CN106876233B - 承载装置及离子注入设备 - Google Patents

承载装置及离子注入设备 Download PDF

Info

Publication number
CN106876233B
CN106876233B CN201710137906.1A CN201710137906A CN106876233B CN 106876233 B CN106876233 B CN 106876233B CN 201710137906 A CN201710137906 A CN 201710137906A CN 106876233 B CN106876233 B CN 106876233B
Authority
CN
China
Prior art keywords
supporting table
guide rail
support member
bogey
sliding shoe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710137906.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106876233A (zh
Inventor
刘晨亮
蒋冬华
傅永义
谭超
王学伟
李儒健
罗康
令勇洲
谢银
杨剑波
李飞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201710137906.1A priority Critical patent/CN106876233B/zh
Publication of CN106876233A publication Critical patent/CN106876233A/zh
Priority to US15/816,341 priority patent/US10598220B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN106876233B publication Critical patent/CN106876233B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3171Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C29/00Bearings for parts moving only linearly
    • F16C29/04Ball or roller bearings
    • F16C29/06Ball or roller bearings in which the rolling bodies circulate partly without carrying load
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16MFRAMES, CASINGS OR BEDS OF ENGINES, MACHINES OR APPARATUS, NOT SPECIFIC TO ENGINES, MACHINES OR APPARATUS PROVIDED FOR ELSEWHERE; STANDS; SUPPORTS
    • F16M11/00Stands or trestles as supports for apparatus or articles placed thereon ; Stands for scientific apparatus such as gravitational force meters
    • F16M11/02Heads
    • F16M11/04Means for attachment of apparatus; Means allowing adjustment of the apparatus relatively to the stand
    • F16M11/043Allowing translations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/026Means for avoiding or neutralising unwanted electrical charges on tube components
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/004Charge control of objects or beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202Movement
    • H01J2237/20221Translation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/31701Ion implantation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)

Abstract

本发明提供了一种承载装置及离子注入设备,所述承载装置包括:用于承托基板的承托台;以及,用于支撑基板的多个支撑部件,各支撑部件以可移动地方式设置在所述承托台上,以使各支撑部件在基板上的支撑位置可调节。本发明提供的承载装置及离子注入设备,能够减少由于支撑部件与基板接触所引起的亮暗点、白Mura等不良产生。

