片。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光机，曝光腔室外设有包围光源灯室和照明系镜组的透明防护罩，能够改善光源灯室和照明系镜组的镜片雾化问题，进而可节省售价非常昂贵的高压汞灯或镜片，降低生产成本。
为实现上述目的，本发明提供一种曝光机，包括曝光腔室、以及设置于所述曝光腔室外的光源灯室、照明系镜组、及透明防护罩；
所述透明防护罩包围所述光源灯室和照明系镜组，为所述光源灯室和照明系镜组提供一隔离外部环境的空间；
所述透明防护罩与第一气体输送管道连接并相通，所述第一气体输送管道向所述透明防护罩内输送气体从而对所述光源灯室和照明系镜组进行冷却处理。
所述透明防护罩的材料为防静电材料且不含有硅元素。
所述透明防护罩的材料为聚氯乙烯。
所述透明防护罩的形状为长方体形。
所述第一气体输送管道向所述透明防护罩内输送的气体为经过过滤处理后的气体。
所述光源灯室上设有第一抽气装置，所述第一抽气装置抽取所述第一气体输送管道向所述透明防护罩内输送的气体对所述光源灯室和照明系镜组进行冷却处理。
所述光源灯室包括高压汞灯、及罩设于所述高压汞灯上的透明灯罩；
所述照明系镜组设置于所述曝光腔室和光源灯室之间并与所述光源灯室相连接；
其中，所述光源灯室和照明系镜组共同用于提供一光束。
所述的曝光机，为投影式曝光机，所述曝光腔室内设有掩模、设于所述掩模下方的投影光学镜组、及设于所述投影光学镜组下方的用于承载基板的工作台；
其中，所述掩模具有图案信息，所述投影光学镜组用于产生包含该图案信息的出射光对其下方的承载于工作台上的基板进行曝光。
所述曝光腔室与第二气体输送管道连接并相通，所述第二气体输送管道向所述曝光腔室内输送气体从而对所述曝光腔室内进行冷却处理。
所述曝光腔室内设有第二抽气装置，所述第二抽气装置抽取第二气体输送管道向所述曝光腔室内输送的气体对所述曝光腔室内进行冷却处理。
本发明的有益效果：本发明曝光机的曝光腔室外设有包围光源灯室和照明系镜组的透明防护罩，为所述光源灯室和照明系镜组提供了一隔离外部环境即洁净室内空气的空间，且所述透明防护罩与第一气体输送管道连接并相通，所述第一气体输送管道向所述透明防护罩内输送气体从而对所述光源灯室和照明系镜组进行冷却处理，能够避免现有技术直接抽取洁净室内空气对光源灯室和照明系镜组进行冷却而造成曝光腔室外镜片雾化的问题，使所述光源灯室和照明系镜组的镜片可以得到保护，进而可节省售价非常昂贵的高压汞灯或镜片，有效降低了生产成本。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1为本发明的曝光机的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种曝光机，包括曝光腔室190、以及设置于所述曝光腔室190外的光源灯室110、照明系镜组120、及透明防护罩180；
所述透明防护罩180包围所述光源灯室110和照明系镜组120，为所述光源灯室110和照明系镜组120提供一隔离外部环境的空间；
所述透明防护罩180与第一气体输送管道170连接并相通，所述第一气体输送管道170向所述透明防护罩180内输送气体从而对所述光源灯室110和照明系镜组120进行冷却处理。
本发明的曝光机通过设置包围光源灯室110和照明系镜组120的透明防护罩180，为所述光源灯室110和照明系镜组120提供了一隔离外部环境即洁净室内空气的空间，且所述透明防护罩180与第一气体输送管道170连接并相通，所述第一气体输送管道170向所述透明防护罩180内输送气体从而对所述光源灯室110和照明系镜组120进行冷却处理，能够避免现有技术直接抽取洁净室内空气对光源灯室110和照明系镜组120进行冷却而造成曝光腔室外的镜片雾化的问题，使所述光源灯室110和照明系镜组120的镜片可以得到保护，进而可节省售价非常昂贵的高压汞灯或镜片，有效降低了生产成本。
具体地，所述透明防护罩180的材料为防静电材料，并由于含硅的化合物很容易释放出硅化物跟NH4+结合产生盐类而附著在光源灯室110和照明系镜组120的镜片上，因此所述透明防护罩180禁止使用含有硅元素的材料。
优选地，所述透明防护罩180的材料为聚氯乙烯(PVC)。
具体地，所述透明防护罩180的大小及形状能够包围所述光源灯室110和照明系镜组120即可，进一步地，所述透明防护罩180的形状为长方体形。
具体地，所述第一气体输送管道170向所述透明防护罩180内输送的气体为经过过滤处理后的气体，从而保证对所述光源灯室110和照明系镜组120进行冷却处理的气体为干净的气体。
具体地，所述光源灯室110上设有第一抽气装置111，所述第一抽气装置111抽取所述第一气体输送管道170向所述透明防护罩180内输送的气体对所述光源灯室110和照明系镜组120进行冷却处理。
具体地，所述光源灯室110包括高压汞灯112、及罩设于所述高压汞灯112上的透明灯罩113。
具体地，所述照明系镜组120设置于所述曝光腔室190和光源灯室110之间并与所述光源灯室110相连接。
具体地，所述的曝光机为投影式曝光机，所述曝光腔室190内设有掩模130、设于所述掩模130下方的投影光学镜组140、及设于所述投影光学镜组140下方的用于承载基板的工作台150；
所述的曝光机中，所述光源灯室110和照明系镜组120共同用于提供一光束，所述掩模130具有图案信息，所述投影光学镜组140用于产生包含该图案信息的出射光对其下方的承载于工作台150上的基板进行曝光。
具体地，所述曝光腔室190与第二气体输送管道160连接并相通，所述第二气体输送管道160向所述曝光腔室190内输送气体从而对所述曝光腔室190内进行冷却处理。
具体地，所述曝光腔室190内设有第二抽气装置191，所述第二抽气装置抽取第二气体输送管道160向所述曝光腔室190内输送的气体对所述曝光腔室190内进行冷却处理。
进一步地，所述第二气体输送管道160向所述曝光腔室190内输送气体也为经过过滤处理后的气体，即曝光腔室190内的机构和曝光腔室190外的光源灯室110和照明系镜组120都是通过抽取干净的气体进行冷却，从而使得所述曝光机内的所有的镜片都可以得到完整保护，有效降低了生产成本。
综上所述，本发明的曝光机的曝光腔室外设有包围光源灯室和照明系镜组的透明防护罩，为所述光源灯室和照明系镜组提供了一隔离外部环境即洁净室内空气的空间，且所述透明防护罩与第一气体输送管道连接并相通，所述第一气体输送管道向所述透明防护罩内输送气体从而对所述光源灯室和照明系镜组进行冷却处理，能够避免现有技术直接抽取洁净室内空气对光源灯室和照明系镜组进行冷却而造成曝光腔室外镜片雾化的问题，使所述光源灯室和照明系镜组的镜片可以得到完整保护，进而可节省售价非常昂贵的高压汞灯或镜片，有效降低了生产成本。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种曝光机，其特征在于，包括曝光腔室(190)、以及设置于所述曝光腔室(190)外的光源灯室(110)、照明系镜组(120)、及透明防护罩(180)；
所述透明防护罩(180)包围所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)，为所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)提供一隔离外部环境的空间；
所述透明防护罩(180)与第一气体输送管道(170)连接并相通，所述第一气体输送管道(170)向所述透明防护罩(180)内输送气体从而对所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)进行冷却处理。
2.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述透明防护罩(180)的材料为防静电材料且不含有硅元素。
3.如权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述透明防护罩(180)的材料为聚氯乙烯。
4.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述透明防护罩(180)的形状为长方体形。
5.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述第一气体输送管道(170)向所述透明防护罩(180)内输送的气体为经过过滤处理后的气体。
6.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述光源灯室(110)上设有第一抽气装置(111)，所述第一抽气装置(111)抽取所述第一气体输送管道(170)向所述透明防护罩(180)内输送的气体对所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)进行冷却处理。
7.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述光源灯室(110)包括高压汞灯(112)、及罩设于所述高压汞灯(112)上的透明灯罩(113)；
所述照明系镜组(120)设置于所述曝光腔室(190)和光源灯室(110)之间并与所述光源灯室(110)相连接；
其中，所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)共同用于提供一光束。
8.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，为投影式曝光机，所述曝光腔室(190)内设有掩模(130)、设于所述掩模(130)下方的投影光学镜组(140)、及设于所述投影光学镜组(140)下方的用于承载基板的工作台(150)；
其中，所述掩模(130)具有图案信息，所述投影光学镜组(140)用于产生包含该图案信息的出射光对其下方的承载于工作台(150)上的基板进行曝光。
9.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述曝光腔室(190)与第二气体输送管道(160)连接并相通，所述第二气体输送管道(160)向所述曝光腔室(190)内输送气体从而对所述曝光腔室(190)内进行冷却处理。
10.如权利要求9所述的曝光机，其特征在于，所述曝光腔室(190)内设有第二抽气装置，所述第二抽气装置抽取第二气体输送管道(160)向所述曝光腔室(190)内输送的气体对所述曝光腔室(190)内进行冷却处理。
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