CN106908880B - 一种漫反射性高的反射膜及其制备方法 - Google Patents

一种漫反射性高的反射膜及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种应用于液晶背光源中的反射膜，特别涉及一种漫反射性高的反射膜及其制备方法。为了解决现有背光模组中容易产生暗影的问题，本发明提供一种漫反射性高的反射膜及其制备方法。所述反射膜包括反射膜基材和涂层，所述反射膜基材具有ABA三层共挤结构，所述涂层在涂布之前先配制成涂布液，所述涂布液包括下述组份：溶剂44‑76％，胶黏剂20‑35％，异氰酸酯交联剂1‑8％，大粒径粒子1‑5％，大粒径粒子的粒径为15‑30μm；小粒径粒子2‑8％，小粒径粒子的粒径为5‑15μm；所述的百分含量为重量百分含量。本发明提供的漫反射性高的反射膜应用于液晶显示背光模组中，避免了使用时暗影的产生。

Description

一种漫反射性高的反射膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种应用于液晶背光源中的反射膜，特别涉及一种漫反射性高的反射膜及其制备方法。
背景技术
近年来液晶显示器的发展趋势趋向于薄型化，同时作为液晶显示器的重要组成部分之一——背光模组也向着薄型化的方向发展，但是传统的反射膜组装到点亮的薄型化背光模组中容易出现品质差的问题，主要表现在点亮的背光模组中光线分布不均匀，能观察到明显的LED灯影(也称为暗影)，这种现象严重阻碍了薄型化背光模组的发展。现有背光模组，特别是短OD背光模组中容易产生暗影(OD指的是直下式背光模组中LED灯到扩散板的距离，短OD指的是直下式背光模组中LED灯到扩散板的距离较正常的短)。
由于反射膜原因导致背光模组中灯影的产生主要是由于：1、反射膜的亮度低；2、反射膜的亮度分布不均匀，即均齐度低；3、反射膜的SCE反射率低。
为了适应市场需求，开发亮度、均齐度和SCE反射率高的反射膜，顺应市场的发展，已成为趋势。
发明内容
为了解决现有背光模组中容易产生暗影的问题，本发明提供一种漫反射性高的反射膜及其制备方法。本发明提供的漫反射性高的反射膜应用于液晶显示背光模组，特别是短OD背光模组中，避免了使用时暗影的产生，解决了光线亮暗不均匀(“光线亮暗不均匀”与“暗影”的含意相同)的问题。
为了解决上述技术问题，本发明提供下述技术方案：
本发明提供一种漫反射性高的反射膜，所述反射膜包括反射膜基材(也称为反射膜基膜)和涂层，所述反射膜基材具有ABA三层共挤结构，所述涂层涂布于反射膜基材的一个表面上；所述涂层在涂布之前先配制成涂布液，所述涂布液包括下述组份：溶剂44-76％，胶黏剂20-35％，异氰酸酯交联剂1-8％，大粒径粒子1-5％，大粒径粒子的粒径为15-30μm；小粒径粒子2-8％，小粒径粒子的粒径为5-15μm；所述的百分含量为重量百分含量。
上述异氰酸酯交联剂是指起交联剂作用的异氰酸酯。进一步的，所述异氰酸酯交联剂是脂肪族聚异氰酸酯。
进一步的，所述涂层的厚度为大粒径粒子粒径的1/2-3/4，即7.5-22.5μm。进一步的，所述大粒径粒子为球形或椭球形。
进一步的，涂层厚度为20μm。
进一步的，在所述的漫反射性高的反射膜中，所述反射膜基材为ABA三层共挤结构；所述反射膜基材的B层包括下列组份：聚酯69-92％，无机粒子5-15％，所述无机粒子的粒径为2-5μm，有机发泡剂2-8％，抗静电剂1-8％；所述反射膜基材的A层包括下列组份：聚酯80-95％，二氧化硅粒子5-20％，所述二氧化硅粒子的粒径为2-5μm。
进一步的，所述的聚酯为PET。
进一步的，所述的有机发泡剂为与聚酯不相容的聚烯烃类树脂。
进一步的，所述的无机粒子选自TiO2、BaSO4、CaCO3、SiO2中的一种或至少两种的组合。
所用的胶黏剂选自丙烯酸酯胶黏剂、水性聚氨酯胶黏剂、环氧树脂胶黏剂、聚醋酸乙烯酯胶黏剂、或异氰酸酯胶黏剂中的一种或至少两种的组合。
所述的反射膜基材发泡均匀，内部分布有均匀的泡孔。进一步的，泡孔呈椭圆形，长径为0.03-3μm，短径为0.01-1μm。
所述反射膜基材厚度为100-300μm，一个A层的厚度占反射膜基材总厚度的6-11％，B层厚度占总厚度的78-88％。
进一步的，所述反射膜基材厚度为188μm。
进一步的，一个A层的厚度占反射膜基材总厚度的8％，B层厚度占总厚度的84％。
