CN107189694A - 一种适用于amoled玻璃基板的抛光液 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈4‑10份、硅溶胶16‑34份、pH调节剂7‑9份、胶体溶液15‑22份、表面活性剂5‑12份、低聚肽6‑11份、去离子水35‑54份。本发明制备的抛光液利用率高，降低了生产成本，同时减小了抛光液废液对环境的污染；本发明抛光液抛光玻璃基板的材料去除率高，抛光后玻璃表面无明显划痕，表面粗糙度比抛光前有所降低；本发明的抛光浆液有效最小化在基板表面上的通过高灵敏度缺陷探测仪可控测到的尺寸的缺陷，并且具有延长的抛光寿命，该抛光浆液不仅对质量改善的抛光基板的制造有效，并且从环境负荷和成本方面看也是有益的。
Description
技术领域
本发明涉及AMOLED技术领域，具体涉及一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液。
背景技术
平板液晶显示技术是21世纪发展最迅猛的高新技术领域之一。玻璃基板只占AMOLED原材料成本比重的6％左右，但却是最重要的元件，对显示器的性能影响十分巨大，显示器的分辨率、透光率、重量及视角等关键指标都与玻璃基板密切相关。在使用AMOLED平面显示技术的消费性IT产品中，轻、薄是两大主要核心竞争要素。为了达到轻薄诉求，普遍采用缩减玻璃基板厚度，以同时达到减少厚度与重量的目的。
目前AMOLED玻璃基板的减薄工艺主要有两种：一种是化学蚀刻，另一种是物理研磨。化学蚀刻需使用强酸，成本较高，若不进行有效合理的处理回收，则对环境的危害很大，而且薄化后基板表面质量较难控制，仍需后续抛光处理。由于AMOLED玻璃基板表面质量和加工精度要求高，热稳定性高，耐化学腐蚀性好，表面和内部缺陷少，适宜的热膨胀系数，轻质高强度等，给表面的超精密加工提出了严峻的挑战，传统的硬脆晶元体基片超精密加工工艺无法满足AMOLED玻璃基板表面的规模化生产要求。
发明内容
本发明旨在提供了一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液。
本发明提供如下技术方案：
一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈4-10份、硅溶胶16-34份、pH调节剂7-9份、胶体溶液15-22份、表面活性剂5-12份、低聚肽6-11份、去离子水35-54份。
一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液的制备方法，包括以下步骤：
(1)取氧化铈，加入去离子水混合并不断搅拌，直至溶液没有沉淀；
(2)向步骤(1)所得产物中加入硅溶胶、胶体溶液和低聚肽，边加入边搅拌，直至溶液无絮状物；
(3)向步骤(2)所得产物中加入pH调节剂和去离子水，加入pH调节剂调节溶液pH为8-11；
(4)向步骤(3)所得产物中加入表面活性剂，持续搅拌，使表面活性剂充分溶解，再超声分散25-35min，即得本抛光液。
所述pH调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
所述胶体溶液是胶体二氧化硅水分散液。
所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明制备的抛光液利用率高，降低了生产成本，同时减小了抛光液废液对环境的污染；本发明抛光液抛光玻璃基板的材料去除率高，抛光后玻璃表面无明显划痕，表面粗糙度比抛光前有所降低；本发明的抛光浆液有效最小化在基板表面上的通过高灵敏度缺陷探测仪可控测到的尺寸的缺陷，并且具有延长的抛光寿命，该抛光浆液不仅对质量改善的抛光基板的制造有效，并且从环境负荷和成本方面看也是有益的。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈4份、硅溶胶16份、pH调节剂7份、胶体溶液15份、表面活性剂5份、低聚肽6份、去离子水35份。
一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液的制备方法，包括以下步骤：
(1)取氧化铈，加入去离子水混合并不断搅拌，直至溶液没有沉淀；
(2)向步骤(1)所得产物中加入硅溶胶、胶体溶液和低聚肽，边加入边搅拌，直至溶液无絮状物；
(3)向步骤(2)所得产物中加入pH调节剂和去离子水，加入pH调节剂调节溶液pH为8-11；
(4)向步骤(3)所得产物中加入表面活性剂，持续搅拌，使表面活性剂充分溶解，再超声分散25-35min，即得本抛光液。
所述pH调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
所述胶体溶液是胶体二氧化硅水分散液。
所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
实施例2一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈10份、硅溶胶34份、pH调节剂9份、胶体溶液22份、表面活性剂12份、低聚肽11份、去离子水54份。
一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液的制备方法，包括以下步骤：
(1)取氧化铈，加入去离子水混合并不断搅拌，直至溶液没有沉淀；
(2)向步骤(1)所得产物中加入硅溶胶、胶体溶液和低聚肽，边加入边搅拌，直至溶液无絮状物；
(3)向步骤(2)所得产物中加入pH调节剂和去离子水，加入pH调节剂调节溶液pH为8-11；
(4)向步骤(3)所得产物中加入表面活性剂，持续搅拌，使表面活性剂充分溶解，再超声分散25-35min，即得本抛光液。
所述pH调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
所述胶体溶液是胶体二氧化硅水分散液。
所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
实施例3一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈7份、硅溶胶22份、pH调节剂8份、胶体溶液19份、表面活性剂10份、低聚肽8份、去离子水46份。
一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液的制备方法，包括以下步骤：
(1)取氧化铈，加入去离子水混合并不断搅拌，直至溶液没有沉淀；
(2)向步骤(1)所得产物中加入硅溶胶、胶体溶液和低聚肽，边加入边搅拌，直至溶液无絮状物；
(3)向步骤(2)所得产物中加入pH调节剂和去离子水，加入pH调节剂调节溶液pH为8-11；
(4)向步骤(3)所得产物中加入表面活性剂，持续搅拌，使表面活性剂充分溶解，再超声分散25-35min，即得本抛光液。
所述pH调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
所述胶体溶液是胶体二氧化硅水分散液。
所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (5)
1.一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其特征在于,其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈4-10份、硅溶胶16-34份、pH调节剂7-9份、胶体溶液15-22份、表面活性剂5-12份、低聚肽6-11份、去离子水35-54份。
2.根据权利要求1所述的一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)取氧化铈，加入去离子水混合并不断搅拌，直至溶液没有沉淀；
(2)向步骤(1)所得产物中加入硅溶胶、胶体溶液和低聚肽，边加入边搅拌，直至溶液无絮状物；
(3)向步骤(2)所得产物中加入pH调节剂和去离子水，加入pH调节剂调节溶液pH为8-11；
(4)向步骤(3)所得产物中加入表面活性剂，持续搅拌，使表面活性剂充分溶解，再超声分散25-35min，即得本抛光液。
3.根据权利要求1所述的一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其特征在于：所述pH调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其特征在于：所述胶体溶液是胶体二氧化硅水分散液。
5.根据权利要求1所述的一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
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2017
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