Description

承载装置及离子注入设备
技术领域
本发明涉及一种专门用于制造或处理固体器件的设备,特别是一种承载装置及离子注入设备。
背景技术
离子注入技术是近30年来在国际上蓬勃发展和广泛应用的一种材料表面改性技术。离子注入的基本原理是:用能量为100keV量级的离子束入射到材料中去,离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用,入射离子逐渐损失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、结构和性能发生变化,从而优化材料表面性能或获得某些新的优异性能。
在离子注入(Implant)过程中,玻璃基板首先会被水平放置于基板承载装置的承载台(Platen)上,而后由承载台垂直立起进行扫描。在此过程中,承载台上的支撑部件(Pin)会与玻璃基板的背部接触,由于现有的承载台上的支撑部件的顶部呈球形,与玻璃基板背部接触面积小,且支撑部件是固定于承载台上,随着使用次数的增加,支撑部件的表面磨损,在承载台翻动过程中容易产生静电,尤其是,当支撑部件的支撑位置在显示面板的有效显示区(A/A区),玻璃基板背部静电释放,会对TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)产生影响,引起亮暗点、白Mura等不良。
发明内容
本发明的目的在于提供一种承载装置及离子注入设备,能够减少由于支撑部件与基板接触所引起的亮暗点、白Mura等不良产生。
本发明所提供的技术方案如下:
一种承载装置,包括:
用于承托基板的承托台;
以及,用于支撑基板的多个支撑部件,各支撑部件以可移动地方式设置在所述承托台上,以使各支撑部件在基板上的支撑位置可调节。
进一步的,在所述承托台上设置有导轨,在所述导轨上设置有能够沿所述导轨移动的多个滑动块,其中在每一所述滑动块上连接有至少一个所述支撑部件。
进一步的,所述导轨为凸出于所述承托台侧面外的长条形凸块结构,所述滑动块中部形成有凹槽,所述凹槽的槽口朝向所述长条形凸块结构,以使所述滑动块环套在所述长条形凸块结构上。
进一步的,在所述凹槽的内壁与所述导轨的外周面之间设置有多个滚珠,多个所述滚珠排列成至少一排,且所述滚珠的排列方向与所述导轨的延伸方向一致。
进一步的,所述滑动块包括一用于形成所述凹槽的槽底的第一部分、以及用于分别形成所述凹槽的两侧壁的第二部分和第三部分,其中,所述第二部分和所述第三部分均可拆卸地连接在所述第一部分上,且所述第二部分和所述第三部分上分别设置所述滚珠。
进一步的,所述凹槽为槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽结构,所述导轨为与所述凹槽结构相匹配的、横截面呈梯形的长条形凸块结构。
进一步的,所述承托台包括相对的第一侧边和第二侧边、及相对的第三侧边和第四侧边,在所述第一侧边设置有能够使得所述承托台由水平状态翻转成竖直状态的翻转轴,所述导轨沿所述承托台的第三侧边和第四侧边的延伸方向设置。
进一步的,所述承载装置还包括能够驱动各滑动块在所述导轨上移动的驱动机构,所述驱动机构包括:
横杆,多个支撑部件呈阵列排布,同一行的多个支撑部件中各支撑部件所对应的滑动块通过同一根横杆连接一起,以使同一行的多个支撑部件能够同步移动;
设置在所述承托台的第三侧边和第四侧边的至少一个侧边上的驱动轨道,所述横杆的一端设置在所述驱动轨道上,并能够沿所述驱动轨道移动;
以及,用于驱动所述横杆沿所述驱动轨道往复移动的驱动部。
进一步的,所述驱动部包括:
驱动马达,所述驱动马达包括输出轴;
以及能够在所述输出轴驱动下旋转的旋转齿轮,所述横杆的一端连接在所述旋转齿轮的中心,且所述旋转齿轮与所述横杆之间能够相对转动;
其中在所述驱动轨道上设置有齿条,所述齿条与所述旋转齿轮啮合。
进一步的,所述承托台呈阶梯状结构,所述承托台的厚度从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧呈阶梯状逐渐减小。
进一步的,所述支撑部件包括用于与基板接触的接触端、及与所述接触端相对的连接端,其中,所述支撑部件的接触端端面为具有预定面积的平面结构。
进一步的,所述支撑部件为一圆柱形结构,且所述接触端的边缘为经圆滑化处理的圆滑倒角结构。
一种离子注入设备,包括如上所述的承载装置。
本发明所带来的有益效果如下:
本发明所提供的承载装置,其在承托台上设置可移动的支撑部件,从而可以根据不同型号的基板,调节各支撑部件在基板上的支撑位置,以避让开基板上的预定区域,例如:避让开液晶屏的有效显示区(A/A区),防止支撑部件与基板之间产生的静电对液晶屏的薄膜晶体管产生影响,从而减少不良产生。
附图说明
图1表示本发明实施例中提供的承载装置的整体结构示意图;
图2表示本发明实施例中提供的承载装置的导轨与滑动块的配合结构示意图;
图3表示本发明实施例中提供的承载装置的滑动块及支撑部件的结构示意图;
图4表示本发明实施例中提供的承载装置的承托台的侧面结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。
针对现有技术中基板承载装置上的支撑部件与液晶屏等基板之间接触产生静电,会导致产生不良的问题,本发明提高了一种承载装置,能够减少由于支撑部件与基板接触所引起的亮暗点、白Mura等不良产生。
如图1所示,本发明实施例中所提供的承载装置,包括:
用于承托基板的承托台100;
以及,用于支撑基板的多个支撑部件200,各支撑部件200以可移动地方式设置在所述承托台100上,以使各支撑部件200在基板上的支撑位置可调节。
本发明所提供的承载装置,其在承托台100上设置的多个支撑部件200可以移动,从而可以根据不同型号的基板,调节各支撑部件200在基板上的支撑位置,以避让开基板上的预定区域,例如:避让开液晶屏的有效显示区(A/A区),防止支撑部件200与基板之间产生的静电对液晶屏的薄膜晶体管产生影响,从而减少不良产生。
如图1和图2所示,在本发明所提供的实施例中,优选的,在所述承托台100上设置有导轨300,在所述导轨300上设置有能够沿所述导轨300移动的多个滑动块400,其中在每一所述滑动块400上连接有至少一个所述支撑部件200。
采用上述方案,通过在所述承托台100上设置导轨300,并在导轨300上设置可移动的滑动块400,通过将支撑部件200与滑动块400连接,在导轨300上移动滑动块400,来实现支撑部件200的移动,这种利用滑动块400和导轨300配合实现支撑部件200移动的方式,结构简单,操作方便。
应当理解的是,在实际应用中,所述支撑部件200在所述承托台100上的可移动方式并不仅局限于此,还可以采用其他方式来实现,对此不再一一列举。
以下提供一种所述导轨300与所述滑动块400配合的优选实施方式。
如图2和图3所示,优选的,所述导轨300为凸出于所述承托台100侧面外的长条形凸块结构,所述滑动块400中部形成有凹槽401,所述凹槽401的槽口朝向所述长条形凸块结构,以使所述滑动块400环套在所述长条形凸块结构上。
采用上述方案,所述导轨300可以设置在所述承托台100的侧面,其设计为一凸起的长条形凸块结构,而所述滑动块400的中部形成有凹槽401,而呈半壳状,套设在所述导轨300上,这种配合结构很简单。当然可以理解的是,在其他实施例中,所述导轨300与所述滑动块400的结构并不仅局限于此,可以有多种配合方式。
进一步优选的,如图3所示,在所述滑动块400的凹槽401的内壁与所述导轨300的外周面之间设置有多个滚珠500,多个所述滚珠500排列成至少一排,且所述滚珠500的排列方向与所述导轨300的延伸方向一致。
采用上述方案,通过在所述滑动块400与所述导轨300之间设置滚珠500,可以使得滑动块400在导轨300上移动顺滑、平稳。
并且,优选的,如图2和图3所示,所述导轨300的上、下侧面与所述滑动块400的凹槽401的两侧壁之间分别设置有所述滚珠500,且优选的,凹槽401的每一侧壁与所述导轨300的侧面之间设置有两排滚珠500,以使得滑动块400的移动更为顺滑、平稳。
当然可以理解的是,对于所述导轨300与所述滑动块400之间设置所述滚珠500的方式等并不进行限定,可以根据实际情况进行调整。
此外,如图2和图3所示,优选的,所述滑动块400包括一用于形成所述凹槽401的槽底的410、以及用于分别形成所述凹槽401的两侧壁的第二部分420和第三部分430,其中,所述第二部分420和所述第三部分430均可拆卸地连接在所述第一部分410上,且所述第二部分和所述第三部分上分别设置所述滚珠500,以形成所述滚珠500的保护壳。
采用上述方案,设置有所述滚珠500的第二部分和所述第三部分均可拆卸地连接在所述第一部分上,便于拆卸、更换,当滚珠500出现问题时,可直接将相应的第二部分或第三部分拆卸下来更换即可。
此外,在本发明所提供的实施例中,优选的,如图2所示,所述凹槽401为槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽结构,所述导轨300为与所述凹槽401结构相匹配的、横截面呈梯形的长条形凸块结构。
采用上述方案,所述导轨300设计为横截面呈梯形,其由外向内逐渐减小,与所述滑动块400的凹槽401结构相互配合,可以防止所述滑动块400从所述导轨300上脱落。
此外,在本发明所提供的实施例中,优选的,如图1所示,所述承托台100包括相对的第一侧边和第二侧边、及相对的第三侧边和第四侧边,在所述第一侧边设置有能够使得所述承托台100由水平状态翻转成竖直状态的翻转轴600,所述导轨300沿所述承托台100的第三侧边和第四侧边的延伸方向设置。
