CN107103145B - 计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法 - Google Patents

计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107103145B
CN107103145B CN201710318781.2A CN201710318781A CN107103145B CN 107103145 B CN107103145 B CN 107103145B CN 201710318781 A CN201710318781 A CN 201710318781A CN 107103145 B CN107103145 B CN 107103145B
Authority
CN
China
Prior art keywords
lines
pitch
line
line width
fixed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710318781.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107103145A (zh
Inventor
朱忠华
王伟斌
魏芳
朱骏
张旭升
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Huali Microelectronics Corp
Original Assignee
Shanghai Huali Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Huali Microelectronics Corp filed Critical Shanghai Huali Microelectronics Corp
Priority to CN201710318781.2A priority Critical patent/CN107103145B/zh
Publication of CN107103145A publication Critical patent/CN107103145A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107103145B publication Critical patent/CN107103145B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/30Circuit design
    • G06F30/39Circuit design at the physical level
    • G06F30/392Floor-planning or layout, e.g. partitioning or placement
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2119/00Details relating to the type or aim of the analysis or the optimisation
    • G06F2119/18Manufacturability analysis or optimisation for manufacturability

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

本发明提供一种计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,从节距数值范围最小的节距最小段开始筛选每一段节距数值范围内的线条,逐渐将所有具有固定线宽的线条归类在不同节距段中,错综复杂的版图设计数据提取有效的版图设计线宽、节距,量化固定线宽不同节距的线条的分布,利用该分析结果判断工艺异常与线宽节距分布的相关性。

