CN106896555B - 一种抗闪光盖板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种抗闪光盖板,其包括一透明的盖板本体,所述盖板本体背向所述液晶显示面板一面设有多个抗闪光单元;所述多个抗闪光单元按阵列方式排布,且当所述盖板本体与所述液晶显示面板接合后,所述多个抗闪光单元与所述液晶显示面板的多个子像素单元一一对应,每个所述抗闪光单元的面积与对应的一个所述子像素单元的面积相同;其中,每个所述抗闪光单元设有多个透光的微结构,且所述多个微结构呈无序排列,当所述液晶显示面板的光线射出至所述抗闪光单元,所述抗闪光单元可使避免该光线在所述盖板本体的表面发生闪光的问题。本发明使得盖板减轻了闪光现象,达到户外可读性增强的效果。

Description

一种抗闪光盖板及其制作方法
【技术领域】
本发明涉及液晶显示领域,特别涉及一种抗闪光盖板及其制作方法。
【背景技术】
液晶显示装置(LCD,Liquid Crystal Display)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。TFT-LCD在日常生活中已经很普及,如电视、电脑、手机等显示屏,该领域技术不断更新以更好的服务消费者。不断的产品升级使对TFT-LCD更高的要求,提出了更高的产品品质的要求。
随着车载显示的日益发展,越来越多的车载显示技术被开发出来,其中车载设备表面的抗眩处理引起人们的广泛兴趣。AG(anti-glare,抗眩)处理技术发展较为成熟,但更多是使用在车载这样低分辨率的显示设备上,在手机等高分辨率的小尺寸盖板方面的应用较少。其中最重要的原因是AG盖板用在小尺寸盖板上,由于高分辨率的因素会产生较为明显的sparkle(闪光)现象,而sparkle现象产生的主要原因是由于盖板表面的凹凸不平产生的光散射效应,导致画质信息在进入人眼视觉后发生了信息的丢失或增加,是画质内容发生改变。此种现象在分辨率较低的显示设备中表现不显著,但是在高分辨率的面板中表现尤为明显,最终造成抗闪光盖板在手机等小尺寸面板方面的应用受到限制。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种抗闪光盖板及其制作方法,以解决现有技术中,由于盖板表面的凹凸不平产生的光散射效应,导致画质信息在进入人眼视觉后发生了信息的丢失或增加,是画质内容发生改变的问题。
本发明的技术方案如下:
一种抗闪光盖板,用于遮盖液晶显示面板,包括一透明的盖板本体,所述盖板本体背向所述液晶显示面板一面设有多个抗闪光单元;
所述多个抗闪光单元按阵列方式排布,且当所述盖板本体与所述液晶显示面板接合后,所述多个抗闪光单元与所述液晶显示面板的多个子像素单元一一对应,每个所述抗闪光单元的面积与对应的一个所述子像素单元的面积相同;
其中,每个所述抗闪光单元设有多个透光的微结构,且所述多个微结构呈无序排列,当所述液晶显示面板的光线射出至所述抗闪光单元,所述抗闪光单元可使避免该光线在所述盖板本体的表面发生闪光的问题。
优选地,各个所述抗闪光单元的多个所述微结构的形状、个数及排列均相同。
优选地,多个所述微结构为形状与大小互不相同的竖截面为圆弧状的凸包,其中所述凸包的制作材料与所述盖板本体的制作材料具有相同或相似的物理性质。
优选地,所述凸包与所述盖板本体的接触面为椭圆形面或圆形面,该椭圆形面的内径范围为2~10um。
优选地,所述凸包的高宽比为0.1~0.5。
优选地,所述凸包的曲率半径为2~30um。
优选地,弦切角为0°~10°的所述凸包的个数占总数的50%~90%。
优选地,所述盖板本体为玻璃基板。
一种如上所述的抗闪光盖板的制作方法,该制作方法包括以下步骤:
1)在玻璃基板上涂覆透明有机材料层;
2)在所述透明有机材料层上涂覆光阻层;
3)根据多个所述抗闪光单元的多个所述微结构的形状准备设定光罩,通过将紫外光线照射所述设定光罩,使所述光阻层形成多个所述抗闪光单元上的多个所述微结构的形状;