进一步的，在所述的漫反射性高的反射膜中，所述大粒径粒子选自聚苯乙烯(PS)粒子、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)粒子、或聚酯(PET)粒子中的一种或至少两种的组合；所述小粒径粒子选自聚苯乙烯(PS)粒子、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)粒子、或聚酯(PET)粒子中的一种或至少两种的组合。
进一步的，在所述的漫反射性高的反射膜中，所述反射膜基材中，A层的材料包括PET切片85-90％，SiO2粒子10-15％。前述技术方案的数值范围对应实施例5、16和19。
进一步的，在所述的漫反射性高的反射膜中，所述反射膜基材中，B层的材料包括73-74％的PET切片，12-13％金红石型的TiO2、BaSO4或SiO2，6-7％的聚甲基戊烯或环状烯烃共聚树脂，7-8％的抗静电剂。前述技术方案的数值对应实施例5、16和19。
进一步的，在所述的漫反射性高的反射膜中，所述涂布液包括下述组份：44-76％混合溶剂，20-35％丙烯酸酯胶黏剂或水性聚氨酯胶黏剂或环氧树脂或聚醋酸乙烯酯或异氰酸酯胶黏剂，1-8％异氰酸酯，1-5％大粒径粒子，2-8％小粒径粒子。
进一步的，在所述的漫反射性高的反射膜中，所述涂布液的材料包括下述组份：44-60％混合溶剂，30-35％胶黏剂，1-8％异氰酸酯，2-5％大粒径粒子，4-8％小粒径粒子。前述技术方案的数值范围对应实施例5、16和19。
进一步的，在所述的漫反射性高的反射膜中，所述涂布液的材料包括下述组份：59-60％混合溶剂，30％胶黏剂，1-5％异氰酸酯，2-3％大粒径粒子，4-6％小粒径粒子。前述技术方案的数值范围对应实施例5和16。
进一步的，所述大粒径粒子选自聚苯乙烯大粒径粒子或聚酯大粒径粒子。所述小粒径粒子选自聚甲基丙烯酸甲酯小粒径粒子或聚酯小粒径粒子。
进一步的，所述涂布液中的溶剂是混合溶剂。进一步的，所述的混合溶剂选自甲苯、丁酮、乙酸乙酯中的两种的组合物，所述组合物中两种组份的质量比为1:2-4:3。
所述混合溶剂选自丁酮和乙酸乙酯的组合物(丁酮:乙酸乙酯＝1:2-1:1)，丁酮和甲苯的组合物(丁酮:甲苯＝1:2-4:3)，或甲苯和乙酸乙酯的组合物(甲苯:乙酸乙酯＝1:2-1:1)。
本发明还提供所述漫反射性高的反射膜的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：
(1)将B层的原料按配比混合均匀后加入主挤出机，将A层的原料按配比混合均匀加入辅挤出机，熔融挤出、流延铸片；
(2)将铸片进行纵向拉伸、横向拉伸、热定型，制得所需的反射膜基材；
(3)将涂层所用的混合溶剂、大粒径粒子、小粒径粒子、胶黏剂、异氰酸酯交联剂配制成涂布液，并对反射膜基材表面进行电晕处理，将配好的涂布液涂布于反射膜基材的电晕面上；
(4)将步骤(3)所得的涂布后的基材干燥后收卷；
(5)将步骤(4)所得的卷膜送入烘房熟化24-48小时，熟化温度为25-60℃，得到漫反射性高的反射膜。
进一步的，熟化温度优选为50-60℃。
本发明还提供一种背光装置，所述背光装置包括光源、扩散板、反射膜、扩散膜、增亮膜和边框，所述反射膜为本发明所述的漫反射性高的反射膜。
与现有反射膜相比，本发明提供的漫反射性高的反射膜的有益效果在于：1、通过在反射膜基材上涂布一层大粒径粒子和小粒径粒子来增加反射膜的SCE反射率；2、通过有机发泡剂和无机粒子通过双拉形成的泡孔，均匀性好，提高了反射膜的亮度和均齐度。本发明提供的漫反射性高的反射膜应用于液晶显示背光模组中，避免了使用时暗影的产生，解决了亮暗不均的问题，能够满足平板显示器大尺寸、薄型化、轻量化、成本低的发展方向。
附图说明
图1为本发明提供的漫反射性高的反射膜的结构示意图；
图2为本发明提供的背光装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施方式和说明书附图，对本发明作进一步详细说明。
如图1所示，本发明提供一种漫反射性高的反射膜，所述的漫反射性高的反射膜，包括具有ABA三层共挤结构的反射膜基材和在反射膜基材的一个面上涂布的一层含有大小两种粒径粒子的涂层，反射膜基材包括反射层(B层)2和表层(A层)1，反射层2内具有有机发泡剂形成的均匀的泡孔5和无机粒子4经双向拉伸形成的均匀的泡孔，反射层2和表面层1内都添加有无机粒子4，涂层3内具有大粒径粒子7、和小粒径粒子6。