Description

计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法
技术领域
本发明涉及集成电路版图设计领域,特别涉及一种计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法。
背景技术
随着半导体制造工艺节点的不断推进,集成电路版图设计的复杂性不断增加,随之而来使得设计成本大幅增加,尽可能提高流片成功率已成为芯片设计公司的基本要求以及其选择代加工合作伙伴的重要指标。
可制造性设计(DFM-Design for Manufacturability)将电子产品设计与代加工制造紧密联合,通过设计观念的改变,设计方法的改进,进而提升产品的成活率与成品率。制造公司通过对设计公司提供的版图设计中密度、周长及线宽、节距等的分布的计算,可以有效帮助光刻、蚀刻及化学机械研磨等工序提高工艺窗口。
就光刻工艺本身具有的特点来讲,版图图形中的具有相同线宽但不同节距的线条在光刻后线宽会有所不同,这也是光学邻近效应修正产生的原因之一。所谓节距,是指两根线条中心线之间的距离,通常由宽度规则和间距规则共同定义。
容易理解的是,在光刻后进行显影,而显影后形成的线宽将会直接影响蚀刻后半导体结构上线路的形貌,如果最终蚀刻形成的线路线宽差异过大会导致多种缺陷。以多晶栅层为例,蚀刻形成的线路的线宽的差异会直接影响晶体管漏电流。如果通过固定线宽,提前预知版图设计中不同节距的线条(也即边)数量的分布,可以针对性的加强节距分布比较广泛所对应的版图设计中固定线宽的光学邻近效应修正。此外,通过检查固定线宽不同节距的线条的分布,也可以协助处理线宽相关的异常缺陷。
发明内容
本发明提供一种计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,计算版图设计中具有相同的线宽但节距不同的线条的分布概况,从而针对性地加强该版图设计中固定线宽的光学邻近效应修正,此外协助处理线宽相关的异常缺陷。
为达到上述目的,本发明提供一种计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,用于在原始版图设计中计算出节距在(0,D+S1],(D+S1,D+S2],……(D+Sn-1,D+Sn],(D+Sn,+∞)的线条的分布,其中D为线条的固定线宽,S1,S2,……Sn为所述原始版图设计数据中具有的节距,且0<S1<S2……<Sn<+∞,在原始版图设计中筛选出节距为(D+SX-1,D+SX]中线条的分布的方法为选取固定线宽为D的线条中与自身距离最近且该距离符合(D+SX-1,D+SX]的相邻线条,将所述相邻线条在该固定线宽为D的线条上投影,投影形成的线段即归类为节距为(D+SX-1,D+SX]中的线条,记为Ax,其中x=1,2……n。
作为优选,包括以下步骤:
步骤一:在所有固定线宽为D的线条中筛选出节距为(0,D+S1]的线条,将其记为A1;
步骤二:在所述原始版图设计中排除A1后筛选出节距为(D+S1,D+S2]的线条,将其记为A2;
步骤三:重复步骤二,在排除上一步骤得到的线条后筛选出节距分别在在(D+S2,D+S3]、……(D+Sn-1,D+Sn]、(D+Sn,+∞)的线条,各自记为A3、……An;
步骤四:统计A1、A2……An中各自的线条的数量。
作为优选,步骤一中筛选出节距为(0,D+S1]的线条的方法为
选取固定线宽为D的线条中与自身距离最近且该距离符合(0,D+S1]的相邻线条,将所述相邻线条在该固定线宽为D的线条上投影,投影形成的线段即归类为A1。
作为优选,步骤二中在所述原始版图设计中排除A1后使用与步骤一中相同的方法筛选出节距为(D+S1,D+S2]的线条。
作为优选,步骤四中使用
Figure BDA0001289217150000031
来描述节距为(D+SX-1,D+SX]中线条的分布,其中Ax为筛选出的节距为(D+SX-1,D+SX]的线条。
作为优选,所述固定线宽D为固定数值或者数值范围。
作为优选,所述固定线宽D大于所述原始版图设计中最小关键尺寸。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明提供计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,用于在原始版图设计中计算出节距在(0,D+S1],(D+S1,D+S2],……(D+Sn-1,D+Sn],(D+Sn,+∞)的线条的分布,其中D为线条的固定线宽,S1,S2,……Sn为原始版图设计数据中具有的图形与图形之间的节距,且0<S1<S2……<Sn<+∞,则在原始版图设计中筛选出节距为(D+SX-1,D+SX]中线条的分布的方法为选取固定线宽为D的线条中与自身距离最近且该距离符合(D+SX-1,D+SX]的相邻线条,将所述相邻线条在该固定线宽为D的线条上投影,投影形成的线段即归类为节距为(D+SX-1,D+SX]中的线条,记为Ax,其中x=1,2……n。本发明能够在错综复杂的版图设计数据提取有效的版图设计线宽、节距,量化固定线宽不同节距的线条的分布,利用该分析结果判断工艺异常与线宽节距分布的相关性。
附图说明
图1为本发明提供的计算方法的流程图;
图2为本发明提供的筛选特定节距的线段的方法示意图;
图3~图6为本发明提供的每一段节距选取方法示意图。
图中:201、202-图形、301~304、401~402、501~502、601~604-线条
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。
请参照图1,本发明提供一种计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,用于在原始版图设计中计算出节距在(0,d+a],(d+a,d+b],(d+b,+∞)的线条的分布,其中d为线条的固定线宽,d可以为一个固定数值,也可以为一个数值范围,但d必定大于原始版图设计中最小关键尺寸,a、b为所述原始版图设计数据中的节距,且a<b<+∞,具体包括以下步骤:
步骤一:如图3所示,首先选取固定线宽为d的线条,分别为301、302、303及304,首先选取节距在(0,d+a]段符合要求的线条,如图4所示显然线条401与402符合这样的要求,将线条401、402赋予属性为节距最小段,记为A1;
具体地,筛选节距符合要求的线条的方法如图2所示,图中定义了两个多边形201、202为原始版图设计图形,201上的四条边具有符合要求的固定线宽。其中图形201中边AB正对图形202的边CD。假设201中边的线宽为d,AB与CD的距离为s,则节距值p=d+s。
版图设计数据帧中符合节距为p的有效固定线宽则为边C’D’。C’D’的获取方法为CD线段在AB段的投影形成的线段,同时投影区C’CD’D不能触碰到任何版图设计数据。
步骤二:在图4中的所有符合要求的固定线宽为d的线条中排除掉线条401、402,再次选取节距在(d+a,d+b]段符合要求的固定线宽为d的边,如图5所示,则线条501、502符合这样的要求,501、502赋予属性为节距次小段,记为A2;
步骤三:使用上述相同的操作流程,如图6所示,得到601、602、603、604均为符合节距在(d+b,+∞)的固定线宽为d的线条,赋予其属性为节距第三小段,记为A3。这里的属性值可以是数量、边长或者其它特殊的定义值。
步骤四:在本实施例中,使用
Figure BDA0001289217150000061
来描述节距为(D+SX-1,D+SX]固定线宽为d的线条的分布概况,则得到固定线宽d不同节距(0,d+a],(d+a,d+b],(d+b,+∞)的分布数量分别为2,2,4,其对应的分布比率为25%,25%,50%。
本发明从节距数值范围最小的节距最小段开始筛选每一段节距数值范围内的线条,逐渐将所有具有固定线宽的线条归类在不同节距段中,在错综复杂的版图设计数据提取有效的版图设计线宽、节距,量化固定线宽不同节距的线条的分布,利用该分析结果判断工艺异常与线宽节距分布的相关性。
显然,本领域的技术人员可以对发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包括这些改动和变型在内。

Claims (6)

1.一种计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,用于在原始版图设计中计算出节距在(0,D+S1],(D+S1,D+S2],……(D+Sn-1,D+Sn],(D+Sn,+∞)的线条的分布,其中D为线条的固定线宽,S1,S2,……Sn为所述原始版图设计数据中具有的节距,且0<S1<S2……<Sn<+∞,其特征在于,在原始版图设计中筛选出节距为(D+SX-1,D+SX]中线条的分布的方法为选取固定线宽为D的线条中与自身距离最近且该距离符合(D+SX-1,D+SX]的相邻线条,将所述相邻线条在该固定线宽为D的线条上投影,投影形成的线段即归类为节距为(D+SX-1,D+SX]中的线条,记为Ax,其中x=1,2……n;其中,包括以下步骤:
步骤一:在所有固定线宽为D的线条中筛选出节距为(0,D+S1]的线条,将其记为A1;
步骤二:在所述原始版图设计中排除A1后筛选出节距为(D+S1,D+S2]的线条,将其记为A2;
步骤三:重复步骤二,在排除上一步骤得到的线条后筛选出节距分别在(D+S2,D+S3]、……(D+Sn-1,D+Sn]、(D+Sn,+∞)的线条,各自记为A3、……An;
步骤四:统计A1、A2……An中各自的线条的数量。
2.如权利要求1所述的计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,其特征在于,步骤一中筛选出节距为(0,D+S1]的线条的方法为:
选取固定线宽为D的线条中与自身距离最近且该距离符合(0,D+S1]的相邻线条,将所述相邻线条在该固定线宽为D的线条上投影,投影形成的线段即归类为A1。
3.如权利要求2所述的计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,其特征在于,步骤二中在所述原始版图设计中排除A1后使用与步骤一中相同的方法筛选出节距为(D+S1,D+S2]的线条。
4.如权利要求1所述的计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,其特征在于,步骤四中使用
Figure FDA0002599328520000011
来描述节距为(D+SX-1,D+SX]中线条的分布,其中Ax为筛选出的节距为(D+SX-1,D+SX]的线条。
5.如权利要求1所述的计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,其特征在于,所述固定线宽D为固定数值或者数值范围。
6.如权利要求5所述的计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法,其特征在于,所述固定线宽D大于所述原始版图设计中最小关键尺寸。
CN201710318781.2A 2017-05-08 2017-05-08 计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法 Active CN107103145B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710318781.2A CN107103145B (zh) 2017-05-08 2017-05-08 计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710318781.2A CN107103145B (zh) 2017-05-08 2017-05-08 计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107103145A CN107103145A (zh) 2017-08-29
CN107103145B true CN107103145B (zh) 2020-11-20

Family

ID=59668784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710318781.2A Active CN107103145B (zh) 2017-05-08 2017-05-08 计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107103145B (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1577099A (zh) * 2003-06-30 2005-02-09 Asml蒙片工具有限公司 对NA-σ曝光设置和散射条OPC同时优化的方法和装置
CN103676463A (zh) * 2013-11-29 2014-03-26 上海华力微电子有限公司 测试图形设计方法及opc优化方法
CN106295049A (zh) * 2016-08-19 2017-01-04 上海华力微电子有限公司 多产品共晶圆流片中的几何信息提取方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8448102B2 (en) * 2006-03-09 2013-05-21 Tela Innovations, Inc. Optimizing layout of irregular structures in regular layout context
US8245169B2 (en) * 2009-12-29 2012-08-14 International Business Machines Corporation Generating capacitance look-up tables for wiring patterns in the presence of metal fills
KR102230503B1 (ko) * 2015-04-14 2021-03-22 삼성전자주식회사 레이아웃 디자인 시스템, 이를 이용한 마스크 패턴 제조 시스템 및 방법
CN106021703B (zh) * 2016-05-17 2019-06-28 上海华力微电子有限公司 版图设计中的权重线宽的提取方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1577099A (zh) * 2003-06-30 2005-02-09 Asml蒙片工具有限公司 对NA-σ曝光设置和散射条OPC同时优化的方法和装置
CN103676463A (zh) * 2013-11-29 2014-03-26 上海华力微电子有限公司 测试图形设计方法及opc优化方法
CN106295049A (zh) * 2016-08-19 2017-01-04 上海华力微电子有限公司 多产品共晶圆流片中的几何信息提取方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN107103145A (zh) 2017-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6625801B1 (en) Dissection of printed edges from a fabrication layout for correcting proximity effects
US6539521B1 (en) Dissection of corners in a fabrication layout for correcting proximity effects
US6792590B1 (en) Dissection of edges with projection points in a fabrication layout for correcting proximity effects
US6777138B2 (en) Mask product made by selection of evaluation point locations based on proximity effects model amplitudes for correcting proximity effects in a fabricat layout
US7475383B2 (en) Method of fabricating photo mask
US8261214B2 (en) Pattern layout creation method, program product, and semiconductor device manufacturing method
CN104865788A (zh) 一种光刻版图opc方法
JP2007133497A (ja) 半導体集積回路の特性抽出方法及び特性抽出装置
DE102015200694A1 (de) Verfahren, computersystem und computerlesbares speichermedium zum erzeugen eines layouts eines integrierten schaltkreises
CN107490931B (zh) 掩膜版图形的修正方法
US6770403B2 (en) Mask for a photolithography process and method of fabricating the same
US7735043B2 (en) Wiring layout apparatus, wiring layout method, and wiring layout program for semiconductor integrated circuit
CN113238460B (zh) 一种基于深度学习的用于超紫外的光学邻近校正方法
CN104166304B (zh) 修正辅助图案的方法
Park et al. An efficient rule-based opc approach using a drc tool for 0.18/spl mu/m asic
US8782572B1 (en) Method of optical proximity correction
CN107103145B (zh) 计算版图中线宽固定节距不同的线条的分布的方法
CN106094422A (zh) 一种简化opc后掩模版图形的方法
JP5071785B2 (ja) マスクパターン形成方法
CN106444273A (zh) 一种金属线层小尺寸冗余图形的添加和处理方法
CN100592494C (zh) 修正接触孔金属覆盖层布图设计的方法
CN115758699B (zh) 面向全芯片光源掩模优化的关键图形快速筛选方法和装置
TWI690049B (zh) 孔柱結構及其製造的方法
CN114609858B (zh) 光学临近修正方法、装置及电子设备
JP2007200322A (ja) 半導体集積回路装置のレイアウト分析方法及びレイアウト分析システム

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant