CN107290894A - Coa型液晶显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明揭露一种COA型液晶显示面板及其制作方法，通过在蓝色子像素光刻胶膜偏厚的位置设置具有凹凸结构的钝化层，使该区域蓝光发生散射，从而达到色度均匀化的目的，提高了产品的色彩表现，提高了产品良率及优化了产品结构。

Description

COA型液晶显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其是涉及一种COA型液晶显示面板及其制作方法。
背景技术
液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。如：液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
通常液晶显示装置包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示面板)的结构主要是由一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT阵列基板)、一彩色滤光片(Color Filter，CF)基板、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。其中，TFT阵列基板上制备有TFT阵列，用于驱动液晶的旋转，控制每个像素的显示；而彩色滤光片基板上设有彩色滤光层，用于形成每个像素的色彩。彩色滤光层由红色子像素(Red)、绿色子像素(Green)、及蓝色子像素(Blue)交替排列组成，目前一般采用光刻胶进行制作。
因为光刻胶的流平性问题，导致实际制作中出现子像素的图形呈现凹形(bowlshape)，凹陷的幅度超过0.5um，导致子像素中心位置和边缘位置色度差异过大，大于0.004，规格为±0.002，导致产品色彩表现不佳。
因此，需要对现有液晶显示面板的彩色滤光层设计方式进行改进，以提高产品的色彩表现，提高产品良率及优化产品结构。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种COA型液晶显示面板及其制作方法，可以提高产品的色彩表现，提高产品良率及优化产品结构。
为实现上述目的，本发明提供了一种COA型液晶显示面板，包括TFT阵列基板；所述TFT阵列基板包括：TFT阵列层、设置在所述TFT阵列层上的彩色滤光层、设置在所述彩色滤光层上的钝化层以及设置在所述钝化层上的像素电极层；所述彩色滤光层包括依次连接的多个色阻单元，所述多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，形成红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素，蓝色子像素在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度大于蓝色子像素的其它区域的光刻胶膜厚度；所述钝化层在对应蓝色子像素与相邻子像素交汇处区域上方的位置设置凹凸结构。
为实现上述目的，本发明提供了一种COA型液晶显示面板的制作方法，所述方法包括以下步骤：提供一第一衬底基板，在所述第一衬底基板上形成TFT阵列层；在所述TFT阵列层上形成依次连接的多个色阻单元，得到彩色滤光层，所述多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，形成红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素，蓝色子像素在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度大于蓝色子像素的其它区域的光刻胶膜厚度；在所述彩色滤光层上形成钝化层，在所述钝化层上对应蓝色子像素与相邻子像素交汇处区域上方的位置形成凹凸结构；在所述钝化层上形成像素电极层。
本发明的优点在于，通过在蓝色子像素光刻胶膜偏厚的位置设置具有凹凸结构的钝化层，使该区域蓝光发生散射，从而达到色度均匀化的目的，提高了产品的色彩表现，提高了产品良率及优化了产品结构。
附图说明
图1，本发明所述的COA型液晶显示面板第一实施例的剖面结构示意图；
图2，本发明所述的COA型液晶显示面板第二实施例的剖面结构示意图；
图3，本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法的流程图；
图4，本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法步骤一的示意图；
图5，本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法步骤二的示意图；
图6，本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法步骤三的示意图；
图7，本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法中钝化层对应的掩膜板俯视图；
图8为图7所示掩膜板部分透光区域剖面图；
图9为图7所示掩膜板灰阶透光区域剖面图；
图10，本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法步骤四的示意图。
具体实施方式
下面结合附图以及实施例，对本发明提供的COA型液晶显示面板及其制作方法作详细说明。显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
COA(Color filter On Array)技术是一种将彩色滤光片基板上的色阻层制备于TFT阵列基板上的技术，即将彩色滤光层与TFT阵列层设置在同侧。COA结构因减小了像素电极与金属走线的耦合，金属线上信号的延迟状况得到改善。COA结构可明显减小寄生电容大小，并提高面板开口率，改善面板显示品质。
