CN107170503A - 一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，包括以下步骤：移动式去污装置的接入；氧化处理6～8小时；用pH为2～2.5的还原溶液进行还原处理3～5小时，其中，所述的还原溶液包括0.2～0.65g/L的硝酸、0.4～0.7g/L的L‑抗坏血酸、0.2～0.7g/L的辅助化合物；判断是否重复进行氧化和还原；用碱化溶液漂洗处理2～4小时；循环冲洗。本发明的化学清洗方法适用于在役压水堆核电厂主回路及核辅助系统设备内表面的现场就地去污，使待去污区域环境剂量率在短时间(通常1～3天)内降至原来的1/2～1/10，并且对机组重新运行无不良影响。

Description

一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法
技术领域
本发明属于核电领域，涉及一种放射性化学去污方法，具体涉及一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的低浓度化学清洗方法。
背景技术
压水堆核电厂在运行一段时间后，主回路管道、设备及堆内构件表面放射性核素的沉积将导致辐射水平升高，在役检查、设备维修、堆芯换料、系统改造及事故处理等工作开展前，为降低工作人员辐照剂量，方便设备处理，都十分有必要进行去污，而对于发生严重污染的系统和设备，则必须先实施去污后才能开展相关工作。
根据去污的机理，去污手段可分为物理去污、化学去污和电化学去污三大类，每一类去污方法都根据去污介质、对象或目的而发展出多种技术。针对在役压水堆核电厂系统及设备内表面污染的特点，国际上已开发出的低浓度化学去污技术有HP/CORD-UV、AP-CITROX、MEDOC、CAN-DECON、LOMI、EMMAC等方法，但国内相关研究多局限于小型核设施的退役去污及零部件的离线去污，真正用于在役核电厂系统及设备的在线去污技术目前还没有公开报道。
CN1039037C公开了一种从金属基体上溶解氧化物的方法，其由以下至少一个循环而达到：(a)于80～85℃，用至少含有高锰酸盐的溶液进行氧化；(b)于80～85℃，于pH低于2，用含还原剂和硝酸的溶液进行还原。当沉积在金属基体上的氧化物较多时，采用该专利所公开的方法进行化学清洗时，溶解掉的氧化物非常容易再次沉积在金属基体上而影响清洗效果。另外，该专利虽然公开了大型部件或管道可以把溶液直接施加上去，但是，该专利并未公开如何将溶液直接施加到大型部件或管道上。随着核电机组运行时间增加，伴随着设备老化与延寿问题的日益突出，主回路及核辅助系统的管道、设备及堆内构件表面沉积的放射性核素采用在线化学去污的经济效益愈加明显，为降低厂房或局部区域的辐照水平，在役核电厂亟需一种采用低浓度化学试剂的在役化学去污技术，通过化学溶解作用有效去除管道、阀门、换热器及泵等设备部件内表面的固定放射性污染物，使去污系统的剂量率降低50％以上，大大减轻辐射防护工作的压力。而对于在线清洗来说，需要考虑的因素较多，包括对设备材料的兼容性、清洗过程的密闭性、去污效果的稳定性、次生废水和废物的数量、去污工期及人员受照剂量等。
本发明在调研现有主要化学去污工艺的基础上，在尽可能提高去污因子及不损伤设备的前提下，围绕去污效果稳定、材料兼容性好、二次废物量少等原则对在役化学去污工艺进行优化，开发出更具针对性的化学清洗配方和工艺。
发明内容
本发明的目的是针对在役压水堆核电厂系统及设备内表面污染的特点，提供一种降低集体剂量的放射性化学清洗方法。该方法不同于一般的物理及机械去污技术，也不同于传统的高浓度化学去污和电化学去污，它采用低浓度化学试剂循环清洗工艺，利用布置在核岛和燃料厂房的移动式去污装置，通过金属软管与回路相连，现场就地去除主回路或核辅助系统内大部分放射性腐蚀产物，使待去污区域环境剂量率在短时间(通常1～3天)内降至原来的1/2～1/10，并且对机组重新运行无不良影响。该方法对去污因子不过分追求，但要求去污化学试剂对管道、阀门、换热器及泵等设备材料的影响尽可能小，去污工期尽可能短，次生放射性废水和废物量尽可能少。