4)去除所述光阻层,并使所述透明有机材料层形成所述抗闪光单元上的所述多个微结构的形状。
优选地,所述光阻层的光阻为正性光阻,且通过蚀刻的方式蚀刻掉所述光阻层。
本发明的有益效果:
本发明通过在盖板本体表面形成多个按阵列方式排布的抗闪光单元,且当盖板本体与液晶显示面板接合后,多个抗闪光单元与液晶显示面板的多个子像素单元一一对应,每个抗闪光单元的面积与对应的一个子像素单元的面积相同;其中,每个抗闪光单元设有多个透光的微结构,且多个微结构呈无序排列,当所述液晶显示面板的光线射出至所述抗闪光单元,所述抗闪光单元可使避免该光线在所述盖板本体的表面发生闪光的问题。从而使得盖板本体的透光区域有较好的抗眩抗闪光的效果,同时由于图案的周期性和不连续性,减轻了闪光现象,达到户外可读性增强的效果。
【附图说明】
图1为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,在玻璃基板上涂覆透明有机材料层的示意图;
图2为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,在透明有机材料层上涂覆光阻层的示意图;
图3为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,将紫外光线照射在设定光罩上的示意图;
图4为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,光阻层形成多个所述抗闪光单元上的多个所述微结构的形状的示意图;
图5为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,透明有机材料层形成多个所述抗闪光单元上的多个所述微结构的形状的示意图;
图6为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,透明有机材料层形成多个所述抗闪光单元上的多个所述微结构的经过热熔后形成近似于圆弧状的示意图;
图7为本发明实施例的一种抗闪光盖板的整体结构的俯视图。
【具体实施方式】
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
实施例一
请参考图7,图7为本实施例的一种抗闪光盖板的整体结构的俯视图。本发明的一种抗闪光盖板,用于遮盖液晶显示面板,从图7可以看到,其包括一透明的盖板本体10,所述盖板本体10背向所述液晶显示面板一面设有多个抗闪光单元20。
所述多个抗闪光单元20按阵列方式排布,且当所述盖板本体10与所述液晶显示面板接合后,所述多个抗闪光单元20与所述液晶显示面板的多个子像素单元一一对应,每个所述抗闪光单元20的面积与对应的一个所述子像素单元的面积相同。
其中,每个所述抗闪光单元20设有多个透光的微结构30,且所述多个微结构30呈无序排列,当所述液晶显示面板的光线射出至所述所述抗闪光单元20,所述抗闪光单元20可使避免该光线在所述盖板本体10的表面发生闪光的问题。
在本实施例中,各个所述抗闪光单元20的多个所述微结构30的形状、个数及排列方式均相同。这样,盖板本体10就呈现出局部无序而整体有序的图案,将多个所述微结构30设在盖板本体10上的跟一个子像素单元那么大的区域内,使得盖板本体10有较好的抗眩和抗闪光效果。
在本实施例中,多个所述微结构30为形状与大小互不相同的竖截面为圆弧状的凸包,其中所述凸包的制作材料与所述盖板本体10的制作材料具有相同或相似的物理性质。
在本实施例中,所述凸包与所述盖板本体10的接触面为椭圆形面或圆形面,该椭圆形面的内径范围为2~10um。
在本实施例中,所述凸包的高宽比为0.1~0.5,所述凸包的曲率半径为2~30um,弦切角为0°~10°的所述凸包的个数占总数的50%~90%。以上数据是经过实践验证之后得出来的有效经验阈值,
在本实施例中,所述盖板本体10为透明的玻璃基板。
