CN107251243A - 使用反向发射led和反射衬底的亮度图案成形 - Google Patents

Abstract

一种发光结构包括安装在反射衬底上的封装的反向发射发光设备。可以控制反射表面的属性以提供期望的亮度图案。以这种方式，提供期望的亮度图案的发光结构的创建可以独立于封装的发光设备的提供者。

Description

使用反向发射LED和反射衬底的亮度图案成形

技术领域

本发明涉及发光设备的领域，并且特别涉及一种使用反向发射发光设备和反射衬底来促进获得期望的光发射图案的发光结构。

背景技术

随着技术的进步，半导体发光设备正用于各种各样的应用中，包括家庭照明、区域照明、车辆照明等。在这些应用内，可能期望特定的亮度图案以优化所提供的光照的效率或有效性。

常规发光设备的光照（发光强度、亮度图案）一般地相对于发射表面的法线是朗伯式的（Lambertian）。在提供非朗伯式的期望光照的发光结构的创建中，光学元件用于将朗伯亮度图案转换成所期望的亮度图案。

例如，“手电筒”应用可以采用将朗伯亮度准直成具有窄射束宽度的亮度图案的菲涅尔透镜，从而在与透镜正交的方向上集中光。

在诸如头灯的汽车应用中，细长的亮度图案可能是合意的，使得亮度图案在一个维度上（跨越道路）具有稍微宽的射束宽度，并且其他维度（在道路上方）上具有窄的射束宽度。图1A图示“花生形状”光学透镜14的横截面轮廓，如2008年3月4日颁发给Amano等人且通过引用并入本文的USP 7,339,200“LIGHT-EMITTING DIODE AND VEHICULAR LAMP”中所公开。在纵向方向上，该透镜包括凹透镜段C1的任一侧上的两个凸透镜段C2。透镜段的这种组合用来分散由LED 110发射的光，并且提供图1B的亮度图案150，该亮度图案具有与发光表面的法线偏离给定角度的两个峰。光学透镜14相对于LED 110的位置的各种尺度确定了这些峰的位置（偏离法线的角度）和大小，以及垂直于发光表面的“谷”中亮度的大小。

尽管成型或以其它方式形成创建期望亮度图案的光学透镜的成本可能是微少的，但是半导体发光设备领域中渐增的竞争压力通常要求在任何可行的情况下降低成本。

此外，为了成本有效性和其它考虑，期望的光学透镜的形成一般在制造发光结构的“封装”阶段期间执行，从而要求发光结构的制造者参与创建提供期望的亮度图案的透镜。

发明内容

将有利的是，提供一种发光结构，该发光结构允许在不使用光学透镜的情况下创建期望的亮度图案。还将有利的是，允许作为‘后封装’过程创建期望亮度图案的创建，从而允许由封装的发光设备的购买者定制亮度图案。

为了更好地解决这些关切中的一个或多个，在本发明的一个实施例中，发光结构包括安装在反射衬底上的封装的发光设备，其中反射表面的属性可以被控制以提供期望的亮度图案。以这种方式，提供期望亮度图案的发光结构的创建可以独立于封装的发光设备的提供者。

封装的发光设备可以是提供包括可观的侧发射的亮度图案的发光设备，该亮度图案包括与法线偏离超过九十度的角度（即朝向衬底）的向上和向后亮度强度分量两者，使得反射衬底的属性可用于以期望的方式影响该亮度。

示例反向发射发光设备包括具有发光表面的发光元件、具有与该发光表面相对的反射表面的反射器、以及将反射表面与发光表面分离的间隔物元件。间隔物元件提供反射表面与发光表面之间的分离距离，使得从设备发射的光的大约一半或更多以与发光表面的法线成大于90度的角度朝向反射器发射。在实施例中，分离距离在500和1000um之间。

反射衬底的面积可以比发光设备的面积大至少一个数量级，并且可以是基本上漫反射的、镜面反射的或二者的组合。在一个示例实施例中，发光设备可以被位于漫反射衬底上的镜面反射块环绕。反射衬底还可以包括耦合到发光元件的导体。