为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，包括以下步骤：
(1)、在待去污系统或设备的上下游低剂量区域接入移动式去污装置以使所述的待去污系统或设备与所述的移动式去污装置形成闭式循环系统；
(2)、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80～85℃的温度下，用pH为12～12.5的氧化溶液进行氧化处理6～8小时后排空氧化处理液，其中，所述的氧化溶液包括0.25～0.75g/L的碱性化合物、0.75～1.25g/L的高锰酸盐；
(3)、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80～85℃的温度下，用pH为2～2.5的还原溶液进行还原处理3～5小时后排空还原处理液，其中，所述的还原溶液包括0.2～0.65g/L的硝酸、0.4～0.7g/L的L-抗坏血酸、0.2～0.7g/L的辅助化合物；所述的辅助化合物为选自α-羟基羧酸、氨基羧酸、氨基酸中的一种或多种的组合；
(4)、当就地测量的剂量率大于等于设定的剂量率时，重复进行所述的步骤(2)的氧化步骤以及所述的步骤(3)的还原步骤；当就地测量的剂量率小于所述的设定的剂量率或达到设定的进行所述的步骤(2)的氧化步骤以及所述的步骤(3)的还原步骤的循环次数时，进行下述步骤(5)；
(5)、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80～85℃的温度下，用碱化溶液进行漂洗处理2～4小时后排空漂洗处理液，其中，所述的碱化溶液包括2～5mg/L的碱化剂；(6)、采用除盐水对经步骤(5)处理后的所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行循环冲洗，当电导率≤20μS/cm时排空完成对系统或设备的清洗。
本发明中，为了提高清洗效果并减少废液量，步骤(2)中所述的氧化处理液排至氧化储罐内以便重复使用；步骤(3)中的还原处理液排至还原储罐内以便重复使用，
优选地，当需要重复进行所述的步骤(2)的氧化步骤以及所述的步骤(3)的还原步骤时，通过向储存在氧化储罐中的所述的氧化处理液中加入所述的碱性化合物和所述的高锰酸盐以使所述的碱性化合物的浓度为0.25～0.75g/L、所述的高锰酸盐的浓度为0.75～1.25g/L，然后将调整成分后的所述的氧化处理液作为氧化溶液进行步骤(2)的氧化处理；通过向储存在还原储罐中的所述的还原处理液中加入所述的硝酸、所述的L-抗坏血酸和所述的辅助化合物以使所述的硝酸的浓度为0.2～0.65g/L、所述的L-抗坏血酸的浓度为0.4～0.7g/L、所述的辅助化合物的浓度为0.2～0.7g/L，然后将调整成分后的所述的还原处理液作为还原溶液进行步骤(3)的还原处理。
优选地，在综合考虑清洗的经济性以及对系统或设备的损伤的情况下，所述设定的进行所述的步骤(2)的氧化步骤以及所述的步骤(3)的还原步骤的循环次数为三次。
其中，进行一次所述的步骤(2)的氧化步骤后进行一次所述的步骤(3)的还原步骤构成一次循环，三次循环即进行一次所述的步骤(2)的氧化步骤后进行一次所述的步骤(3)的还原步骤，然后再进行一次所述的步骤(2)的氧化步骤后进行一次所述的步骤(3)的还原步骤，最后再进行一次所述的步骤(2)的氧化步骤后进行一次所述的步骤(3)的还原步骤。