在本实施例中,亦可优选所述微结构30为大小不一的竖截面为圆弧状的凹槽,其中所述凹槽在所述盖板本体10的表面上形成。
本发明的一种抗闪光盖板,通过在盖板本体10表面形成多个按阵列方式排布的抗闪光单元20,且当盖板本体10与液晶显示面板接合后,多个抗闪光单元20与液晶显示面板的多个子像素单元一一对应,每个抗闪光单元20的面积与对应的一个子像素单元的面积相同;其中,每个抗闪光单元20设有多个透光的微结构30,且多个微结构30呈无序排列,当所述液晶显示面板的光线射出至所述抗闪光单元20,所述抗闪光单元20可使避免该光线在所述盖板本体10的表面发生闪光的问题。从而使得盖板本体10的透光区域有较好的抗眩抗闪光的效果,同时由于图案的周期性和不连续性,减轻了闪光现象,达到户外可读性增强的效果。
实施例二
请参考图1至图6,图1为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,在玻璃基板上涂覆透明有机材料层40的示意图;
图2为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,在透明有机材料层40上涂覆光阻层50的示意图;
图3为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,将紫外光线3照射在设定光罩上的示意图;
图4为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,光阻层50形成多个所述抗闪光单元20上的多个所述微结构30的形状的示意图;
图5为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,透明有机材料层40形成多个所述抗闪光单元20上的多个所述微结构30的形状的示意图;
图6为本发明实施例的一种抗闪光盖板的制作方法的实施步骤中,透明有机材料层40形成多个所述抗闪光单元20上的多个所述微结构30的经过热熔后形成近似于圆弧状的示意图。
从图1至图6可以看到,本发明的一种如实施例一所述的抗闪光盖板的制作方法,该制作方法实际上包括以下步骤:
第一步,在玻璃基板上涂覆透明有机材料层40。
第二步,在所述透明有机材料层40上涂覆光阻层50。
第三步,根据多个所述抗闪光单元20的多个所述微结构30的形状准备设定光罩,通过将紫外光线3照射所述设定光罩,使所述光阻层50形成多个所述抗闪光单元20上的多个所述微结构30的形状。其中,该设定光罩采用普通光罩即可。
第四步,去除所述光阻层50,并通过加热或者红外光照射的方法来使所述透明有机材料层40形成所述抗闪光单元20上的所述多个微结构30的形状。
其中,所述设定光罩设有全曝光区2及无曝光区1,所述全曝光区2位于所述无曝光区1的两侧。
在本实施例中,所述光阻层50的光阻为正性光阻,且通过蚀刻的方式蚀刻掉所述光阻层50。
以下为本发明的抗闪光盖板的制作方法的具体制作过程:
在本发明中,首先要确定液晶显示面板的尺寸和其中的像素排列以及子像素的大小,根据像素排列的方式和大小去设计光罩和图案。举例来说,对于5.5寸FHD手机LCM(液晶显示面板),已知子像素的大小为63um×21um,BM(黑色矩阵)宽度为5um,则需要设计的图案如图7所示。
对于设计的光罩图案,采用如图1至图6的方式进行加工制造。首先将玻璃基板洗净,之后再在基板表面涂上透明有机材料层40(即PS胶材层,如聚甲基丙烯酸甲酯等),如图1所示。再涂上光阻层50,如图2所示。以上步骤的制备工艺与传统的光罩工艺基本相同。
涂上光阻层50之后,准备好设定光罩,将设定光罩与光阻层50相对,采用UV光(即紫外光线3)对设定光罩进行光照,在此步骤中,对于设定光罩的要求为,设定光罩需要由全曝光区2和无曝光区1三个部分构成,如图3所示。光照之后的光阻层50形状如图4所示。对图4所示的结构进行蚀刻处理,最终可以得到如图5所示的结构。如图6所示。由于凸包的尺寸很小,它的竖截面看起来就像是图6所示的圆弧状面。