附图说明

本发明参考附图更详细地且以示例方式进行解释，在附图中：

图1A-1B图示示例现有技术的发光结构，其使用光学元件成形所发射的光来提供期望的亮度图案。

图2A-2C图示示例现有技术的PSS-CSP（图案化蓝宝石衬底芯片级封装）及其亮度图案。

图3A-3C图示具有亮度图案的示例发光设备，该亮度图案包括偏离法线超过九十度的角度的可观的亮度强度。

图4A-4B图示包括镜面反射衬底的示例发光结构及其亮度图案。

图5A-5B图示包括漫反射衬底的示例发光结构及其亮度图案。

图6A-6B图示具有反射衬底的示例发光结构及其亮度图案，该反射衬底具有漫反射区域和镜面反射区域。

图7A-7B图示具有反射衬底的另一示例发光结构及其亮度图案，该反射衬底具有漫反射区域和镜面反射区域。

图8A-8C图示具有安装在反射中介物上的发光设备的示例发光结构及其亮度图案，该反射中介物安装在漫反射衬底上。

图9图示上述发光结构的亮度图案的极坐标图。

图10图示具有亮度图案的另一示例发光设备，该亮度图案包括偏离法线超过九十度的角度的可观的亮度强度。

图11-13图示衬底上的其它示例反射图案。

贯穿附图，相同的附图标记指示相似或对应的特征或功能。为了说明的目的而包括附图，并且附图不旨在限制本发明的范围。

具体实施方式

在下面的描述中，为了解释而非限制的目的，阐述了具体细节，诸如特定架构、接口、技术等，以便提供对本发明的概念的透彻理解。然而，将对本领域技术人员显而易见的是，本发明可以在脱离这些具体细节的其它实施例中实践。以相似的方式，此描述的文本涉及附图中图示的示例实施例，并且不旨在超出权利要求中明确包括的界限而限制要求保护的发明。出于简明和清楚的目的，省略了公知的设备、电路和方法的详细描述，以便不被不必要的细节模糊本发明的描述。

图2A-2C图示示例现有技术PSS-CSP（图案化蓝宝石衬底芯片级封装）发光设备200及其亮度图案。图2A-2B的设备200包括具有发光表面215的芯片级发光元件210，以及在该发光表面215上的可选的波长转换层220。一些光可以从发光元件210的侧面218发射，并且波长转换层220还可以包围这些侧面218。发光元件210上的接触部212A和212B提供到发光元件210的外部连接。

可以提供透明保护层230以包围发光元件210和可选的波长转换层220。光将从保护层230的顶表面235以及从保护层230的侧表面238发射。在该示例实施例中，保护层230是250um厚的蓝宝石结构，但是可以使用诸如硅树脂之类的其它透明材料。

法线260被限定为侧面235的平面的法线。角P 265从法线260测量。法线270被限定为侧面238的平面的法线。典型地，法线260与法线270之间的角度为90度。角A 275是从法线270到设备上的两个闭合拐角中的一个测量的角度，即对于矩形形状的设备而言为45度。

图2C中图示两个示例亮度图案250、250'，其中从法线起+/-180度图示在水平轴上。亮度图案250是针对零度的固定方位角270的有角度光输出分布的横截面，其作为极坐标或从表面235的法线260测量的仰角P 265（图2A）的函数。也就是说，该图示出了当角P265在平行于侧面238的平面中从+180至-180扫描时的亮度。固定方位角270被限定为垂直于表面238（或等效地通过对称垂直于任何其它侧表面）的角度。亮度图案250'是针对相对于表面238（等效地，如利用对称性朝向设备的每个拐角观察的）45度的固定方位角A 275的有角度光输出分布的横截面。

可以看到，大多数光在相应表面的法线的大约+/- 60º内发射。如上面提到的，尽管该发射图案可能适合于许多应用，但是存在要求明显不同的发射图案的应用，诸如图1B的多波瓣辐射图，其中波瓣的大小和位置（发射角）和波瓣之间的谷的大小可以针对不同应用而变化。

侧发射发光设备在本领域中是常见的，其中亮度波瓣优选地以与发光元件的发光表面的法线成90º定位。各自通过引用并入本文的2009年12月1日颁发给Shchekin等人的USP 7,626,210 “LOW PROFILE SIDE EMITTING LED”以及2014年6月17日颁发给Bierhuizen等人的USP 8,755,005“THIN EDGE BACKLIGHT WITH LEDS OPTICALLY COUPLEDTO THE BACK SURFACE”公开了包含夹在发光元件和漫反射器之间的波导的侧发射LED。光在光导内反射，直到其最终从波导的侧边缘逃逸。

根据本发明的一方面，类似的结构用于创建反向发射发光设备。当该术语在本文中使用时，反向发射发光设备是一种设备，在该设备中所发射的光的至少一半在所发射的光的方向上以与发光源的发光表面的法线成大于90度的角度来发射。

图3A-3B图示具有亮度图案的示例反向发射发光设备300，该亮度图案包括偏离法线超过九十度的角度的可观的亮度强度。

发光设备300包括发光元件310，其在该实施例中类似于图2B的PSS-CSP发光元件210。然而，本领域技术人员将认识到，发光元件310的特定结构对于本发明不是重要的，并且可以使用任何合适的发光结构。

发光元件310可以是“直接颜色”（包括蓝色、绿色、黄色、UV、红色、深红色等）发光元件，并且/或者可以包括可选的波长转换层320以发射不同颜色的光。漫反射器340位于发光元件310的正上方，通过相对厚的透明间隔物元件330而与发光元件310分离。在一个示例中，发光元件的厚度301大约为250um，并且波长转换层320大约为75um厚，并且透明间隔大约为500-1000um。典型地，发光元件厚度301与透明间隔厚度302之间的比率介于2:1和4:1之间。

发光元件310在其上生长的衬底，或者发光元件310结合在其上的衬底可以形成间隔物元件310，并且可以是例如蓝宝石衬底。在示例实施例中，衬底/间隔物330可以包括凹槽，发光元件310在该凹槽内生长，或者发光元件310结合在该凹槽内。如果衬底/间隔物330不包括凹槽，则诸如硅树脂层之类的保护材料可以位于发光元件310的周界的周围。该保护材料可以是反射性的，以朝向衬底/间隔物330引导光。

发光设备300的结构提供诸如在图3C中所图示的亮度图案350、350'。图案350是如依照设备300的壁表面的法线270观察到的亮度图案，并且图案350'是如以朝向设备300的拐角的角A 275观察到的亮度图案。

为了易于呈现和理解，关于亮度图案的后续细节将讨论如从壁表面的法线270观察到的亮度图案，但是将图示两种亮度图案。也就是说，以“无撇号的”数字350、450、550、650、750、850标识的图案是从法线270观察到的亮度图案，而以“带撇号的”数字350'、450'、550'、650'、750'、850'标识的图案是从朝向设备300的拐角的角A 275观察到的亮度图案。

特别注意的是，发光设备300以与发光元件的发光表面315的法线成大于90°的角度提供可观的亮度。这是由于下述事实：尽管漫反射器340以各种角度反射光，但是几乎所有这些角度都处于“向下”方向上（即朝向发光表面315的平面），并且间隔物元件330足够高以使得大量的反射光能够直接离开间隔物元件330，而没有在设备300内的进一步反射。间隔物层330的外壁可以被粗糙化以增强通过这些壁的光提取。

在角度+/-90º处的亮度主要是来自发光元件301的从间隔物层的外壁直接逃逸的光，或来自漫反射器340的在间隔器元件330内反射并且在“向上”方向朝着外壁重定向的光。

漫反射器340可以是提供至少95%反射率和5%透射率的TiOx层。100um的TiOx厚度可以提供至少99%的反射率，透射率小于1%。如果期望垂直于发光表面315的附加亮度，则可以使用更薄的层或不同的材料。

设备300的反向发射亮度图案350提供了使用发光设备300安装于其上的衬底（未示出）的反射特性来将发射成形为针对每个特定应用的期望亮度图案的机会。

图4A-4B图示包括镜面反射衬底410的示例发光结构400。照度图案450、450'是发光结构400的输出。示例衬底410是发光设备300的至少五倍大，优选比发光设备300大一个数量级。在本文的示例中，发光设备300大约为1mm x 1mm，并且衬底410大约为25mm x25mm。在示例结构400中，除了发光设备300下方的1.5mm x 1.5mm的面积（未示出）之外，使用例如抛光至接近“镜面光洁度”的银的薄层，衬底410的整个表面积是镜面反射的。还可以使用其它材料，诸如金属膜、箔、铝-或银-铝-基、或有机-DBR基镜片（例如3M ESR）。提供1mmx 1mm的设备300下方的1.5mm x 1.5mm的面积，以将设备300与衬底410的表面上的镜面反射材料电气绝缘。该绝缘/暴露的面积可以被最小化以增加镜面反射面积。可以使用诸如白色焊接掩模（WSM）材料之类的非传导性反射材料，以覆盖设备300周界的周围的暴露区域。