采用上述方案,在所述第一侧边设置有翻转轴600,在承载基板时,使得所述承托台100承载基板在水平状态与竖直状态之间转换,并且所述导轨300在第三侧边和第四侧边的延伸方向上设置,以使得所述支撑部件200能够沿着所述第三侧边或所述第四侧边的延伸方向移动。
在本发明所提供的实施例中,优选的,如图1所示,所述承托台100包括多个承托部110,在每一所述承托部110的侧边设置有所述导轨300,在每一所述导轨300上设置有多个所述滑动块400;
所述承载装置还包括能够驱动各滑动块400在所述导轨上移动的驱动机构,所述驱动机构包括:
横杆700,多个支撑部件200呈阵列排布,同一行的多个支撑部件200中各支撑部件200所对应的滑动块400通过同一根横杆700连接一起,以使同一行的多个支撑部件能够同步移动;
驱动轨道800,所述驱动轨道800设置在所述承托台100的第三侧边和第四侧边的至少一个侧边上(即,最靠外侧的承托部110的外侧面上),所述横杆700的一端设置在所述驱动轨道800上,并能够沿所述驱动轨道800移动;
以及,用于驱动所述横杆700沿所述驱动轨道800往复移动的驱动部。
采用上述方案,将每行的移动支撑部件200所对应的滑动块400可以通过同一根横杆700进行连接,由所述横杆700驱动同一行的各滑动块400在所述导轨300上移动时,可以实现同一行的各支撑部件200在所述导轨300的延伸方向上的同步移动,以根据不同型号,更换支撑部件200的不同位置,这种结构更为简化,且可同步控制同一行的多个支撑部件200的移动,控制简单。
并且,在本发明所提供的实施例中,优选的,所述驱动部包括:
驱动马达(图中未示意出),所述驱动马达包括输出轴;
以及能够在所述输出轴驱动下旋转的旋转齿轮900,所述横杆700的一端连接在所述旋转齿轮900的中心,且所述旋转齿轮900与所述横杆700之间能够相对转动;
其中在所述驱动轨道800上设置有齿条,所述齿条与所述旋转齿轮900啮合。
采用上述方案,通过所述驱动马达来驱动所述旋转齿轮900旋转,由于旋转齿轮900与所述驱动轨道800的齿条啮合,在旋转齿轮900转动时,可以带动所述横杆700在所述驱动轨道800的延伸方向上往复运动,进而带动所述横杆700上连接的滑动块400往复运动,实现同步移动同一行各支撑部件200的目的。
当然可以理解的是,在本发明其他实施例中,所述多个支撑部件200与所述滑动块400及所述导轨300的设置位置及连接关系等并不仅局限于此,例如:所述支撑部件200还可以是各支撑部件200单独移动,这种单独控制各支撑部件200移动的方式与上述控制同一行支撑部件200同步移动的方式相比,优点是,可以优化移动范围,使得各支撑部件200根据实际情况来单独移动,缺点是,控制复杂,实现困难。
此外,在本发明所提供的实施例中,优选的,如图4所示,所述承托台100的厚度从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧逐渐减小。
采用上述方案,采用阶梯状的承托台100设计方式,缩短承托台100的整体重心与翻转轴600距离,使得承托台100的重心向翻转轴600所在方向偏移,有利于承托台100旋转的机械运动稳定性。
优选的,如图4所示,所述承托台100呈阶梯状结构,所述承托台100的厚度从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧呈阶梯状逐渐减小。
需要说明的是,在上述方案中,将所述承托台100通过设计为阶梯状结构,来使得承托台100的重心与翻转轴600距离缩短,承托台100的厚度过渡比较平稳,制造也简单。需要理解的是,在实际应用中,对于所述承托台100的具体结构可以不仅局限于此,只要使得所述承托台100从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧逐渐减小即可。
此外,现有技术中,所述承托台100上的支撑部件200随着寿命的增加,表面磨损,在承托台100的翻动过程中容易产生静电,且支撑部件200的顶部呈球形,与基板背部接触面积小,静电容易积累并突然释放,对于OLED显示基板而言,引起亮暗点、白Mura等不良。
如图3所示,在本发明所提供的实施例中,优选的,所述支撑部件200包括用于与基板接触的接触端201、及与所述接触端相对的连接端202,其中,所述支撑部件200的接触端201端面为具有预定面积的平面结构。
采用上述方案,改进了现有的支撑部件200的结构,将现有的顶部球形结构的支撑部件200改进为使得支撑部件200的接触端端面为平面,增加了与基板的接触面积,减少静电释放。
优选的,如图3所示,所述支撑部件200为一圆柱形结构,且所述接触端201的边缘为经圆滑化处理的圆滑倒角结构。
采用上述方案,可移动的支撑部件200采用圆柱形结构,同时对顶部边缘进行圆滑化处理,防止放置基板时划伤基板。