优选地，步骤(2)中，所述的碱性化合物为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或多种；所述的高锰酸盐为高锰酸钾。
进一步优选地，步骤(2)中，所述的碱性化合物为氢氧化钠，其浓度为0.4g/L，所述的高锰酸钾的浓度为1.0g/L。
优选地，步骤(2)中，所述的氧化处理的温度为80℃，氧化处理的时间为8小时。
本发明的步骤(3)中，所述的硝酸用于调节还原溶液的pH值；L-抗坏血酸在酸性环境中对金属氧化物具有强而稳定的还原能力；α-羟基羧酸辅助增加金属氧化物的剥离和溶解；氨基羧酸络合增大金属离子的溶解度，避免沉淀；氨基酸通过在金属基材表面吸附起到缓蚀作用，减轻清洗对金属设备的腐蚀影响。
优选地，步骤(3)中，所述的α-羟基羧酸为选自羟基乙酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸中的一种或多种；所述的氨基羧酸为选自氨基三乙酸(NTA)、乙二胺四乙酸(EDTA)、二乙烯三胺五乙酸(DTPA)、N-羟乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)中的一种或多种；所述的氨基酸为选自甘氨酸、L-谷氨酸、L-半胱氨酸中的一种或多种。
优选地，所述的α-羟基羧酸的浓度为0.4～0.6g/L，所述的氨基羧酸的浓度为0.2～0.7g/L，所述的氨基酸的浓度为0.2～0.4g/L。
进一步优选地，所述的硝酸的浓度为0.20g/L，所述的L-抗坏血酸的浓度为0.40g/L，所述的苹果酸的浓度为0.40g/L，所述的氨基三乙酸的浓度为0.20g/L，所述的谷氨酸的浓度为0.20g/L。
优选地，步骤(3)中，所述的还原处理的温度为80℃，还原处理的时间为5小时。
优选地，步骤(5)中，所述的碱化剂为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或多种。
优选地，步骤(5)中，所述的碱化溶液的pH值大于9.5。
优选地，步骤(5)中，所述的漂洗处理的温度为80℃，漂洗处理时间为4小时。
优选地，采用除盐水进行充水以及氧化溶液、还原溶液、碱化溶液的配制。
本发明中，所述的化学清洗方法适用于304、304L、316、316L、Inconel600、Inconel690、Stellite 6、Stellite 12为基材的系统或设备，该化学清洗方法对上述金属材质腐蚀非常轻微，金属本体最大腐蚀深度不大于5μm，对机组重新运行无不良影响。
本发明的化学清洗方法从经济性考虑，特别适用于与主回路冷却剂接触表面沉积放射性同位素(Co-58，Co-60，Ag-110m，Cr-51，Fe-59，Mn-54，Sb-124，Sb-122等)分布相对均匀的累积的固定性污染。
本发明采用碲锌镉(CZT)探测器对金属设备内表面污染核素进行检测。
本发明的移动式去污装置的结构如附图1所示，包括缓冲水箱、与所述的缓冲水箱相连通的循环泵、与所述的循环泵相连通的电加热器、与所述的缓冲水箱相连通用于对待去污系统或设备进行充水排气并为循环泵提供压头的高位水箱、与所述的缓冲水箱相连通的加药泵、与所述的加药泵相连通的配药箱、与所述的缓冲水箱相连通的补水装置、与所述的待去污系统或设备相连通的氧化储罐和还原储罐、用于将所述的待去污系统或设备分别与所述的缓冲水箱和所述的电加热器相连通的专用工具，所述的氧化储罐和所述的还原储罐分别与所述的缓冲水箱相连通；所述的移动式去污装置设置排污门。当采用所述的移动式去污装置对所述的待去污系统或设备进行清洗时，所述的缓冲水箱、所述的循环泵、所述的电加热器、所述的待去污系统或设备形成闭式循环系统。当所述的待去污系统或设备为换热器时，所述的移动式去污装置还包括设置在换热器与所述的电加热器之间的增压泵。