结构400包括25mm x 25mm镜面光洁度反射衬底，其具有在反向发射设备300周围的1.5mm x 1.5mm的漫反射WSM面积。在该示例中，并且在每一个下面的示例中，设备300的反射表面340（图3B）提供95%的反射率和5%的透射率。如上面提到的，反向发射设备300提供与发光元件的发光表面315的法线成大于90º的角度的可观的亮度（图3C）。因此，反射衬底410在远离衬底410的平面的“向上”方向上接收并反射可观的亮度。结构400提供图4B的示例亮度图案450、450'。如可以看到的，结构400表现出强的侧发射，FWHM（半最大值全宽度）为约30º至90º（460-470）。0º处（垂直于发光表面）的亮度490，大约为最大亮度480（在70º附近）的15%。

重要的是注意到：在没有离散的光学透镜（诸如提供了图1B的多波瓣亮度图案150的图1A的透镜14）的情况下已实现了该多波瓣亮度图案450。

如上面提到的，不同的应用可能要求不同的亮度图案。通过控制衬底的反射特性，可以改变亮度图案的形状。

图5A-5B图示示例发光结构500及其亮度图案550、550'，示例发光结构500包括安装在25mm x 25mm的衬底510上的发光设备300，衬底510涂覆有诸如WSM之类的漫反射材料。

包括25mm x 25mm的WSM漫反射衬底和反向发射设备300的结构500提供图5B的示例亮度图案550、550'。（如在图4B中，亮度图案550具有超过+/-90º的最小发射。该亮度图案550和后续的亮度图案仅图示+/-90º内的发射）。如可以看到的，结构500也表现出侧发射，但是亮度图案550、550'的形状基本上是“圆形的”，并且比由图4A的结构400产生的亮度图案450、450'明显更小地达到峰值。

由结构500产生的亮度图案550表现出-90º至90º的FWHM（560-570）。0º处（垂直于发光表面）的亮度590为在大约50º处的最大亮度580的大约80%。

如可以看到的，相比于当设备300位于镜面反射衬底410上时产生的图案450、450'，当设备300位于漫反射衬底510上时反向发射设备300产生明显不同的亮度图案550、550'。

重要的是注意到，这些不同的亮度图案450、550（450'，550'）通过控制同一个发光设备300周围的衬底410、510的反射特性来产生。因此，包括反射衬底和设备300的发光结构的每个提供者可以提供期望的亮度图案，而不必与设备300的提供者交互，并且不必创建诸如图1A中图示的专用光学透镜。

为了在镜面反射结构400与漫反射结构500之间获得期望的亮度图案，可以使用镜面和漫反射率的混合。

图6A-6B图示示例发光结构600及其亮度图案650、650'，该示例发光结构600具有安装在具有漫反射区域620和镜面反射区域630的反射衬底610上的反向发射发光设备300。如在示例结构600中，1.5mm x 1.5mm的区域（未图示）围绕1mm x 1mm的设备300以将设备300与镜面反射区域630隔离，并且可以包括诸如WSM之类的漫反射材料。漫反射区域620延伸到衬底610的周界，并且镜面反射区域630是10mm直径的圆形镜面区域。

图6B图示由结构600提供的示例亮度图案650、650'。与亮度图案450和550相反，由结构600产生的亮度图案650表现出大约30º至90º的FWHM（660-670）。0º处（垂直于发光表面）的亮度690是在大约60º处的最大亮度680的大约25%。

图7A图示具有反射衬底710的示例发光结构700，反射衬底710具有漫反射区域720、镜面反射区域730和由1.5mm x 1.5mm的漫反射区域（未图示）围绕的反向发射设备300。漫反射区域720延伸到衬底710的周界，并且镜面反射区域730是5mm直径的圆形镜面区域。

图7B图示由结构700提供的示例亮度图案750、750'。与亮度图案450、550、650相反，由结构700产生的亮度图案750表现出大约20º至90º的FWHM（760-770）。0º处（垂直于发光表面）的亮度790是在大约60º处的最大亮度780的大约35%。

有鉴于本公开内容，对于本领域技术人员而言，用于创建期望亮度图案的衬底上的反射区域的其它组合和布置将是显然的。

图8A-8C图示具有安装在反射中介物830上的发光设备300的示例发光结构800，及其亮度图案850、850'。图8A示出该布置的顶视图，而图8B示出侧视图。

反射中介物830安装在衬底810上。衬底810的安装表面包括一些或全部的安装表面之上的漫反射涂层820。在该示例中，反射中介物830具有约3.5mm x 3.5mm的镜面反射表面，并且可以是大约600mm厚的银涂覆的陶瓷块。

图8C图示由图8A的结构提供的示例亮度图案850。与亮度图案450、550、650、750相反，由结构800产生的亮度图案850表现出大约5º至90º的FWHM（860-870）。0º处（垂直于发光表面）的亮度890是在大约55º处的最大亮度880的大约40%。

如上面详述的，反向发射发光设备300位于其上的反射表面的选择在不使用次级光学器件的情况下提供了具有不同特性的亮度图案。

图9图示亮度图案550、650、750和850的极坐标图。图9还包括具有朗伯图案的常规发光设备的亮度图案960的极坐标图，以及位于诸如图8A-8B的中介物830之类的反射中介物上的常规发光设备的亮度图案950的极坐标图。

如可以看到的，将常规发光设备置于反射中介物上提供了亮度图案950，与朗伯图案960相比，亮度图案950具有法向方向上的减小的发射和来自侧面的增加的发射。然而，图案950没有表现出图案650、750和850的可观的旁瓣。

使反向发射设备300位于漫反射器上提供了亮度图案550，与位于反射中介物上的常规发光设备的亮度图案950相比，该亮度图案550具有更多的侧发射，但是大量的光也在法线方向上发射。

结构600、700和800的镜面反射器提供了显著的旁瓣，其在法线方向上具有减少的发射。从亮度图案750和650可以看出，增加镜面反射材料的面积（分别为5mm的圆、10mm的圆）增加了旁瓣强度，并且减少了法线方向上的发射。这是由于下述事实：从反向发射设备300发射的光“向下”并“远离”反向发射设备300发射。以距反向发射设备渐增的距离冲击镜面反射器的光以渐减的浅角度（逐渐远离法线）冲击反射器，并且因此以这些渐减的浅角度反射。相反，如果光以浅角度冲击漫反射器，则仅一部分的光将以浅角度反射。

除了通过控制镜面反射的面积来控制亮度图案之外，漫反射和镜面反射表面的几何结构还改变了亮度图案的整体形状，如由漫反射器之上的提高的镜面反射器的亮度图案850所图示的。

本领域技术人员还将认识到，不同的结构可用于创建反向发射发光设备，该反向发射发光设备具有相对于它安装于其上的反射衬底的不同发射特性以及对应地不同的反射特性。

图10图示反向发射发光设备1000的另一示例。发光设备1000包括发光元件1010，其可以类似于图2A的发光元件210。可选的波长转换层1020可以覆盖发光元件1010。“过大的”反射器1040位于发光元件1010之上，通过透明层1030与发光元件1010分离。

反射器1040被图示为是发光元件1010的宽度的大约三倍，但是可以使用其它尺寸，这取决于期望的来自发光设备1000的亮度图案。

透明层1030被图示为比反射器1040更窄，创建反射器1040的悬出区域1045。本领域技术人员将认识到，透明层1030可以与透明层1040的尺寸相同，再次取决于来自发光设备1000的期望的亮度图案。

反射器1040可以是漫反射或镜面反射的，并且在一些实施例中，可以使用漫反射区域和镜面反射区域的组合。例如，发光元件1010正上方的区域可以是漫反射的，其具有可以通过控制用于形成该漫反射区域的材料的厚度或组分而控制的透射率。超出发光元件1010的范围的区域1045可以是镜面反射或漫反射的，其各自从发光设备1000提供不同的亮度图案。

在上述实施例的每一个中，图示了发光元件下方的衬底上的对称反射图案，一般产生对称的亮度图案。然而，如上面提到的，一些应用要求相对于轴的不对称亮度图案。图11-12图示产生细长亮度图案的衬底上的示例反射图案。

在图11中，椭圆形镜面反射区域1130位于衬底1110上的漫反射区域1120的中心。较长轴平面中的亮度图案可能显得类似于图6B的亮度图案（宽镜面区域），而在较短轴中可能显得类似于图7B的亮度图案（较窄的镜面区域）。

在图12中，镜面反射条1230平分衬底1210上的漫反射区域1220。在较长的维度中，亮度图案可能显得类似于图4B，而在较短的维度中，亮度图案可能显得类似于图8C。

在图13中，衬底1310包括漫反射区域1320和镜面反射条1330，镜面反射条1330距衬底1310的中心更远地增加宽度，这可以补偿在较长维度中随着距发光设备300的距离的增加而减少的亮度。

用于实现期望的亮度图案的这些和其它图案也是可行的，并且有鉴于本公开内容，对于本领域技术人员而言将是显然的。

虽然已经使用具有与发光元件相对的单个反射表面的设备公开和图示了本发明，但是本领域技术人员将认识到，可以提供附加的反射表面以进一步成形光发射图案。

也就是说，在所提供的示例中，光发射图案关于垂直轴对称，并且在每个维度中类似。另一方面，如果设备的两个相对的侧面是反射性的，则一个维度中的光发射图案将如图4B、5B、6B、7B和8C中所图示的那样，但是在另一个维度中被截断。如果两个反射侧面相邻，则两个维度中的光发射图案相对于法线将是不对称的。如果设备的三个侧面是反射性的，则光发射图案将被限于一个象限并且在其它三个象限中被截断。

虽然已经在附图和前面的描述中详细地图示和描述了本发明，但是这样的图示和描述被认为是说明性的或示例性的而非限制性的；本发明不限于所公开的实施例。

例如，可能的是，在发光设备300中的反射层340是镜面反射而不是漫反射的实施例中操作本发明。在这样的实施例中，二色性滤光器可以位于发光元件310与透明层330之间，使得来自发光元件310的光可以透射通过该滤光器，而从反射层340反射的光朝向反射层340往回反射并且不在发光元件310中被吸收。

同样地，也可以应用用于改进光输出效率的其它技术。例如，透明层330的侧壁可被粗糙化或纹理化以改进光输出效率。在一些实施例中，透明层330的侧面被成形，以便增加或减少从发光设备300反向发射的光的量。

类似地，尽管公开了其中1.5mm x 1.5mm的面积围绕1mm x 1mm的发光设备以将发光设备与潜在传导的镜面反射区域绝缘的本发明，但本领域技术人员将认识到，可以使用其它绝缘技术以允许发光设备周围的整个表面是镜面反射的，或者可以使用非传导镜面反射材料。

同样地，尽管示例实施例中的透明层330被配置成围绕发光元件310的周界，但是本领域技术人员将认识到，透明层330（和可选的波长转换材料320）不需要延伸超出发光元件310的范围。在这样的实施例中，可以是反射性的保护材料可以围绕发光元件310的周界。

通过研究附图、公开内容和所附权利要求，本领域技术人员在实践要求保护的本发明时，可以理解和实现所公开实施例的其它变型。权利要求中，词语“包括/包含”不排除其它元素或步骤，并且不定冠词“一”不排除复数。在互不相同的从属权利要求中列举某些措施的纯粹事实并不表示不能有利地使用这些措施的组合。权利要求中的任何附图标记不应当被解释为限制范围。

Claims (15)

1.一种发光设备，包括：

具有发光表面的发光元件，

具有与所述发光表面相对的反射表面的反射器，以及

将所述反射表面与所述发光表面分离的间隔物元件，

其中间隔物元件在所述反射表面与所述发光表面之间提供分离距离，使得从所述设备发射的光的至少一半以与发光表面的法线成大于90度的角度朝向反射器发射。

2.权利要求1的设备，其中所述反射表面是基本上漫反射的。

3.权利要求1的设备，进一步包括位于所述发光元件和所述反射器之间的波长转换层。

4.权利要求1的设备，其中所述分离距离是至少500um。

5.权利要求1的设备，其中所述间隔物元件的外壁被粗糙化以促进从所述间隔物元件的光提取。

6.权利要求1的设备，进一步包括反射衬底，该反射衬底是所述反射器的至少五倍大。

7.权利要求6的设备，其中所述反射衬底比所述反射器大至少一个数量级。

8.权利要求6的设备，其中所述反射衬底是基本上漫反射的。

9.权利要求6的设备，其中所述反射衬底包括基本上镜面反射的区域。

10.权利要求6的设备，进一步包括在所述反射衬底与所述发光设备之间的镜面反射块。

11.权利要求1的设备，其中所述间隔物元件的至少一个侧壁是反射性的。

12.一种发光结构，包括：

衬底，以及

位于所述衬底上的反向发射发光设备，

其中所述衬底包括围绕发光设备的反射表面，所述反射表面的面积比所述发光设备的面积大至少一个数量级。

13.权利要求12的结构，其中所述反射表面是基本上漫反射的。

14.权利要求13的结构，其中所述反射表面包括基本上镜面反射的区域。

15.权利要求12的结构，其中所述反射表面是基本上镜面反射的。