此外,本发明实施例中还提供了一种离子注入设备,包括本发明实施例中所提供的承载装置。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种承载装置,其特征在于,包括:
用于承托基板的承托台;
以及,用于支撑基板的多个支撑部件,各支撑部件以可移动地方式设置在所述承托台上,以使各支撑部件在基板上的支撑位置可调节;
在所述承托台上设置有导轨,所述承托台包括多个承托部,在每一所述承托部的侧边设置有所述导轨;在所述导轨上设置有能够沿所述导轨移动的多个滑动块,在每一所述滑动块上连接有至少一个所述支撑部件。
2.根据权利要求1所述的承载装置,其特征在于,
所述导轨为凸出于所述承托台的承托部侧面外的长条形凸块结构,所述滑动块中部形成有凹槽,所述凹槽的槽口朝向所述长条形凸块结构,以使所述滑动块环套在所述长条形凸块结构上。
3.根据权利要求2所述的承载装置,其特征在于,
在所述凹槽的内壁与所述导轨的外周面之间设置有多个滚珠,多个所述滚珠排列成至少一排,且所述滚珠的排列方向与所述导轨的延伸方向一致。
4.根据权利要求3所述的承载装置,其特征在于,
所述滑动块包括一用于形成所述凹槽的槽底的第一部分、以及用于分别形成所述凹槽的两侧壁的第二部分和第三部分,其中,所述第二部分和所述第三部分均可拆卸地连接在所述第一部分上,且所述第二部分和所述第三部分上分别设置所述滚珠。
5.根据权利要求2所述的承载装置,其特征在于,
所述凹槽为槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽结构,所述导轨为与所述凹槽结构相匹配的、横截面呈梯形的长条形凸块结构。
6.根据权利要求1所述的承载装置,其特征在于,
所述承托台包括相对的第一侧边和第二侧边、及相对的第三侧边和第四侧边,在所述第一侧边设置有能够使得所述承托台由水平状态翻转成竖直状态的翻转轴,所述导轨沿所述承托台的第三侧边和第四侧边的延伸方向设置。
7.根据权利要求6所述的承载装置,其特征在于,
所述承载装置还包括能够驱动各滑动块在所述导轨上移动的驱动机构,所述驱动机构包括:
横杆,多个支撑部件呈阵列排布,同一行的多个支撑部件中各支撑部件所对应的滑动块通过同一根横杆连接一起,以使同一行的多个支撑部件能够同步移动;
设置在所述承托台的第三侧边和第四侧边的至少一个侧边上的驱动轨道,所述横杆的一端设置在所述驱动轨道上,并能够沿所述驱动轨道移动;
以及,用于驱动所述横杆沿所述驱动轨道往复移动的驱动部。
8.根据权利要求7所述的承载装置,其特征在于,
所述驱动部包括:
驱动马达,所述驱动马达包括输出轴;
以及能够在所述输出轴驱动下旋转的旋转齿轮,所述横杆的一端连接在所述旋转齿轮的中心,且所述旋转齿轮与所述横杆之间能够相对转动;
其中在所述驱动轨道上设置有齿条,所述齿条与所述旋转齿轮啮合。
9.根据权利要求6所述的承载装置,其特征在于,
所述承托台呈阶梯状结构,所述承托台的厚度从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧呈阶梯状逐渐减小。
10.根据权利要求1所述的承载装置,其特征在于,
所述支撑部件包括用于与基板接触的接触端、及与所述接触端相对的连接端,其中,所述支撑部件的接触端端面为具有预定面积的平面结构。
11.根据权利要求10所述的承载装置,其特征在于,
所述支撑部件为一圆柱形结构,且所述接触端的边缘为经圆滑化处理的圆滑倒角结构。
12.一种离子注入设备,其特征在于,包括如权利要求1至11任一项所述的承载装置。
CN201710137906.1A 2017-03-09 2017-03-09 承载装置及离子注入设备 Active CN106876233B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710137906.1A CN106876233B (zh) 2017-03-09 2017-03-09 承载装置及离子注入设备
US15/816,341 US10598220B2 (en) 2017-03-09 2017-11-17 Bearing device and ion implantation device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710137906.1A CN106876233B (zh) 2017-03-09 2017-03-09 承载装置及离子注入设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106876233A CN106876233A (zh) 2017-06-20
CN106876233B true CN106876233B (zh) 2018-09-14