所述的专用工具包括堵板、套设于所述堵板上的密封圈、一端与所述堵板端面相枢轴连接的连接套、对应设置于所述堵板一侧的支撑板以及一端嵌设于所述连接套内且另一端嵌设于所述支撑板内的调节螺栓。优化地，所述连接套通过连接机构与所述堵板相枢轴连接，所述连接机构包括固定在所述堵板端面上的固定座以及安装在所述固定座上且穿过所述连接套端部的销轴。所述的专用工具的结构参见图2。
经过多次氧化处理后的氧化废液加硝酸及草酸还原处理，经过多次还原处理后的还原废液采用双氧水降解后再与漂洗处理液中和处理，所有废液最终经蒸发浓缩和水泥固化处理。
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
本发明的化学清洗方法适用于在役压水堆核电厂主回路及核辅助系统设备内表面的现场就地去污，采用低浓度的化学试剂有效去除管道、阀门、换热器及泵等设备部件内表面的固定放射性污染物，减少放射性废物产生量，控制放射性污染对人员的危害，使待去污区域环境剂量率在短时间(通常1～3天)内降至原来的1/2～1/10，并且对机组重新运行无不良影响。
附图说明
附图1为移动式去污装置的示意图；
附图2为专用工具的结构示意图；
附图3为弯头去污效果各监测点的分布图；
附图4为弯头各测点去污试验前后的剂量率对比图；
附图5为氧化膜样清洗试验前后对比图，其中，5(a)为氧化膜样清洗试验前，5(b)为氧化膜样清洗试验后；
附图6为裸材样清洗试验前后对比图，其中，6(a)为裸材样清洗试验前，6(b)为裸材样清洗试验后；
附图7为氧化膜样清洗试验前后对比图，其中，7(a)为氧化膜样清洗试验前，7(b)为氧化膜样清洗试验后；
附图8为裸材样清洗试验前后对比图，其中，8(a)为裸材样清洗试验前，8(b)为裸材样清洗试验后；
附图9为清洗工艺对氧化膜及裸材重量的影响对比图；
附图10为清洗工艺对模拟氧化物粉末溶解效果的对比图，其中10(a)为粉末中铬的溶解效果，10(b)为粉末中铁的溶解效果。
具体实施方式
下面将对本发明优选实施方案进行详细说明。
移动式去污装置与待去污系统或设备的连接方式如下：
如图1所示，移动式去污装置，包括缓冲水箱7、与缓冲水箱7相连通的循环泵8、与循环泵8相连通的电加热器9、与缓冲水箱7相连通用于对待去污系统或设备进行充水排气并为循环泵8提供压头的高位水箱10、与缓冲水箱7相连通的加药泵11、与加药泵11相连通的配药箱12、与缓冲水箱7相连通的补水装置13、与待去污系统或设备相连通的氧化储罐和还原储罐、用于将待去污系统或设备分别与缓冲水箱7和电加热器9相连通的专用工具，氧化储罐和还原储罐分别与缓冲水箱7相连通；移动式去污装置设置排污门用以排出氧化废液、还原废液、漂洗处理液以及循环冲洗后的除盐水。当采用移动式去污装置对待去污系统或设备进行清洗时，缓冲水箱7、循环泵8、电加热器9、待去污系统或设备形成闭式循环系统从而避免放射性污染物的泄漏。当待去污系统或设备为换热器时，移动式去污装置还包括设置在换热器与电加热器9之间的增压泵14。
如图2所示，专用工具主要包括堵板1、连接套2、调节螺栓4和支撑板5等。
其中，堵板1的规格依据阀门内部隔离侧口径来确定，可选择实心和空心两种，兼顾封堵效果的可靠性和灵活性；它包括密封部以及形成在密封部端面的阀盖部(阀盖部的直径大于密封部的直径)。堵板1的前端有密封沟槽(即堵板1密封部的周面上开设有密封沟槽)，沟槽宽度和深度与密封圈6相吻合；密封圈6套设在堵板1的此处，起到密封的作用，选择的O型密封圈6应根据使用环境来确定，如压力、温度、流速，还有考虑接触介质的酸碱氧化还原性等参数。按照O型密封圈的压缩率、内径拉伸率、密封沟槽结构与尺寸、密封间隙、密封材质应严格遵守相关设计规范，保障密封性的合理可靠。连接套2的一端与堵板1的端面(阀盖部的端面)相枢轴连接，支撑板5对应设置在堵板1的一侧；调节螺栓4的一端嵌设于在连接套2内，而它另一端嵌设于支撑板5内；该调节螺栓4是一种特殊设计的螺栓，它的螺纹部被形成在它周面的凸环隔开，并且两个螺纹部为不同的左右旋螺纹，使得调节螺栓4通过左右旋螺纹与连接套2和支撑板5的内螺纹孔配合时作用方向相反，能够达到防松动和锁紧的效果。该装置的使用不需要切割管道或拆解设备，轻松实现外部清洗回路与清洗对象的连通，不影响阀门的性能和寿命，相关阀门的解体、回装、验证和再鉴定工作按照其对应的检修规程执行。
