CN106893992A - 一种喷涂靶材基体重复利用的方法 - Google Patents

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罗永春
胥小勇
石煜
曾墩风
王志强
雷雨
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

本发明的目的是提供一种喷涂靶材基体重复利用的方法，先提供一种孔径较大的基体管，左右两端通过环压，或焊接一定长度的标准尺寸端头使之与镀膜设备相匹配，这样不管靶材在生产或镀膜过程中由于各种原因导致的一些小变形，如凹坑、弯曲等，可以通过一定程度放大的基体管而过滤掉，不影响磁极穿不过的现象，可以使基体管得到重复利用，大大降低了生产成本，适用于生产中。

Description

一种喷涂靶材基体重复利用的方法
技术领域
本发明涉及靶材的制作领域，尤其涉及一种喷涂靶材基体重复利用的方法。
背景技术
溅射靶材主要应用于电子及信息产业 , 如集成电路、信息存储、电子控制器件等；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀等行业。但旋转靶材在进行磁控溅射镀膜后由于：1.靶材制备及镀膜过程中的热应力变化；2.靶材制备过程中多次拆装，加工；3靶材镀膜过程中多次拆装，加工等原因，导致基体管都有一定程度的变形，如：弯曲、凹坑、凸起等，而这些变形导致镀膜过程中磁极无法穿过基体管，因此目前靶材基体管都处于一次性利用的现状，无法重复利用。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供一种喷涂靶材基体重复利用的方法，先提供一种孔径较大的基体管，左右两端通过环压，或焊接一定长度的标准尺寸端头使之与镀膜设备相匹配，这样不管靶材在生产或镀膜过程中由于各种原因导致的一些小变形，如凹坑、弯曲等，可以通过一定程度放大的基体管而过滤掉，不影响磁极穿不过的现象，可以使基体管得到重复利用，大大降低了生产成本，解决了背景技术中出现的问题。
本发明的目的是提供一种喷涂靶材基体重复利用的方法，包括有以下步骤：
步骤一：按靶材尺寸要求准备内径125-126mm，外径为133-134mm基体管；
步骤二：将该基体管左右两端通过环压法向内挤压0-1mm，使得基体管左右两端的内径为125mm，外径为133mm；
步骤三：在该基体管上用喷涂的方法制作靶材；
步骤四：使用该靶材在磁控溅射设备中进行玻璃镀膜；
步骤五：对溅射完的靶材进行表面处理：喷砂或喷涂镍铝或铜铝合金打底，然后在重复步骤三到步骤五，直至基体管完全报废。
进一步改进在于：所述步骤二可替换为将该基体管左右两端焊接内径为125mm、外径为133mm的基体管端头。
进一步改进在于：所述基体管为不锈钢管或钛管。
进一步改进在于：所述基体管的壁厚为4mm。
进一步改进在于：所述步骤二基体管左右两端内压部分的长度之为30-100mm。
进一步改进在于：所述步骤二基体管左右两端焊接部分的长度之为30-100mm。
进一步改进在于：所述步骤二制得的基体管左右两端部分为内径为125mm，外径为133mm基体管，基体管中间部分为内径125-126mm，外径为133-134mm基体管。
本发明的有益效果：本发明先提供一种孔径较大的基体管，左右两端通过环压，或焊接一定长度的标准尺寸端头使之与镀膜设备相匹配，这样不管靶材在生产或镀膜过程中由于各种原因导致的一些小变形，如凹坑、弯曲等，可以通过一定程度放大的基体管而过滤掉，不影响磁极穿不过的现象，可以使基体管得到重复利用，大大降低了生产成本，适用于生产中。
附图说明
图1是本发明步骤二基体管环压过的示意图。
具体实施方式
为了加深对本发明的理解，下面将结合实施例对本发明作进一步详述，该实施例仅用于解释本发明，并不构成对本发明保护范围的限定。
如图1所示，本实施例一种喷涂靶材基体重复利用的方法，包括有以下步骤：
步骤一：按靶材尺寸要求准备内径126mm，外径为134mm基体管；
步骤二：将该基体管左右两端通过环压法向内挤压1mm，使得基体管左右两端的内径为125mm，外径为133mm；
步骤三：在该基体管上用喷涂的方法制作靶材；
步骤四：使用该靶材在磁控溅射设备中进行玻璃镀膜；
步骤五：对溅射完的靶材进行表面处理：喷砂或喷涂镍铝或铜铝合金打底，然后在重复步骤三到步骤五，直至基体管完全报废。
所述步骤二可替换为将该基体管左右两端焊接内径为125mm、外径为133mm的基体管端头；所述基体管为不锈钢管或钛管。所述基体管的壁厚为4mm。所述步骤二基体管左右两端内压部分的长度之为50mm。所述步骤二基体管左右两端焊接部分的长度之为50mm。所述步骤二制得的基体管左右两端部分为内径为125mm，外径为133mm基体管，基体管中间部分为内径126mm，外径为134mm基体管。
先提供一种孔径较大的基体管，左右两端通过环压，或焊接一定长度的标准尺寸端头使之与镀膜设备相匹配，这样不管靶材在生产或镀膜过程中由于各种原因导致的一些小变形，如凹坑、弯曲等，可以通过一定程度放大的基体管而过滤掉，不影响磁极穿不过的现象，可以使基体管得到重复利用，大大降低了生产成本，适用于生产中。