Family

ID=59170602

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710137906.1A Active CN106876233B (zh) 2017-03-09 2017-03-09 承载装置及离子注入设备

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10598220B2 (zh)
CN (1) CN106876233B (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101040059A (zh) * 2004-10-13 2007-09-19 兰姆研究公司 用于改善半导体加工均匀性的传热系统
CN101807538A (zh) * 2010-03-26 2010-08-18 友达光电股份有限公司 基板支撑装置
CN103399425A (zh) * 2013-08-12 2013-11-20 深圳市华星光电技术有限公司 玻璃基板支撑装置以及液晶面板加工工艺
CN105824200A (zh) * 2016-05-31 2016-08-03 京东方科技集团股份有限公司 一种基板支撑结构及曝光机
CN106098601A (zh) * 2016-06-30 2016-11-09 京东方科技集团股份有限公司 一种基板的支撑装置、干燥设备及相关工作方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8716820D0 (en) * 1987-07-16 1987-08-19 Drury Machinery Co Milling machine
US5694214A (en) * 1996-01-08 1997-12-02 Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. Surface inspection method and apparatus
US6102096A (en) * 1997-05-30 2000-08-15 Johansson; Goeran Method and device for applying a pattern onto a support means
US6498642B1 (en) * 2000-05-03 2002-12-24 Karl Storz Endovision Endoscope inspection system
US20060033043A1 (en) * 2004-08-13 2006-02-16 Nikon Corporation Stacked six degree-of-freedom table
US8057153B2 (en) * 2006-09-05 2011-11-15 Tokyo Electron Limited Substrate transfer device, substrate processing apparatus and substrate transfer method
KR102584657B1 (ko) * 2015-03-31 2023-10-04 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 및 노광 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101040059A (zh) * 2004-10-13 2007-09-19 兰姆研究公司 用于改善半导体加工均匀性的传热系统
CN101807538A (zh) * 2010-03-26 2010-08-18 友达光电股份有限公司 基板支撑装置
CN103399425A (zh) * 2013-08-12 2013-11-20 深圳市华星光电技术有限公司 玻璃基板支撑装置以及液晶面板加工工艺
CN105824200A (zh) * 2016-05-31 2016-08-03 京东方科技集团股份有限公司 一种基板支撑结构及曝光机
CN106098601A (zh) * 2016-06-30 2016-11-09 京东方科技集团股份有限公司 一种基板的支撑装置、干燥设备及相关工作方法

Also Published As

Publication number Publication date
US10598220B2 (en) 2020-03-24
US20180258988A1 (en) 2018-09-13
CN106876233A (zh) 2017-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102134004B (zh) 丝杆定位机构
KR102409763B1 (ko) 전사장치 및 전사방법
CN106514001A (zh) 一种激光打标器及激光打标方法
CN108769496A (zh) 一种摄像组件及电子设备
WO2007055339A1 (ja) 三次元位置決めテーブル
CN1210610C (zh) 制造液晶显示器的设备以及使用该设备的制造方法
CN106876233B (zh) 承载装置及离子注入设备
US10203603B2 (en) Substrate supporting structure and exposure machine
CN1296145C (zh) 基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法
CN106513236A (zh) 一种盘形件边缘的涂胶装置
CN106325007B (zh) 一种多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备
JP2006235019A (ja) 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
CN202257028U (zh) Lcd曝光平台装置及曝光系统
CN110271859A (zh) 一种石墨板自动上料装置
KR101318600B1 (ko) 기판 공급장치
CN206201068U (zh) 一种位移定位平台与定位设备
CN104294216B (zh) 一种掩模板硬质框架载台及其调整方法
CN115440642B (zh) 一种适用于晶粒转移的载板承载装置
CN216576049U (zh) 一种调整玻璃角度和位置的装置
CN104801472B (zh) 一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法
CN103573815B (zh) 微动台及气浮轴承
CN101130184B (zh) 涂敷装置
CN106695859A (zh) 一种吸嘴结构
JP2008084847A (ja) ディスプレイパネル用排気ホール加工装置
CN108231644B (zh) 掩膜对准装置用基板升降装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant