CN106950734A - 液晶显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及液晶显示装置。提供一种用于抑制对液晶层的影响、并且谋求应对静电的对策的技术。液晶显示装置具有:设置有像素电极及公共电极的第一基板;由树脂材料构成的第二基板;设置于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层;与所述液晶层对置的光学膜和与所述第二基板对置的导电层。所述第二基板在所述光学膜与所述液晶层之间、所述光学膜在所述第二基板与所述导电层之间。所述导电层能够使用包含导电性聚合物的层或透明导电层。

Description

液晶显示装置
技术领域
本发明涉及具有挠性的液晶显示装置。例如,涉及使用树脂基板作为构成液晶单元的基板的液晶显示装置。
背景技术
以往,已知使用具有挠性的基板作为构成液晶单元的基板的液晶显示装置。作为具有挠性的基板,例如可举出由树脂材料构成的基板(树脂基板)。关于这样的液晶显示装置,其整体能够弯曲、弯折,能够宛如纸那样进行使用。因此,使用具有挠性的基板的液晶显示装置(即具有挠性的液晶显示装置)也被称为片显示器(sheet display)。
与使用玻璃基板相比,使用挠性基板的液晶显示装置使用非常薄的基板,因此在制造过程中,需要使用用于支承挠性基板的刚性高的基板。例如,在制造过程中,在玻璃基板上形成树脂层、在该树脂层之上形成半导体器件等。之后,在液晶单元完成后,将玻璃基板与树脂层剥离。由此,能够使树脂层作为液晶显示装置的挠性基板而发挥功能。专利文献1中记载了使用上述那样的制造工艺制造的具有挠性的液晶显示装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2013-235196号公报
发明内容
发明要解决的问题
液晶显示装置例如以被称为IPS(In Plane Switching(面内开关))、FFS(FringeField Switching(边缘场开关))的显示模式驱动时,作为应对静电的对策,有在比液晶层更靠近用户的一侧的面(以下称为“显示面”。)上配置导电层的方案。
应对静电的对策的目的在于,通过将导电层固定为定电位,从而在静电与液晶层之间形成电屏蔽。例如,当由于用户对触控面板的操作等而在显示面产生静电时,若实施了上述应对静电的对策,则能够降低静电对液晶层的影响。
然而,当将前述应对静电的对策应用于使用挠性基板的液晶显示装置时,会产生由于其结构上的特殊性而导致的特有问题。例如,当作为液晶显示装置的对置基板而使用挠性基板时,受制造工艺制约,在挠性基板中的靠近用户一侧的面上配置导电层是困难的。之所以如此,是因为在玻璃基板上设置树脂层、最终将玻璃基板剥离的制造过程中,无法在玻璃基板与树脂层之间设置导电层。
另外,假设在挠性基板中的靠近用户一侧的面上配置了导电层,即便如此,由于作为挠性基板而使用的树脂层的膜厚非常薄,因此存在电屏蔽的影响会波及液晶层自身的问题。
本发明的课题之一为,提供一种用于抑制对液晶层的影响、并且谋求应对静电的对策的技术。
解决问题的手段
本发明的一实施方式中的液晶显示装置具有:第一基板,设置有像素电极及公共电极;第二基板,由树脂材料构成;液晶层,设置于所述第一基板与所述第二基板之间;光学膜,夹住所述第二基板并与所述液晶层对置;和导电层,夹住所述光学膜并与所述第二基板对置。作为所述导电层,能够使用包含导电性聚合物的层、或透明导电层。
附图说明
图1为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的外观构成的图。
图2为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的剖面构成的图。
图3A为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工艺的图。