参考图图1，本发明所述的COA型液晶显示面板第一实施例的剖面结构示意图。所述的COA型液晶显示面板包括TFT阵列基板10，所述TFT阵列基板10包括：TFT阵列层11、设置在所述TFT阵列层11上的彩色滤光层12、设置在所述彩色滤光层12上的钝化层13以及设置在所述钝化层13上的像素电极层14。所述彩色滤光层12包括依次连接的多个色阻单元，所述多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，形成红色子像素121、绿色子像素122以及蓝色子像素123，蓝色子像素123在与相邻子像素交汇处区域1231的光刻胶膜厚度大于蓝色子像素123的其它区域1232的光刻胶膜厚度；所述钝化层13在对应蓝色子像素123与相邻子像素交汇处区域1231上方的位置设置凹凸结构131。
所述彩色滤光层12(也即RGB光刻胶层)的多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，但顺序不做限定。蓝色子像素123在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度比蓝色子像素123的其它区域的光刻胶膜厚度偏厚；具体的，蓝色子像素123在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度比蓝色子像素123的其它区域的光刻胶膜偏厚0.3～0.5um。
本发明的COA型液晶显示面板中钝化层13的材料采用可溶性聚四氟乙烯(PFA，Poly fluoro alkoxy)。所述钝化层13在对应蓝色子像素123与相邻子像素交汇处区域上方的位置设置凹凸结构131，也即，在蓝色子像素两侧的上方位置所对应的钝化层13上分别设置凹凸结构131，使该区域蓝光发生散射，从而达到色度均匀化的目的。具体的，COA型液晶显示面板TFT阵列基板侧的钝化层13上对应蓝色子像素与相邻子像素交汇处区域边缘区域上方位置(如图所示A位置)对应于COA型液晶显示面板彩膜基板侧(未示于图上)的黑色矩阵层(BM)区域，故而不会影响相邻子像素；钝化层13上对应蓝色子像素靠近中间区域上方位置(如图所示B位置)散射的光会增加钝化层13上对应蓝色子像素中间区域上方位置(如图所示C位置)的色度，从而达到色度均匀化的目的。所述凹凸结构131区域的宽度为所述蓝色子像素123宽度的1/5～1/4。在本实施例中，所述凹凸结构131为锯齿形，在其它实施例中所述凹凸结构131还可以为半圆形或其它形状。
参考图2，本发明所述的COA型液晶显示面板第二实施例的剖面结构示意图；与图1所示实施例的不同之处在于，在本实施例中，所述凹凸结构131为半圆形。
本发明所述的COA型液晶显示面板，通过在蓝色子像素光刻胶膜偏厚的位置设置具有凹凸结构的钝化层，提高了产品的色彩表现，提高了产品良率及优化了产品结构。
请一并参考图3-6以及图10，其中，图3为本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法的流程图；图4为本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法步骤一的示意图；图5为本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法步骤二的示意图；图6为本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法步骤三的示意图；图10为本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法步骤四的示意图。
如图3所示，本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法包括如下步骤：S31：步骤一、提供一第一衬底基板，在所述第一衬底基板上形成TFT阵列层；S32：步骤二、在所述TFT阵列层上形成依次连接的多个色阻单元，得到彩色滤光层，所述多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，形成红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素，蓝色子像素在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度大于蓝色子像素的其它区域的光刻胶膜厚度；S33：步骤三、在所述彩色滤光层上形成钝化层，在所述钝化层上对应蓝色子像素与相邻子像素交汇处区域上方的位置形成凹凸结构；S34：步骤四、在所述钝化层上形成像素电极层；以下给出详细解释。
步骤一、如图4所示，提供一第一衬底基板，在所述第一衬底基板上形成TFT阵列层11。
具体地，通过成膜→黄光→蚀刻等一系列制程依次在第一衬底基板上形成TFT阵列层11的各层，制作方法采用现有公知技术，此处不再赘述。
步骤二、如图5所示，在所述TFT阵列层11上形成依次连接的多个色阻单元，得到彩色滤光层12；所述多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，形成红色子像素121、绿色子像素122以及蓝色子像素123，蓝色子像素123在与相邻子像素交汇处区域1231的光刻胶膜厚度大于蓝色子像素123的其它区域1232的光刻胶膜厚度。
具体地，通过黄光制程，在所述TFT阵列层上形成依次形成RGB光刻胶层(红色、绿色、蓝色)，得到彩色滤光层12。
所述彩色滤光层12(也即RGB光刻胶层)的多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，但顺序不做限定。蓝色子像素123在与相邻子像素交汇处区域1231的光刻胶膜厚度比蓝色子像素123的其它区域1232的光刻胶膜厚度偏厚；具体的，蓝色子像素123在与相邻子像素交汇处区域1231的光刻胶膜厚度比蓝色子像素123的其它区域1232的光刻胶膜偏厚0.3～0.5um。