在本实施例中，连接套2通过连接机构3与堵板1相枢轴连接，连接机构3包括固定在堵板1端面上的固定座31(固定座31实际上是一对焊接在堵板1端面上的耳片，两个耳片的间距大于连接套2的直径，它的销孔与销轴31的外径尺寸一致)以及安装在固定座31上且穿过连接套2端部的销轴31。这样能起到比较精确的定位作用，且能灵活调整堵板1和支撑板5的高度差，方便临时装置的装配、维修和拆卸；销轴31的两端配有阻挡卡环，防止销子滑动和脱落。支撑板5的结构与堵板1的结构类似，它的截面为扁平的T型结构；其宽度大于调节螺栓4的外径，且保证足够的余量兼顾机械强度和流通截面积；其深度大于调节螺栓4的最大调节量，且满足机械受力分析的要求，支撑板5本体的高度为管道的内径，T字头的高度要大于管道内径，确保支撑稳定和可靠。支撑板5的内螺纹与水平的倾角满足隔离介入阀门前后端管道的高度差，如果为阀门前后端管道为水平位置，则内螺纹无需倾斜。
上述专用工具安装使用方法，包括以下步骤：
(1)首先松动上下螺母，移去阀盖和垫片，将内部的逆止阀阀瓣从销轴或连接架上拆除；
(2)将本专用工具装入，此时正反扣调节螺栓旋至最小间距，堵板1(堵板1带有快速接口)和密封圈6一侧紧贴逆止阀入口侧阀座的密封面，支撑板5一侧靠近逆止阀出口侧实现密封，通过旋紧正反扣调节螺栓，使支撑板一侧紧贴在逆止阀出口处，确保装置密封的可靠和支撑的牢固；
(3)将逆止阀垫片回装，使得堵板1尺寸规格与阀盖一致，旋紧双头螺栓的上下螺母，实现阀门内部一端的隔离，同时轻松实现外部清洗回路与清洗对象的连通；
(4)清洗结束后，按反向步骤依次拆除堵板1和垫片，旋松正反扣调节螺栓，移出该装置，检查内部无异物后，回装逆止阀的阀瓣、垫片和阀盖。
实施例1
本发明应用在现场动态模拟清洗主回路冷却剂弯头，包括以下步骤：
(1)检查弯头内表面污染核素主要为Co-60和Ag-110m，污染物分布相对均匀，结构致密，具有一回路活化腐蚀产物沉积的典型特征，适宜采用本方法清洗去污。
(2)安装移动式去污装置。
(3)对待去污系统或设备以及移动式去污装置进行充水排气，形成闭式循环，然后实施三次氧化-还原循环，包括氧化1-还原1-氧化2-还原2-氧化3-还原3，氧化还原条件参见表1。
(4)对待去污系统或设备以及移动式去污装置进行充水排气，然后在80℃的温度下，用碱化溶液漂洗处理4小时后排空，其中，碱化溶液包括4mg/L的氢氧化钠。
(5)、采用除盐水对经步骤(4)处理后的待去污系统或设备以及移动式去污装置进行循环冲洗，当电导率≤20μS/cm时排空完成对系统或设备的清洗。
(6)清洗过程中，定期监测清洗液的放化及化学参数，及时调节清试剂的浓度。
根据弯头去污前后的内、外表面剂量率的实测值计算，在初始剂量率不足1000μSv/h的前提下，采用本发明化学去污工艺三个循环后，弯头的表面剂量率降至初始的35％以下，综合去污因子为2.87，且对金属基材的腐蚀减薄程度不足1μm。弯头去污效果各监测点的分布参见图3，弯头各测点去污试验前后的剂量率参见图4。
表1
实施例2
本发明应用在实验室动态模拟清洗高压釜预膜试样，包括以下步骤：
(1)参照NB/T20142-2012《压水堆核电厂一回路系统及设备化学去污》，采用高压釜模拟温度300℃连续运行1000h，制备304L(Z2CN18-10)不锈钢氧化膜试验材料，试验介质模拟一回路水化学参数，硼质量分数为1000mg/L，锂质量分数为2.2mg/L。