图3B为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工艺的图。
图4A为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工艺的图。
图4B为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工艺的图。
图5A为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工艺的图。
图5B为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工艺的图。
图6A为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工艺的图。
图6B为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工艺的图。
图7为表示第二实施方式中的液晶显示装置20的剖面构成的图。
图8A为表示第二实施方式中的液晶显示装置20的制造工艺的图。
图8B为表示第二实施方式中的液晶显示装置20的制造工艺的图。
图9为表示第三实施方式中的液晶显示装置30的外观构成的图。
图10为表示第三实施方式中的液晶显示装置30的剖面构成的图。
附图标记说明
10、20、30…液晶显示装置,100…液晶单元,101…阵列基板,103…显示部,105…端子部,107…驱动用集成电路,109…对置基板,111,113…偏振膜,115…液晶层,117…密封件,119…导电层,201、203…玻璃基板,205…保护部件,207…粘接层,209…第一布线图案,211…第二布线图案
具体实施方式
以下,针对本发明的各实施方式,参照附图等进行说明。但是,本发明能够在不脱离其要旨的范围内以各种各样的方式实施,而不是限定解读为以下例示的实施方式中记载的内容。另外,关于附图,为了使说明更加明确,与实际方式相比,有时示意性地表示各部分的宽度、厚度、形状等,但上述示意性的图为一个例子,并不构成对本发明的解读的限定。此外,在本说明书和各图中,对于与关于既有的图而说明的功能相同的功能的要素而言,有时标注同一符号、并省略重复说明。
需要说明的是,在本说明书中,关于说明附图时的“上”、“下”、“外”、“内”等表述,表述的是所着眼的结构体与其他结构体的相对位置关系。例如,当以基板为基准时,可将从基板起远离的方向称为“上”、将靠近基板的方向称为“下”。另外,例如,将从显示部起远离的方向称为“外”、将靠近显示部的方向称为“内”。
(第一实施方式)
<液晶显示装置的构成>
图1为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的概略外观构成的图。液晶显示装置10具有:阵列基板101;形成于阵列基板101上的显示部103;对显示部103供给来自外部的信号的端子部105;配置于显示部103与端子部105之间的驱动用集成电路107;及与阵列基板101对置配置的对置基板109。另外,与阵列基板101邻接地设置偏振膜111、与对置基板109邻接地设置偏振膜113。需要说明的是,在后面进行描述,在成为显示面的偏振膜113的上表面上,设置具有透光性的导电层。
阵列基板101为设置有包括薄膜晶体管等半导体器件的多个像素电路(也简称为“像素”)的基板、也被称为有源矩阵基板。像素电路分别配置为矩阵状、构成显示部103。各像素电路为将半导体器件用作开关元件的电路,并且构成为通过控制开关元件的开(ON)/关(OFF)动作,对与各像素电路对应的液晶分子的取向进行控制。
图1中,示出了为了驱动显示部103中所含的薄膜晶体管、而设置驱动用集成电路107的例子,但也能够构成为在显示部103的周围设置由薄膜晶体管形成的栅极驱动器电路或源极驱动器电路。此时,上述栅极驱动器电路或源极驱动器电路通过从驱动用集成电路107接收的驱动信号而被驱动。关于驱动用集成电路107,也可使用外加的IC芯片等。
在阵列基板101与对置基板109之间保持液晶层115(参照图2)。有时将由阵列基板101、对置基板109及液晶层115构成的结构体称为液晶单元100。对置基板109使用由树脂材料构成的密封件117(参照图2)粘接于阵列基板101。根据需要,在对置基板109上设置滤光片或黑色掩膜(遮光层)。当设置黑色掩膜时,例如可将包含黑色颜料的绝缘层图案化从而设置。
偏振膜111及113为具有使入射光发生偏振的功能的光学膜。在本实施方式中,示出了使用碘系的偏振膜的例子,但不限于此。
图2为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的概略剖面构成的图。具体而言,图2示意性地示出了将图1所示液晶显示装置10沿以II-II’表示的单点划线切断而得的剖面。
图2中,阵列基板101及对置基板109为由有机树脂材料构成的树脂膜。在本实施方式中,作为有机树脂材料使用聚酰亚胺,但不限于此。例如,除聚酰亚胺膜外,还可使用PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜或FRP(纤维增强塑料)膜。
阵列基板101及对置基板109的厚度可以设为30μm以下(代表性的为10μm以上且20μm以下)。像这样,在本实施方式中,由于使用非常薄的树脂层,因此阵列基板101及对置基板109可用作具有挠性的基板。
需要说明的是,图2中没有表示,但阵列基板101的主表面(靠近液晶层115一侧的表面)上形成有使用半导体器件的多个像素电路、并构成前述显示部103。具体而言,构成像素电路的像素电极和公共电极共同设置于阵列基板101上。作为液晶显示装置以IPS模式或FFS模式进行显示所必须的像素电路的构成,这样的像素电路是公知的,因此省略详细说明。
密封件117以围绕显示部103的方式、沿阵列基板101的外周设置。并且,液晶层115被保持在由阵列基板101、对置基板109及密封件117围绕的空间。关于构成液晶层115的液晶,能够使用向列型液晶等。液晶层115的介电常数各向异性可以为正、也可以为负。通过以这种方式配置的阵列基板101、对置基板109、液晶层115及密封件117,构成本实施方式的液晶显示装置10中的液晶单元100。
本实施方式的液晶显示装置10具有碘系的偏振膜作为偏振膜111和113。基本上,碘系的偏振膜为用TAC(三乙酰纤维素)膜夹住将PVA(聚乙烯醇)的内部浸透碘化合物而得的PVA膜的结构。但本实施方式中能够使用的偏振膜只要具有偏振功能即可,没有特别限制。
一般而言,PVA膜的厚度为25~30μm左右、TAC膜的厚度为30μm以上且40μm以下左右。因此,偏振膜111及113的厚度整体上为90μm以上且110μm以下左右的厚度。如前所述,由于阵列基板101、对置基板109的厚度为30μm以下,因此与上述基板相比,偏振膜111及113的厚度具有3~4倍的厚度。
与对置基板109邻接的偏振膜113之上,作为应对静电的对策,设置有具有透光性的导电层119。导电层119能够使用例如由导电性聚合物构成的膜。作为导电性聚合物,例如能够使用聚噻吩、聚乙炔、聚对苯乙炔、聚吡咯、聚苯胺等。在形成由导电性聚合物构成的膜时,可将导电性聚合物混合于溶剂中而得的混合物(也称为导电性聚合物油墨)涂布于偏振膜113上、进行烧结从而使溶剂挥发。
另外,作为导电层119,可使用透明导电层。例如,作为透明导电层,能够使用由向氧化铟添加锡而得的ITO(Indium Tin Oxide)等金属氧化物构成的导电层。在形成由ITO形成的透明导电层时,可将ITO混合于溶剂中而得的混合物(也称为ITO油墨)涂布于偏振膜113上、进行烧结从而使溶剂挥发。
当然,只要是作为显示器而能够使用的程度的具有透光性的导电层即可,可使用任何导电层。例如,即便是金属层,只要对其进行薄膜化直至具有透光性的程度厚度、或具有微细的图案,则也可作为导电层119而使用。
本实施方式的液晶显示装置10而言,在驱动时,使液晶单元100内的公共电极的电位与导电层119的电位为同电位。由此,能够通过作为电屏蔽而发挥功能的导电层119、将例如由用户对触控面板的接触等而产生的静电的影响进行阻断。因此,能够防止诸如用于驱动构成液晶层115的液晶分子的电场由于来自外部的静电的影响而被扰乱等不良。
此外,由于导电层119设置于偏振膜113的外表面(即显示面)、因此导电层119与液晶层115之间的距离远。即,即便对导电层119供给规定的电位,液晶层115也难以受该电位的影响。例如,对置基板109的厚度为30μm以下(代表性的为10μm以上且20μm以下)、设置于其上的偏振膜113的厚度为70μm以上且110μm以下(代表性的为90μm以上且110μm以下)。因此,若将液晶层115的厚度设为3μm以上且4μm以下,液晶层115与导电层119之间的厚度成为液晶层115的厚度的10倍以上(优选为20倍以上)。
如上所述,对于本实施方式中的液晶显示装置10而言,通过在偏振膜113的外表面上设置导电层119,从而成为了能够抑制对液晶层115的影响、并且可实施应对静电的对策的结构。由此,即便通过触控面板等的操作而产生静电,也不会发生图像混乱等、能够确保可靠性高的显示性能。
<液晶显示装置的制造方法>
下面,针对本实施方式中的液晶显示装置10的制造方法,使用图3A~图6B进行说明。图3A~图6B为表示第一实施方式中的液晶显示装置10的制造工序的图。需要说明的是,为了便于说明,着眼于一个液晶单元100进行图示,但在实际的制造工艺中,使用大型玻璃基板作为支承基板、一次性形成多个液晶单元100。
首先,如图3A所示,在玻璃基板201之上形成阵列基板101。具体而言,在玻璃基板201上形成3μm以上且30μm以下左右的、由聚酰亚胺形成的树脂层,在其上利用薄膜半导体工艺形成薄膜晶体管、像素电极及公共电极等元件。由此,在阵列基板101上形成可由IPS模式或FFS模式驱动的多个像素电路。
玻璃基板201上形成阵列基板101后,接着形成密封件117。在本实施方式中,作为密封件117,使用紫外线固化型的环氧系树脂,但不限于此。
密封件117后,接着如图3B所示,贴合预先准备的对置基板109。对置基板109由聚酰亚胺等薄的树脂层构成,因此与阵列基板101同样地,在玻璃基板203之上形成对置基板109作为树脂层。也就是说,在图3B所示的过程中,成为下述构成:包括玻璃基板203和对置基板109的结构体通过密封件117而贴合。此时,根据需要,在对置基板109之上可设置滤光片或黑色掩膜。
密封件117将阵列基板101与对置基板109粘接后,接着如图4A所示,形成液晶层115。关于液晶层115,预先在密封件117的一部分中设置开口部、利用真空差压方式注入液晶,由此形成即可。在液晶注入后,用与密封件17相同的材料堵住前述开口部的话,即可在由阵列基板101、对置基板109、密封件117构成的空间内形成液晶层115。另外,关于液晶层115,也可以使用向预先由密封件117围绕的区域内滴加液晶材料的ODF(OneDropFill)方式来形成。
下面,如图4B所示,进行玻璃基板201及203的切断工序。作为切断工序,可使用公知的划线(Scribing)技术。例如,即可使用利用切割机的切断工序、也可以使用利用激光的切断工序。如图中箭头301所示,切断线设于邻接的液晶单元之间。
需要说明的是,在本实施方式中,由于是针对沿图1的II-II’表示的虚线切断而得的表面进行说明,因此玻璃基板201和玻璃基板203在相同位置被切断、但在配置端子部105的部分中,需要仅选择性地除去玻璃基板203。
如上所述,能够获得下述状态:在2片玻璃基板201、203之间形成有液晶单元100。
下面,如图5A所示,将玻璃基板203剥离。此时,首先,通过玻璃基板203照射紫外光、由此使玻璃基板203与对置基板109之间的界面的粘接力变弱。之后,以机械的方式从对置基板109将玻璃基板203剥离。例如,一边由吸附部件吸附玻璃基板203、一边从对置基板109抽离,由此可从对置基板109剥离。
玻璃基板203剥离后,如图5B所示,相对于对置基板109将偏振膜113粘接。对于偏振膜113的粘接而言,可使用公知的粘接层。对图示进行了省略,但如前所述在本实施方式中,作为偏振膜113,使用具有将包含碘的PVA用2片TAC膜夹住的结构的碘系偏振膜。
下面,如图6A所示,在偏振膜113之上形成导电层119。在本实施方式中,作为导电层119,使用了由导电性聚合物构成的膜,但只要是能与偏振膜113邻接而形成的导电层即可,也可使用由导电性聚合物构成的膜以外的导电层。需要说明的是,在本实施方式中,作为导电性聚合物,使用作为聚噻吩系聚合物的一种的PEDOT/PSS。
在本实施方式中,利用旋涂将使导电性聚合物混合于溶剂而得的混合物涂布于偏振膜113上,通过加热使溶剂挥发。经过这样的过程,能够在偏振膜113上形成由导电性聚合物构成的导电层119。但是,在这种情况下,由于需要经过烧结工序,因此对于所使用材料的选择,优选充分考虑液晶单元100及偏振膜113的耐热温度。
需要说明的是,作为导电材料,当代替导电性聚合物而使用ITO时,通过将使ITO混合于溶剂而得的混合物涂布于偏振膜113上并烧结,从而形成导电层119即可。由此,作为导电层119,能够形成由ITO构成的透明导电层。由ITO构成的透明导电层透光性优异,因此能够提高液晶显示装置10的亮度。
导电层119形成后,如图6B所示,将玻璃基板201剥离。对于玻璃基板201的剥离而言,利用与前述玻璃基板203相同的工艺即可。也就是说,通过玻璃基板201照射紫外光、使玻璃基板201与阵列基板101之间的界面处的粘接力变弱、在此基础上将玻璃基板201从阵列基板101剥离。
此后,相对于阵列基板101粘接偏振膜111,由此完成图2所示的液晶显示装置10。作为偏振膜111,能够使用与偏振膜113相同的偏振膜。
需要说明的是,在至此的说明中,作为导电层119,示出了使用覆盖液晶单元100的整个表面的薄膜的例子,但不限于此,也可使用具有图案的导电层119。导电层119的作用为作成使在外部产生的静电逃逸的通路,只要能确保上述作用即可,也可以以图案状设置导电层119。
例如,在使用涂布方式形成具有图案的导电层119时,使用如分配器或喷墨那样的、能够选择性地涂布溶液的方法即可。由此,宛如在偏振膜113上绘画那样,能够选择性地形成导电层119。
像这样,对于本实施方式的液晶显示装置10而言,通过将具有图案的导电层119设置于偏振膜113上,能够实时应对静电的对策。此时,与存在导电层119的区域的透射率相比,不存在导电层119的区域的透射率高,因此能够实现作为整体的亮度的提高。
(第二实施方式)
<液晶显示装置的构成>
以下,参照图7,对第二实施方式中的液晶显示装置20进行说明。需要说明的是,第二实施方式中的液晶显示装置20与前述第一实施方式中的液晶显示装置10的不同点在于,第二实施方式的液晶显示装置20中,导电层119预先形成于保护(Cover)部件205(第三基板的一个例子)、导电层119与偏振膜113通过粘接层207而粘接。因而,在本实施方式中,着眼于与第一实施方式不同的点进行说明,对于与第一实施方式的液晶显示装置10相同的部分,有时标注同一标记并省略说明。
图7为表示第二实施方式中的液晶显示装置20的概略剖面构成的图。如前所述,导电层119及第三基板(例如保护部件205)经由粘接层207而粘接于偏振膜113。作为保护部件205,能够使用玻璃材料或塑料材料。但是,为了保护液晶显示装置20,优选使用保护玻璃。需要说明的是,也可以在粘接层207中包含导电性粒子从而使之具有导电性。
像这样,在本实施方式中,构成为:预先相对于保护部件205形成导电层119,之后,使用粘接层207将偏振膜113与导电层119粘接。因此,可不用考虑液晶单元100及偏振膜113的耐热温度、来选择构成导电层119的材料,并且选择导电性聚合物时的自由度高。因此,可根据导电层119所要求的导电率或透射率来选择适当的导电性聚合物。
需要说明的是,关于粘接层207,只要是具有能够作为显示器而使用的水平的透光性的粘接层即可,没有特别限定。例如,还可使用将对置基板109与偏振膜113粘接时的粘接层。
<液晶显示装置的制造方法>
下面,针对本实施方式中的液晶显示装置20的制造方法,使用图8A及图8B说明。图8A及图8B为表示第二实施方式中的液晶显示装置20的制造工序的图。首先,如图8A所示,经过在第一实施方式中说明的制造工艺,制作由2片偏振膜111及113夹住液晶单元100而成的结构体。如前所述,液晶单元100包括阵列基板101、对置基板109、密封件117及液晶层115。
之后,在偏振膜113之上涂布粘接层207。关于粘接层207的涂布,可使用旋涂法、印刷法等技术来进行。
接着,准备预先在保护部件205(在本实施方式中,使用保护玻璃。)上形成了导电层119的结构体,如图8B所示,使用粘接层207以保护部件205成为外表面的方式粘接上述结构体。由此,经由粘接层207将偏振膜113与导电层119粘接、从而完成图8B所示的液晶显示装置20。
在本实施方式中,通过与图8A所示结构体的制造工艺不同的制造工艺在保护部件205上形成导电层119,因此无需如第一实施方式那样、考虑液晶单元100、以及偏振膜111及113的耐热性。因此,根据本实施方式,作为导电层119的形成方法,可选择各种各样的方法。例如,与第一实施方式同样地,可使用涂布将导电性聚合物或ITO等导电材料混合于溶剂中而得的混合物的方法,也可以使用利用溅射法等气相生长法形成ITO等透明导电层的方法。
需要说明的是,在至此的说明中,作为导电层119,示出了覆盖液晶单元100的整个表面的薄膜的例子,但不限于此,也可与第一实施方式同样地,使用具有图案的导电层119。此时,在利用涂布方式或溅射方式形成导电层119后,使用光刻进行图案化(patterning)、从而将导电层119图案化即可。在本实施方式的情况下,在保护部件205上预先形成导电层119,因此即便实施利用光刻进行的图案化、也不会特别地产生问题。
另外,也可通过喷墨等涂布方式、直接形成具有图案的导电层。此时,使银等导电性粒子分散于溶剂,将其进行选择性地涂布、由此形成由导电层形成的图案即可。
在第二实施方式中,也与第一实施方式同样地,通过将具有图案的导电层119设置于偏振膜113上,从而能够实施应对静电的对策。此时,由于与存在导电层119的区域的透射率相比,不存在导电层119的区域的透射率高,因此能够实现作为整体的亮度的提高。
(第三实施方式)
<液晶显示装置的构成>
以下,参照图9及图10,对第三实施方式中的液晶显示装置30进行说明。需要说明的是,第三实施方式中的液晶显示装置30与前述的第二实施方式中的液晶显示装置20的不同点在于,第三实施方式的液晶显示装置30中,作为应对静电的对策的导电层为由金属层或透明导电层构成的布线图案、并兼做触控面板的一方的电极。因而,在本实施方式中,着眼于与第二实施方式不同的点进行说明,对于与第二实施方式的液晶显示装置20相同的部分,有时标注同一标记并省略说明。
图9为表示第三实施方式中的液晶显示装置30的概略外观构成的图。另外,图10为表示第三实施方式中的液晶显示装置30的概略剖面构成的图。具体而言,图10示意性地表示将图9所示的液晶显示装置30沿X-X’所示的单点划线切断而得的剖面。
本实施方式的液晶显示装置30在对置基板109与液晶层115之间具有由金属层构成的第一布线图案209。上述第一布线图案209可在形成作为对置基板109而发挥功能的树脂层之后,使用透明导电层形成。另外,液晶显示装置30在偏振膜113与保护部件205之间具有由金属层构成的第二布线图案211。