步骤三、如图6所示，在所述彩色滤光层12上形成钝化层13，在所述钝化层13上对应蓝色子像素123与相邻子像素交汇处区域上方的位置形成凹凸结构131。
请一并参考图7-9，其中，图7为本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法中钝化层对应的掩膜板俯视图；图8为图7所示掩膜板部分透光区域剖面图；图9为图7所示掩膜板灰阶透光区域剖面图。所述掩膜板71的部分透光区域711包括上层的半透光涂层81和下层的石英基板82。所述掩膜板71的灰阶透光区域712包括上层的线状结构91和下层的石英基板92。具体地，通过黄光制程，在所述彩色滤光层12上形成钝化层13；使用图7所示具有部分透光区域711和灰阶透光区域712的掩膜板71，在所述钝化层13上对应蓝色子像素123与相邻子像素交汇处区域上方的位置形成凹凸结构131。所述掩膜板71采用Gray-tone(灰色调)掩膜板。
本发明的COA型液晶显示面板中钝化层13的材料采用可溶性聚四氟乙烯(PFA)。所述钝化层13在对应蓝色子像素123与相邻子像素交汇处区域上方的位置设置凹凸结构131，也即，在蓝色子像素两侧的上方位置所对应的钝化层13上分别设置凹凸结构131，使该区域蓝光发生散射，从而达到色度均匀化的目的。所述凹凸结构131区域的宽度为所述蓝色子像素123宽度的1/5～1/4。在本实施例中，所形成的凹凸结构131为锯齿形，在其它实施例中所述凹凸结构131还可以为半圆形或其它形状。
步骤四、如图10所示，在所述钝化层13上形成像素电极层14。
具体地，通过成膜→黄光→蚀刻制成形成像素电极层14。
至此，作为TFT阵列基板的COA型液晶显示面板下基板已制作完毕，之后，提供上基板，将所述下基板与上基板对组，并在所述下基板和上基板之间注入液晶，形成液晶层，即完成整个COA型液晶显示面板的制作，此为现有公知技术，此处不再赘述。具体地，所提供的上基板至少包括：黑色矩阵层以及设置在黑色矩阵层上的公共电极层。
本发明所述的COA型液晶显示面板的制作方法，通过在蓝色子像素光刻胶膜偏厚的位置设置具有凹凸结构的钝化层，提高了产品的色彩表现，提高了产品良率及优化了产品结构。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种COA型液晶显示面板，包括TFT阵列基板；其特征在于，
所述TFT阵列基板包括：TFT阵列层、设置在所述TFT阵列层上的彩色滤光层、设置在所述彩色滤光层上的钝化层以及设置在所述钝化层上的像素电极层；
所述彩色滤光层包括依次连接的多个色阻单元，所述多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，形成红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素，蓝色子像素在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度大于蓝色子像素的其它区域的光刻胶膜厚度；
所述钝化层在对应蓝色子像素与相邻子像素交汇处区域上方的位置设置凹凸结构。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述蓝色子像素在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度比蓝色子像素的其它区域的光刻胶膜厚度厚0.3～0.5um。
3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述钝化层的材料为可溶性聚四氟乙烯。
4.权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹凸结构区域的宽度为所述蓝色子像素宽度的1/5～1/4。
5.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹凸结构为锯齿形或半圆形。
6.一种COA型液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
提供一第一衬底基板，在所述第一衬底基板上形成TFT阵列层；
在所述TFT阵列层上形成依次连接的多个色阻单元，得到彩色滤光层，所述多个色阻单元分别填充红色光刻胶、绿色光刻胶以及蓝色光刻胶，形成红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素，蓝色子像素在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度大于蓝色子像素的其它区域的光刻胶膜厚度；
在所述彩色滤光层上形成钝化层，在所述钝化层上对应蓝色子像素与相邻子像素交汇处区域上方的位置形成凹凸结构；
在所述钝化层上形成像素电极层。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述蓝色子像素在与相邻子像素交汇处区域的光刻胶膜厚度比蓝色子像素的其它区域的光刻胶膜厚度厚0.3～0.5um。
8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述钝化层的材料为可溶性聚四氟乙烯。
9.如权利要求6所述的方法，其特征在于，使用具有部分透光区域和灰阶透光区域的掩膜板，在所述钝化层上对应蓝色子像素与相邻子像素交汇处区域上方的位置形成凹凸结构。
10.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述凹凸结构区域的宽度为所述蓝色子像素宽度的1/5～1/4。
11.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述凹凸结构为锯齿形或半圆形。
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