另外,设定光罩需要具备的特性为,每一个最小周期单元(即一个抗闪光单元20)的图案需要控制在一个子像素大小范围内,子像素之间的BM无图案,如图3所示,图案在一个子像素周期内呈现杂乱无章分布的状态,但在子像素之间呈现周期性变化的规律,这样一方面可以防止摩尔纹现象的出现,同时子像素间的周期变化也可以使光罩的开发具备一定的量产性。最终通过光照和蚀刻工艺得到的盖板本体10表面形状剖面图如图6所示,俯视图如图7所示。在盖板本体10上形成的图案,每一个小周期单元均位于一个子像素区域,同时考虑到制程工艺的极限和子像素区域的大小,每个凸包的内径范围在2um至10um之间,盖板本体10上小周期单元的凸包既有一定的抗眩效果,也有一定的抗闪光效果,同时由于整体的周期性和局部的无序性,可以较好地减轻sparkle即闪光的现象,光罩工艺也具备量产性。
本发明的一种抗闪光盖板的制作方法,通过在盖板本体10表面形成多个按阵列方式排布的抗闪光单元20,且当盖板本体10与液晶显示面板接合后,多个抗闪光单元20与液晶显示面板的多个子像素单元一一对应,每个抗闪光单元20的面积与对应的一个子像素单元的面积相同;其中,每个抗闪光单元20设有多个透光的微结构30,且多个微结构30呈无序排列,当所述液晶显示面板的光线射出至所述抗闪光单元20,所述抗闪光单元20可使避免该光线在所述盖板本体10的表面发生闪光的问题。从而使得盖板本体10的透光区域有较好的抗眩抗闪光的效果,同时由于图案的周期性和不连续性,减轻了闪光现象,达到户外可读性增强的效果。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (9)

1.一种抗闪光盖板,用于遮盖液晶显示面板,其特征在于,包括一透明的盖板本体,所述盖板本体背向所述液晶显示面板一面设有多个抗闪光单元;
所述多个抗闪光单元按阵列方式排布,且当所述盖板本体与所述液晶显示面板接合后,所述多个抗闪光单元与所述液晶显示面板的多个子像素单元一一对应,每个所述抗闪光单元的面积与对应的一个所述子像素单元的面积相同;
其中,每个所述抗闪光单元设有多个透光的微结构,且所述多个微结构呈无序排列,当所述液晶显示面板的光线射出至所述抗闪光单元,所述抗闪光单元用于避免所述光线在所述盖板本体的表面发生闪光;
各个所述抗闪光单元的多个所述微结构的形状、个数及排列均相同。
2.根据权利要求1所述的抗闪光盖板,其特征在于,多个所述微结构为形状与大小互不相同的竖截面为圆弧状的凸包,其中所述凸包的制作材料与所述盖板本体的制作材料具有相同或相似的物理性质。
3.根据权利要求2所述的抗闪光盖板,其特征在于,所述凸包与所述盖板本体的接触面为椭圆形面或圆形面,该椭圆形面的内径范围为2~10um。
4.根据权利要求2所述的抗闪光盖板,其特征在于,所述凸包的高宽比为0.1~0.5。
5.根据权利要求2所述的抗闪光盖板,其特征在于,所述凸包的曲率半径为2~30um。
6.根据权利要求2所述的抗闪光盖板,其特征在于,弦切角为0°~10°的所述凸包的个数占总数的50%~90%。
7.根据权利要求1所述的抗闪光盖板,其特征在于,所述盖板本体为玻璃基板。
8.一种如权利要求1至7所述的抗闪光盖板的制作方法,其特征在于,该制作方法包括以下步骤:
1)在玻璃基板上涂覆透明有机材料层;
2)在所述透明有机材料层上涂覆光阻层;
3)根据多个所述抗闪光单元的多个所述微结构的形状准备设定光罩,通过将紫外光线照射所述设定光罩,使所述光阻层形成多个所述抗闪光单元上的多个所述微结构的形状;
4)去除所述光阻层,并使所述透明有机材料层形成所述抗闪光单元上的所述多个微结构的形状。
9.根据权利要求8所述的抗闪光盖板的制作方法,其特征在于,所述光阻层的光阻为正性光阻,且通过蚀刻的方式蚀刻掉所述光阻层。
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