(2)采用与实施例1相同的清洗工艺参数对试验材料进行五次氧化-还原循环，分析试样表面形貌、微观形貌、重量的变化，试验结果发现，经过5次氧化-还原循环去污后，氧化膜试样由黑色变成灰色，裸材试样保持金属光泽不变，见图5、6；氧化膜样品由粒状沉积致密结构变成多孔疏松结构，裸材样品未有明显变化，但局部出现点蚀坑，见图7、8；高温氧化膜试样在氧化后增重，还原后减重，特别是第一个氧化还原循环对失重量影响最大，而裸材试样重量变化不明显，腐蚀程度轻微，见图9。
(3)本发明化学清洗去污工艺，304L热处理试样经过5次清洗后，进行铜-硫酸铜晶间腐蚀试验，未发现晶间腐蚀开裂。
(4)本发明化学清洗去污工艺，对三元乙丙橡胶材料的影响较小，试验前后重量变化约为0.45％，未发现明显变色、变形、溶胀、残缺、解体及脱落等异常。
实施例3
本发明应用在实验室模拟氧化物溶解，包括以下步骤：
(1)采用共沉淀法制备Cr掺杂Fe3-xCrxO4模拟氧化物，将KOH缓慢滴至FeSO4+Cr2(SO4)3水溶液中，待其自然沉淀后、洗涤，放入真空干燥箱，烘干后封入石英管(真空度小于10-2Pa)，1100℃烧结6h。取出研磨成粉，按配比制备名义原子比x＝0.45的高铬掺杂Fe3- xCrxO4模拟氧化物。
(2)采用XRD衍射分析模拟氧化物为立方相结构，特征峰明显，相结构与标准峰符合较好；采用SEM/EDX对颗粒形貌进行观察呈窄的粒径分布，晶粒大小0.3～1μm，成分分析结果与理论预期相符，具有较好的代表性。
(3)采用与实施例1基本相同的清洗工艺参数对模拟氧化物进行水浴加热磁力搅拌溶解试验，区别仅在于还原步骤采用的还原溶液的组成及对应的pH的差异，不同还原溶液的组成及pH的清洗工艺对模拟氧化物粉末溶解效果的对比图参见图10，其中10(a)为粉末中铬的溶解效果，10(b)为粉末中铁的溶解效果。由实验结果发现，复合采用的L-抗坏血酸VC和辅助化合物Xm，无论是在酸性，还是中性、碱性环境下，对模拟氧化物的溶解效果都比单一的L-抗坏血酸或辅助化合物要好。
(4)附图10中辅助化合物Xm为羟基乙酸0.2g/L和氨基三乙酸0.2g/L，其与0.6g/LL-抗坏血酸有明显的协同效应，在药剂总浓度相同的情况下，辅助化合物减轻了溶解金属离子的沉积，促进了模拟氧化物的溶解，随着溶解时间的延长，协同效应更加明显。而在pH＝2.0的酸性条件下，协同效果最佳。

Claims (9)

1.一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)、在待去污系统或设备的上下游低剂量区域接入移动式去污装置以使所述的待去污系统或设备与所述的移动式去污装置形成闭式循环系统；
(2)、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80～85℃的温度下，用pH为12～12.5的氧化溶液进行氧化处理6～8小时后排空氧化处理液，其中，所述的氧化溶液包括0.25～0.75g/L的碱性化合物、0.75～1.25g/L的高锰酸盐；
(3)、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80～85℃的温度下，用pH为2～2.5的还原溶液进行还原处理3～5小时后排空还原处理液，其中，所述的还原溶液包括0.2～0.65g/L的硝酸、0.4～0.7g/L的L-抗坏血酸、0.2～0.7g/L的辅助化合物；所述的辅助化合物为选自α-羟基羧酸、氨基羧酸、氨基酸中的一种或多种的组合；
(4)、当就地测量的剂量率大于等于设定的剂量率时，重复进行所述的步骤(2)的氧化步骤以及所述的步骤(3)的还原步骤；当就地测量的剂量率小于所述的设定的剂量率或达到设定的进行所述的步骤(2)的氧化步骤以及所述的步骤(3)的还原步骤的循环次数时，进行下述步骤(5)；