如图2所示，本发明提供一种背光装置，所述背光装置包括光源1、扩散板3、本发明提供的漫反射性高的反射膜2、扩散膜4、增亮膜5和边框6。
本发明提供的漫反射性高(即漫反射率高)的反射膜的主要性能的测试方法简述如下：
亮度(即辉度)的测试方法：将反射膜组装进背光模组，将背光模组的发光面分为5×5的25个区，点亮背光模组，使用弗士达BM-7A辉度计进行测定，测定角度为1°，辉度计与背光源单面发光面的距离为50cm，测得背光模组单面发光面内25个点的辉度，求得25个点的辉度的算术平均值作为反射膜的亮度。
均齐度的测试方法：将反射膜组装进背光模组，将背光模组的发光面分为5×5的25个区，点亮背光模组，使用弗士达BM-7A亮度计进行测定，测定角度为1°，辉度计与背光源单面发光面的距离为50cm，测得背光模组单面发光面内25个部位的辉度，求得均齐度，均齐度＝辉度的最小值/辉度的最大值×100％。均齐度越高说明反射膜的亮度均匀性越好。
SCE反射率的测试方法：使用Color Quest XE型分光光度计测试，使用ColorQuest XE型分光光度计测试反射率时使用SCE测量模式，所以叫SCE反射率，在使用SCE测量模式时，镜面反射光被排除在外面，只测漫射光，所以SCE反射率越高，则表示样品的漫反射性越高。
暗影的测试方法：将反射膜组装进背光模组，点亮背光模组，肉眼观察背光模组上面有无黑色灯影或者亮度分布不均匀，黑色灯影越多或者亮暗分明，说明暗影严重，无黑色灯影产生或者亮度分布均匀，说明无暗影产生。
实施例1
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为80％PET切片，20％二氧化硅粒子。B层配比为90％PET切片，5％金红石型TiO2，2％环状烯烃共聚树脂，3％抗静电剂。涂层配比为76％溶剂(丁酮:乙酸乙酯＝1:2)，20％丙烯酸酯胶黏剂，1％脂肪族聚异氰酸酯，1％粒径为15-20μm的聚苯乙烯粒子，2％粒径为5-10μm的聚苯乙烯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例2
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为82％PET切片，18％二氧化硅粒子。B层配比为86％PET切片，7％金红石型TiO2，3％环状烯烃共聚树脂，4％抗静电剂。涂层配比为71％溶剂(丁酮:甲苯＝1:1)，23％水性聚氨酯胶黏剂，2％脂肪族聚异氰酸酯，1％粒径为20-25μm的聚甲基丙烯酸甲酯粒子，3％粒径为10-15μm的聚苯乙烯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例3
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为85％PET切片，15％二氧化硅粒子。B层配比为82％PET切片，9％金红石型TiO2，4％聚甲基戊烯，5％抗静电剂。涂层配比为67％溶剂(甲苯:乙酸乙酯＝1:1)，25％环氧树脂胶黏剂，3％脂肪族聚异氰酸酯，1％粒径为25-30μm的聚甲基丙烯酸丁酯粒子，4％粒径为10-15μm的聚苯乙烯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例4
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为88％PET切片，12％二氧化硅粒子。B层配比为78％PET切片，11％金红石型TiO2，5％环状烯烃共聚树脂，6％抗静电剂。涂层配比为64％溶剂(丁酮:乙酸乙酯＝1:1)，28％丙烯酸酯胶黏剂，4％脂肪族聚异氰酸酯，2％粒径为25-30μm的聚酯粒子，2％粒径为5-10μm的聚苯乙烯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例5
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为90％PET切片，10％二氧化硅粒子。B层配比为74％PET切片，12％金红石型TiO2，7％环状烯烃共聚树脂，7％抗静电剂。涂层配比为59％溶剂(丁酮:甲苯＝4:3)，30％丙烯酸酯胶黏剂，5％脂肪族聚异氰酸酯，2％粒径为15-20μm的聚苯乙烯粒子，4％粒径为10-15μm的聚甲基丙烯酸甲酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例6