第二布线图案211可以下述方式形成:相对于例如由玻璃等硬质材料构成的保护部件205,利用溅射法等气相生长法形成金属层或透明导电层后,使用光刻对上述层进行图案化从而形成。
在本实施方式中,由于相对于保护部件205形成第二布线图案211,因此无需考虑液晶单元100及偏振膜113的耐热性。另外,由于保护部件205还具有相对于水分的耐性,因此对于使用光刻这一方面而言,也不存在特别的制约。因此,具有如下效果:利用气相生长法能够形成膜品质良好、电阻值低的金属层、透明导电层,并且利用光刻能够实现设计自由度高的布线图案。当然,不限于此,也可以使用喷墨等涂布方式直接形成第二布线图案211。
并且,在本实施方式的液晶显示装置30中,第二布线图案211具有作为防止静电的屏蔽的功能、和作为触控面板的一方的电极(扫描电极或检测电极)的功能。特别的,使第二布线图案211具有作为触控面板的一方的电极的功能的基础上,上述效果是有效的。
但是,当第二布线图案211由金属层构成时,优选使布线图案的宽度充分变窄、确保图案间的间隙宽。此时,由于图案间的间隙作为透光区域而发挥功能,因此,为了防止亮度的降低,重要的是尽可能使上述透光区域变宽。
另外,当第二布线图案211由金属层构成时,能够使用与由导电性聚合物构成的导电层或ITO等透明导电层相比电阻值低的金属层,因此能够使由于用户对触控面板的操作而产生的静电快速向外部逃逸。
(变形例)
在上述第一实施方式、第二实施方式及第三实施方式中,针对使用偏振膜夹住液晶单元100的构成进行了说明,但根据需要,也可组合使用偏振膜以外的光学膜。即,作为光学膜,除了偏振膜外,还能包括相位差膜、视角扩大膜、亮度提高膜及反射膜中的至少一种。
任一情况下,通过在作为用于应对静电的对策中使用的屏蔽而发挥功能的导电层与液晶单元之间存在上述光学膜,均能够抑制对液晶层的影响、并且谋求应对静电的对策。
本发明的要旨的范围内,基于作为本发明的实施方式而说明的显示装置,本领域技术人员通过适当地进行构成要素的追加、删除或设计变更、或进行工序的追加、省略或条件变更而得到的显示装置包含于本发明的范围内。
另外,对于与通过上述实施方式的方案而带来的作用效果不同的其他作用效果,从本说明书的记载可以明确的、或对于本领域技术人员而言容易预测到的作用效果,当然也应解读为由本发明带来的作用效果。

Claims (10)

1.一种液晶显示装置,具有:
设置有像素电极及公共电极的第一基板,
由树脂材料构成的第二基板,
设置于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层,
与所述液晶层对置的光学膜,和
与所述第二基板对置的导电层,
所述第二基板位于所述光学膜与所述液晶层之间,
所述光学膜位于所述第二基板与所述导电层之间。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置,所述第二基板的厚度为30μm以下。
3.如权利要求1或2所述的液晶显示装置,所述导电层为包含导电性聚合物的层、或透明导电层。
4.如权利要求3所述的液晶显示装置,在所述液晶层与所述第二基板之间还具有滤光片。
5.如权利要求1或2所述的液晶显示装置,在所述液晶层与所述第二基板之间还具有滤光片。
6.如权利要求1或2所述的液晶显示装置,还具有与所述光学膜对置的第三基板,所述导电层位于所述光学膜与所述第三基板之间。
7.如权利要求5所述的液晶显示装置,所述导电层为形成在所述第三基板上、且具有图案的导电层。
8.如权利要求1或2所述的液晶显示装置,所述液晶层与所述导电层之间的厚度为所述液晶层的厚度的10倍以上。
9.如权利要求1或2所述的液晶显示装置,在所述液晶层与所述第二基板之间还具有包含黑色颜料的绝缘层。
10.如权利要求1或2所述的液晶显示装置,所述第一基板由树脂材料构成。
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