CN107340616A - 水膜发生装置及显影机、清洗机 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种水膜发生装置，包括喷嘴，所述喷嘴包括基座、与基座可拆卸地连接的前盖，所述基座与前盖之间密封连接，所述基座的下端面上设有狭缝状的喷孔，在基座上设有进水孔，所述基座与前盖相对的一侧表面设有凹槽，凹槽与喷孔以及进水孔连通。本发明还提供了一种显影机以及清洗机，包括所述的水膜发生装置。本发明与现有技术相比，采用基座与可拆卸的前盖，两者密封连接并在基座的下端面设有狭缝状的喷孔，使得能够保持水膜完整性，可拆卸的结构实现了在堵塞时容易清理，喷孔为狭缝状加工成本低。

Description

水膜发生装置及显影机、清洗机

技术领域

本发明涉及一种显示面板技术，特别是一种水膜发生装置及显影机、清洗机。

背景技术

液晶面板行业发展越来越迅速，尤其在中小尺寸面板产业(如LCD(液晶显示器)/LTPS(低温多晶硅技术))，由于行业竞争愈加激烈，新技术、新工艺、新设备面临的挑战和创造显得尤为关键。

现阶段湿法设备作为工艺制程中重要的环节，无论是能够满足生产中要求的特性值(CD)接近设计的水准，还是对产品品质(异物、Mura(斑马纹)等)的提升，是每个液晶面板工厂最为重视的。

目前无论是清洗机还是显影机这类湿法设备，大体的设备结构都以定型，而且从成本角度出发，大多数细小的缺陷不会被作为采购中的一个指标，但是往往一些设备简单的设计可能无法真正应用到大的生产线中，制程未涂布前的表面是否有异物，怎样防止这些异物，或者制程后的湿膜怎样保证其膜面的完整性和良好的外观性等问题。

LCD/LTPS中CF(彩色滤光片)工艺，其工艺生产中使用的主要湿法类设备清洗机和显影机。其中最广泛的湿法设备A/K单元(风刀干燥单元)前为了防止CDA(干净压缩气体)直接对玻璃或制程膜层造成损伤，会加装水膜发生装置，即水膜的喷嘴，使膜层表面覆上一层水膜，水膜的完整性和均一性就显得尤其重要；而为了加工和组装的方便，设备设计者往往对此机构忽略，往往是设计为孔，靠水的压力形成水柱，但如果孔堵塞或水压突变就容易造成水膜被破坏或均一性受到影响；清洗机一般就会因此形成斜纹Mura(斑马纹)或水残Mura，显影机造成斜纹Mura或水残，残渣等缺陷。

一般CF工艺(主制程)产线结构如下：基板投入-清洗装置-涂布装置-真空干燥-预烘烤装置-曝光装置-显影装置-烘烤装置-基板产出。

洗净装置(清洗机)和显影装置(显影机)的A/K单元(风刀干燥单元)的水膜发生装置结构为一根长管，在管体的两端分别接进水管道以及出水管道，管体的管体壁上设有一排喷孔。

此装置最重要的作用是对膜层或基板表面形成一层保护性水膜，禁止风刀吹的气体对膜面或基板表面造成不必要的Mura或影响膜面的瑕疵(如水残，光阻残留等)。当基板通过风刀前，其形成的水膜均一性比较差，且出水量受压力影响较明显，时而会出现水膜断掉或不完整的情形，容易对高精细产品的膜面造成不良，从而降低了产品的良率。

发明内容

为克服现有技术的不足，本发明提供一种水膜发生装置及显影机、清洗机，使得能够保证水膜的完整性，而且方便清理堵塞。

本发明提供了一种水膜发生装置，包括喷嘴，所述喷嘴包括基座、与基座可拆卸地连接的前盖，所述基座与前盖之间密封连接，所述基座的下端面上设有狭缝状的喷孔，在基座上设有进水孔，所述基座与前盖相对的一侧表面设有凹槽，凹槽与喷孔以及进水孔连通。

进一步地，所述基座的高度小于前盖的高度，基座的上端面与前盖的上端面对齐设置，所述前盖的下端延伸至基座的下端面外形成导向部。

进一步地，所述凹槽设有多个，进水孔以及喷孔均匀每个凹槽连通。

进一步地，所述基座与前盖相对的一侧表面上设有第一螺孔，在前盖上与基座相对的一侧表面上设有第二螺孔，第二螺孔与第一螺孔的位置相对应，基座与前盖通过螺丝与第一螺孔、第二螺孔螺纹连接固定。

进一步地，所述第一螺孔位于凹槽的上方。

进一步地，所述基座与前盖均为条状。

进一步地，所述基座和前盖的下端面均为斜面。

进一步地，所述喷孔沿喷嘴本体的长度方向设置。

本发明还提供了一种显影机，包括所述的水膜发生装置。

本发明还提供了一种清洗机，包括所述的水膜发生装置。

本发明与现有技术相比，采用基座与可拆卸的前盖，两者密封连接并在基座的下端面设有狭缝状的喷孔，使得能够保持水膜完整性，可拆卸的结构实现了在堵塞时容易清理，喷孔为狭缝状加工成本低。

附图说明

图1是本发明的喷嘴的外部结构示意图；

图2是本发明的第一种基座的外部结构示意图；

图3是本发明喷嘴的剖视图；

图4是本发明的第二种基座的外部结构示意图；

图5是本发明水膜发生装置安装在清洗机中的位置关系图；

图6是本发明水膜发生装置安装在显影机中的位置关系图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。

如图1、图2和图3所示，本发明的水膜发生装置包括喷嘴1，所述喷嘴1包括基座2、与基座2可拆卸地连接的前盖3，所述基座2与前盖3之间密封连接，所述基座2的下端面上设有狭缝状的喷孔4，在基座2上设有进水孔21，所述基座2与前盖3相对的一侧表面上设有内凹的凹槽22，凹槽22分别与进水孔21和喷孔4连通，当基座2与前盖3紧密连接后，前盖3与基座2相对的一面和凹槽22共同形成一供水流过的流道，从而保证了水喷出时的完整性；具体地，基座2和前盖3均为条状，两者平行设置，所述喷孔4设于基座2的下端面与前盖3接合的位置处，喷孔4沿基座2的长度方向设置；在基座2与前盖3相对的的一侧表面上还设有通道24，通道24连接进水孔21与凹槽22，喷嘴1通过将纯水软管与进水孔21连接，使水进入凹槽22中并从喷孔4中喷出；凹槽22的深度可以与喷孔4的宽度相等，从而保证出水的流畅性，但本发明不限于此，还可以采用喷孔4的宽度小于凹槽22的深度，喷孔4与凹槽22之间的槽壁为斜面，从而对水进行引导；基座2与前盖3之间的密封可通过密封胶的方式进行，在此不作具体限定；本发明的改进之处在于喷嘴1本身，而水膜发生装置的其余部分均未发生改变。

本发明中进水孔21设于基座2左右两端的其中一端上，相应地，通道24也设于与进水孔21相对的一侧上，通道24与进水孔21相邻的一侧进入基座2的内部后与进水孔21相连。

如图1所示，基座2以及前盖3的下端面均为斜面，具体地，基座2的下端面为从基座2背离前盖3的一侧面朝面向前盖3的一侧面高度依次递减，基座2的截面形状为一直角梯形；前盖3的下端面为从前盖3背离基座2的一侧面朝面向基座2的一侧面高度依次递减，前盖3的截面形状为直角梯形，两者相互结合后，下端面的截面形状为锥状。

如图1和图3所示，为了保证喷出的水的方向性，在本发明中，基座2的高度小于前盖3的高度，两者的设置如下，基座2的上端面与前盖3的上端面对齐，使得前盖3的下端延伸至基座2的下端面外形成导向部31，而喷孔4则贴合在前盖3面向基座2的一侧表面上，通过这样的结构，可以保证出水的方向性，从而防止流体飞溅至风刀。

如图4所示，凹槽22还可以设有多个，沿基座2的长度方向排布，通道24设于凹槽22的上方，通道24上设有与凹槽24数量相同的分支25，从而使通过进水孔21进入通道24中的水能够分别被引导至每个凹槽24中，从而再通过喷孔4喷出。

如图1、图2和图3所示，前盖3与基座2的连接方式采用可靠性较高的螺丝进行固定，具体地，基座2与前盖3相对的一侧表面上设有第一螺孔23，在前盖3上与基座2相对的一侧表面上设有第二螺孔32，第二螺孔32与第一螺孔23的位置相对应，基座2与前盖3通过螺丝与第一螺孔23、第二螺孔32螺纹连接固定，采用这种连接方式，能够便于拆卸，从而在喷孔4堵塞或者发生分叉时容易处理；具体地，在第一种基座结构中第一螺孔23设于凹槽22的上方，而第二种基座结构中，第一螺孔23设于通道24的上方。

在本发明中，前盖3和基座2两者相对的一侧表面为光滑的表面，从而降低对水的阻力。

如图5所示，本发明还公开了一种清洗机，包括上述的水膜发生装置，在此不再赘述，喷嘴1的设置位置与基板的传送方向垂直设置，而风刀5与喷嘴1之间的夹角为30度，前盖3与风刀5相对。

如图6所示，本发明进一步公开了一种显影机，包括上述的水膜发生装置，在此不再赘述，喷嘴1的设置与风刀5平行，而其与基板的传送方向的夹角为30度，前盖3与风刀5相对。

本发明除出了具有良好的清晰性之外，保持水膜更完整，且水膜均一性更佳，可以很大程度上弥补通常结构受压力的影响。其主要优点除上述所述，还具有以下优点：

可拆卸结构加工成本低；

通过螺丝固定，出水缝隙精度可保证，一定程度上最大化保护光阻膜层品质或基板表面品质；

此种水膜发生装置的结构方向性良好，可防止流体飞溅至AK；

若发生分叉、堵塞容易处理。

虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。

Claims (10)

1.一种水膜发生装置，其特征在于：包括喷嘴(1)，所述喷嘴(1)包括基座(2)、与基座(2)可拆卸地连接的前盖(3)，所述基座(2)与前盖(3)之间密封连接，所述基座(2)的下端面上设有狭缝状的喷孔(4)，在基座(2)上设有进水孔(21)，所述基座(2)与前盖(3)相对的一侧表面设有凹槽(22)，凹槽(22)与喷孔(4)以及进水孔(21)连通。

2.根据权利要求1所述的水膜发生装置，其特征在于：所述基座(2)的高度小于前盖(3)的高度，基座(2)的上端面与前盖(3)的上端面对齐设置，所述前盖(3)的下端延伸至基座(2)的下端面外形成导向部(31)。

3.根据权利要求1所述的水膜发生装置，其特征在于：所述凹槽(22)设有多个，进水孔(21)以及喷孔(4)均匀每个凹槽(22)连通。

4.根据权利要求1所述的水膜发生装置，其特征在于：所述基座(2)与前盖(3)相对的一侧表面上设有第一螺孔(23)，在前盖(3)上与基座(2)相对的一侧表面上设有第二螺孔(32)，第二螺孔(32)与第一螺孔(23)的位置相对应，基座(2)与前盖(3)通过螺丝与第一螺孔(23)、第二螺孔(32)螺纹连接固定。

5.根据权利要求4所述的水膜发生装置，其特征在于：所述第一螺孔(23)位于凹槽(22)的上方。

6.根据权利要求1所述的水膜发生装置，其特征在于：所述基座(2)与前盖(3)均为条状。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的水膜发生装置，其特征在于：所述基座(2)和前盖(3)的下端面均为斜面。

8.根据权利要求6所述的水膜发生装置，其特征在于：所述喷孔(4)沿喷嘴本体(1)的长度方向设置。

9.一种显影机，其特征在于：包括如权利要求1-8任意一项所述的水膜发生装置。

10.一种清洗机，其特征在于：包括如权利要求1-8任意一项所述的水膜发生装置。