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为93％PET切片，7％二氧化硅粒子。B层配比为70％PET切片，15％金红石型TiO2，7％聚甲基戊烯，8％抗静电剂。涂层配比为53％溶剂(甲苯:乙酸乙酯＝1:1)，33％水性聚氨酯胶黏剂，6％脂肪族聚异氰酸酯，2％粒径为25-30μm的聚甲基丙烯酸甲酯粒子，6％粒径为5-10μm的聚甲基丙烯酸甲酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例7
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为95％PET切片，5％二氧化硅粒子。B层配比为75％PET切片，15％金红石型TiO2，8％环状烯烃共聚树脂，2％抗静电剂。涂层配比为48％溶剂(丁酮:乙酸乙酯＝3:4)，35％环氧树脂胶黏剂，7％脂肪族聚异氰酸酯，2％粒径为15-20μm的聚甲基丙烯酸丁酯粒子，8％粒径为10-15μm的聚甲基丙烯酸甲酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例8
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为80％PET切片，20％二氧化硅粒子。B层配比为78％PET切片，13％金红石型TiO2，8％环状烯烃共聚树脂，1％抗静电剂。涂层配比为66％溶剂(丁酮:甲苯＝3:4)，20％丙烯酸酯胶黏剂，8％脂肪族聚异氰酸酯，3％粒径为15-20μm的聚酯粒子，3％粒径为10-15μm的聚甲基丙烯酸甲酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例9
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为82％PET切片，18％二氧化硅粒子。B层配比为81％PET切片，11％金红石型TiO2，7％环状烯烃共聚树脂，1％抗静电剂。涂层配比为60％溶剂(甲苯:乙酸乙酯＝3:4)，23％聚醋酸乙烯酯胶黏剂，8％脂肪族聚异氰酸酯，3％粒径为25-30μm的聚苯乙烯粒子，6％粒径为5-10μm的聚甲基丙烯酸丁酯粒子，所述百分比为重量百分比。A层厚度占总厚度8％，B层厚度占总厚度84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例10
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为85％PET切片，15％二氧化硅粒子。B层配比为83％PET切片，9％金红石型TiO2，6％聚甲基戊烯，2％抗静电剂。涂层配比为60％溶剂(丁酮:乙酸乙酯＝1:1)，25％水性聚氨酯胶黏剂，7％脂肪族聚异氰酸酯，4％粒径为25-30μm的聚甲基丙烯酸甲酯粒子，4％粒径为5-10μm的聚甲基丙烯酸丁酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例11
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为88％PET切片，12％二氧化硅粒子。B层配比为85％PET切片，7％金红石型TiO2，5％环状烯烃共聚树脂，3％抗静电剂。涂层配比为54％溶剂(丁酮:甲苯＝1:2)，28％丙烯酸酯胶黏剂，6％脂肪族聚异氰酸酯，4％粒径为25-30μm的聚甲基丙烯酸丁酯粒子，8％粒径为10-15μm的聚甲基丙烯酸丁酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例12
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为90％PET切片，10％二氧化硅粒子。B层配比为87％PET切片，5％金红石型TiO2，4％环状烯烃共聚树脂，4％抗静电剂。涂层配比为55％溶剂(甲苯:乙酸乙酯＝1:2)，30％异氰酸酯胶黏剂，5％脂肪族聚异氰酸酯，5％粒径为15-20μm的聚酯粒子，5％粒径为5-10μm的聚甲基丙烯酸丁酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例13
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为93％PET切片，7％二氧化硅粒子。B层配比为85％PET切片，7％金红石型TiO2，3％聚甲基戊烯，5％抗静电剂。涂层配比为57％溶剂(丁酮:乙酸乙酯＝1:1)，33％环氧树脂胶黏剂，4％脂肪族聚异氰酸酯，2％粒径为15-20μm的聚苯乙烯粒子，4％粒径为10-15μm的聚酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例14
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为95％PET切片，5％二氧化硅粒子。B层配比为83％PET切片，9％金红石型TiO2，2％环状烯烃共聚树脂，6％抗静电剂。涂层配比为54％溶剂(丁酮:甲苯＝1:1)，35％丙烯酸酯胶黏剂，3％脂肪族聚异氰酸酯，2％粒径为15-20μm的聚甲基丙烯酸甲酯粒子，6％粒径为5-10μm的聚酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例15
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为82％PET切片，18％二氧化硅粒子。B层配比为77％PET切片，11％金红石型TiO2，5％环状烯烃共聚树脂，7％抗静电剂。涂层配比为64％溶剂(甲苯:乙酸乙酯＝1:1)，28％丙烯酸酯胶黏剂，2％脂肪族聚异氰酸酯，3％粒径为15-20μm的聚甲基丙烯酸丁酯粒子，3％粒径为10-15μm的聚酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例16
本发明提供的漫反射性高的反射膜，A层配比为85％PET切片，15％二氧化硅粒子。B层配比为73％PET切片，13％金红石型TiO2，6％聚甲基戊烯，8％抗静电剂。涂层配比为60％溶剂(丁酮:乙酸乙酯＝1:2)，30％丙烯酸酯胶黏剂，1％脂肪族聚异氰酸酯，3％粒径为25-30μm的聚酯粒子，6％粒径为5-10μm的聚酯粒子，所述百分比为重量百分比。一个A层的厚度占反射膜基材的总厚度的8％，B层厚度占反射膜基材总厚度的84％，反射膜基材厚度为188μm，涂层厚度为20μm。相关性能见表2。
实施例17
如实施例5提供的漫反射性高的反射膜，其中，B层配比为69％PET切片，15％BaSO4、，8％聚甲基戊烯，8％抗静电剂。
实施例18
如实施例5提供的漫反射性高的反射膜，其中，B层配比为92％PET切片，5％SiO2，2％聚甲基戊烯，1％抗静电剂。
实施例19
如实施例16提供的漫反射性高的反射膜，其中，涂层配比为44％溶剂(丁酮:乙酸乙酯＝1:2)，35％丙烯酸酯胶黏剂，8％脂肪族聚异氰酸酯，5％粒径为25-30μm的聚酯粒子，8％粒径为5-10μm的聚酯粒子，所述百分比为重量百分比。
表1实施例1-19所述技术方案中的A层、B层和涂层的配比
表2实施例1-19所得漫反射性高的反射膜性能测试表
由上表所示测试结果可以得出，本发明提供的漫反射性高的反射膜应用在背光模组中时，亮度、均齐度和SCE反射率都较高，并且无暗影或只有轻微的暗影。特别的，实施例5、16、19所得到的漫反射性高的反射膜的亮度大于4270cd/m2，均齐度大于71.00％，SCE反射率大于97.00％，特别的，实施例16同时具有较高的亮度、均齐度和SCE反射率。SCE反射率高说明反射膜的漫反射性高。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰，均涵盖在本发明的专利范围内。

Claims (9)

1.一种漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜包括反射膜基材和涂层，所述反射膜基材具有ABA三层共挤结构，所述涂层涂布于反射膜基材的一个表面上；所述涂层在涂布之前先配制成涂布液，所述涂布液由下述组份组成：溶剂44-76％，胶黏剂20-35％，异氰酸酯交联剂1-8％，大粒径粒子1-5％，大粒径粒子的粒径为15-30μm；小粒径粒子2-8％，小粒径粒子的粒径为5-15μm；所述的百分含量为重量百分含量；