Claims (7)

1.一种喷涂靶材基体重复利用的方法，其特征在于：包括有以下步骤：
步骤一：按靶材尺寸要求准备内径125-126mm，外径为133-134mm基体管；
步骤二：将该基体管左右两端通过环压法向内挤压0-1mm，使得基体管左右两端的内径为125mm，外径为133mm；
步骤三：在该基体管上用喷涂的方法制作靶材；
步骤四：使用该靶材在磁控溅射设备中进行玻璃镀膜；
步骤五：对溅射完的靶材进行表面处理：喷砂或喷涂镍铝或铜铝合金打底，然后在重复步骤三到步骤五，直至基体管完全报废。
2.如权利要求1所述一种喷涂靶材基体重复利用的方法，其特征在于：所述步骤二可替换为将该基体管左右两端焊接内径为125mm、外径为133mm的基体管端头。
3.如权利要求1所述一种喷涂靶材基体重复利用的方法，其特征在于：所述基体管为不锈钢管或钛管。
4.如权利要求1所述一种喷涂靶材基体重复利用的方法，其特征在于：所述基体管的壁厚为4mm。
5.如权利要求1所述一种喷涂靶材基体重复利用的方法，其特征在于：所述步骤二基体管左右两端内压部分的长度之为30-100mm。
6.如权利要求2所述一种喷涂靶材基体重复利用的方法，其特征在于：所述步骤二基体管左右两端焊接部分的长度之为30-100mm。
7.如权利要求1所述一种喷涂靶材基体重复利用的方法，其特征在于：所述步骤二制得的基体管左右两端部分为内径为125mm，外径为133mm基体管，基体管中间部分为内径125-126mm，外径为133-134mm基体管。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103045995A (zh) * 2012-12-19 2013-04-17 西北稀有金属材料研究院 一种氧化铌旋转靶材及其制备方法
CN104451582A (zh) * 2014-12-30 2015-03-25 北京恒隆科技有限公司 一种导电氧化锆旋转靶材及其制备方法
CN105058923A (zh) * 2015-08-17 2015-11-18 基迈克材料科技（苏州）有限公司 增强镀膜玻璃耐磨和耐腐蚀性能的溅射靶材及制造方法
CN105671501A (zh) * 2016-04-11 2016-06-15 广州市尤特新材料有限公司 一种废旧旋转靶材回收、修复和再加工的方法

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