(5)、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80～85℃的温度下，用碱化溶液漂洗处理2～4小时后排空漂洗处理液，其中，所述的碱化溶液包括2～5mg/L的碱化剂；
(6)、采用除盐水对经步骤(5)处理后的所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行循环冲洗，当电导率≤20μS/cm时排空完成对系统或设备的清洗。
2.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，当需要重复进行所述的步骤(2)的氧化步骤以及所述的步骤(3)的还原步骤时，通过向所述的氧化处理液中加入所述的碱性化合物和所述的高锰酸盐以使所述的碱性化合物的浓度为0.25～0.75g/L、所述的高锰酸盐的浓度为0.75～1.25g/L，然后将调整成分后的所述的氧化处理液作为氧化溶液进行步骤(2)的氧化处理；通过向所述的还原处理液中加入所述的硝酸、所述的L-抗坏血酸和所述的辅助化合物以使所述的硝酸的浓度为0.2～0.65g/L、所述的L-抗坏血酸的浓度为0.4～0.7g/L、所述的辅助化合物的浓度为0.2～0.7g/L，然后将调整成分后的所述的还原处理液作为还原溶液进行步骤(3)的还原处理。
3.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，所述设定的进行所述的步骤(2)的氧化步骤以及所述的步骤(3)的还原步骤的循环次数为三次。
4.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，步骤(3)中，所述的α-羟基羧酸为选自羟基乙酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸中的一种或多种；所述的氨基羧酸为选自氨基三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、N-羟乙基乙二胺三乙酸中的一种或多种；所述的氨基酸为选自甘氨酸、L-谷氨酸、L-半胱氨酸中的一种或多种。
5.根据权利要求4所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，所述的α-羟基羧酸的浓度为0.4～0.6g/L，所述的氨基羧酸的浓度为0.2～0.7g/L，所述的氨基酸的浓度为0.2～0.4g/L。
6.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，步骤(5)中，所述的碱化剂为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或多种。
7.根据权利要求1或6所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，步骤(5)中，所述的碱化溶液的pH值大于9.5。
8.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，采用除盐水进行充水以及氧化溶液、还原溶液、碱化溶液的配制。
9.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，所述的化学清洗方法适用于以304、304L、316、316L、Inconel600、Inconel690、Stellite6或Stellite 12为基材的系统或设备。
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