所述反射膜基材为ABA三层共挤结构；所述反射膜基材的B层由下列组份组成：聚酯69-92％，无机粒子5-15％，所述无机粒子的粒径为2-5μm，有机发泡剂2-8％，抗静电剂1-8％；所述反射膜基材的A层由下列组份组成：聚酯80-95％，二氧化硅粒子5-20％，所述二氧化硅粒子的粒径为2-5μm。
2.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述大粒径粒子选自聚苯乙烯(PS)粒子、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)粒子、或聚酯(PET)粒子中的一种或至少两种的组合；所述小粒径粒子选自聚苯乙烯(PS)粒子、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)粒子、或聚酯(PET)粒子中的一种或至少两种的组合。
3.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜基材中，A层的材料包括PET切片85-90％，SiO2粒子10-15％。
4.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜基材中，B层的材料包括73-74％的PET切片，12-13％金红石型的TiO2、BaSO4或SiO2，6-7％的聚甲基戊烯或环状烯烃共聚树脂，7-8％的抗静电剂。
5.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液包括下述组份：44-76％混合溶剂，20-35％丙烯酸酯胶黏剂或水性聚氨酯胶黏剂或环氧树脂或聚醋酸乙烯酯或异氰酸酯胶黏剂，1-8％异氰酸酯，1-5％大粒径粒子，2-8％小粒径粒子。
6.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液的材料包括下述组份：44-60％混合溶剂，30-35％胶黏剂，1-8％异氰酸酯，2-5％大粒径粒子，4-8％小粒径粒子。
7.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液的材料包括下述组份：59-60％混合溶剂，30％胶黏剂，1-5％异氰酸酯，2-3％大粒径粒子，4-6％小粒径粒子。
8.一种权利要求1所述的漫反射性高的反射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
(1)将B层的原料按配比混合均匀后加入主挤出机，将A层的原料按配比混合均匀加入辅挤出机，熔融挤出、流延铸片；
(2)将铸片进行纵向拉伸、横向拉伸、热定型，制得所需的反射膜基材；
(3)将涂层所用的混合溶剂、大粒径粒子、小粒径粒子、胶黏剂、异氰酸酯交联剂配制成涂布液，并对反射膜基材表面进行电晕处理，将配好的涂布液涂布于反射膜基材的电晕面上；
(4)将步骤(3)所得的涂布后的基材干燥后收卷；
(5)将步骤(4)所得的卷膜送入烘房熟化24-48小时，熟化温度为25-60℃，得到漫反射性高的反射膜。
9.一种背光装置，其特征在于，所述背光装置包括光源、扩散板、反射膜、扩散膜、增亮膜和边框，所述反射膜为权利要求1所述的漫反射性高的反射膜。
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Assignee: Ningbo Changlong New Material Co.,Ltd.

Assignor: NINGBO SOLARTRON TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Contract record no.: X2021330000199

Denomination of invention: The invention relates to a reflective film with high diffuse reflectance and a preparation method thereof

Granted publication date: 20190514

License type: Common License

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