CN106802509A - 彩色滤光基板及其形成方法和光罩 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种彩色滤光基板及其形成方法和光罩，其中，彩色滤光基板包括形成于额缘区的不等厚彩色光阻层。所述不等厚彩色光阻层在与开口区彩色光阻位置对应的区域具有第一厚度，所述不等厚彩色光阻层在与开口区光阻垫块相对应位置的区域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。这样在所述额缘区不等厚彩色光阻层中第二厚度对应位置处形成间隔柱时，所述间隔柱下方的不等厚彩色光阻层较薄，而所述间隔柱的绝对高度大于开口区光阻垫块上形成的间隔柱，从而使额缘区和开口区间隔柱顶部相对基板上表面的高度相当，进而可以提高显示的均匀度。

Description

彩色滤光基板及其形成方法和光罩

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种彩色滤光基板及其形成方法和光罩。

背景技术

薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)液晶显示器，能够实现对各个像素的独立精确控制，而且其在亮度、功耗、寿命、体积方面的优势都已超过阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示器，因此，TFT液晶显示器得到广泛应用。

彩色滤光基板(Color Filter，CF)是TFT液晶显示器的重要组成部件。

请参考图1，示出了现有技术一种彩色滤光基板的结构示意图。所述彩色滤光基板包括：玻璃基板10、位于玻璃基板10上的黑色矩阵11、位于黑色矩阵11上的彩色光阻层12、覆盖于所述彩色光阻层12上的透明导电膜13和位于透明导电膜13上的间隔柱14。

图2至图5是现有技术一种彩色滤光基板的形成方法中各步骤的结构示意图。

参考图2，提供玻璃基板100。

继续参考图2，在玻璃基板100上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括具有开口的开口区A和位于开口区A周围的额缘区B。所述黑色矩阵在额缘区B不具有开口。

请参考图3和图4，在所述黑色矩阵上涂布光阻，并通过光罩160对所述光阻进行曝光，从而形成彩色光阻层120。所述彩色光阻层120包括：位于开口区A的第一彩色光阻层120a和位于额缘区120b的第二彩色光阻层120b。

需要说明的是，现有技术中所述光罩160具有条状图形，可以在黑色矩阵上形成条形的红色光阻层121、绿色光阻层122和蓝色光阻层123。填充于开口区A中所述开口中的红色光阻层121、绿色光阻层122和蓝色光阻层123可以起到透过相应颜色光线的作用，即实现滤光的功能。

请参考图5，在红色光阻层121、绿色光阻层122和蓝色光阻层123上形成间隔柱130。所述间隔柱130包括：位于开口区A的第一间隔柱130a和位于额缘区B的第二间隔柱130b。

然而，现有技术形成的彩色滤光基板容易造成显示器周边颜色显示不均的问题，影响液晶显示器的视觉效果。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种彩色滤光基板及其形成方法和光罩，以改善颜色显示不均的问题。

本发明提供一种彩色滤光基板，其特征在于，包括：基板；形成于基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区；

形成于所述黑色矩阵上的彩色光阻层；形成于开口区的彩色光阻层包括填充于开口中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵上的光阻垫块，形成于所述额缘区的彩色光阻层为覆盖在黑色矩阵上的不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层包括与开口区彩色光阻位置对应的第一厚度区域和与开口区光阻垫块位置相对应的第二厚度区域，所述第一厚度区域的不等厚彩色光阻层具有第一厚度，所述第二厚度区域的不等厚彩色光阻层具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；

形成于彩色光阻层上的间隔柱；所述开口区的间隔柱形成于所述光阻垫块上，所述额缘区的间隔柱形成于第二厚度区域。

可选的，所述多个开口呈矩阵式排列，所述开口为沿列向延伸的长方形结构；

所述开口区的彩色光阻层包括沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口和相邻开口之间的黑色矩阵，填充于所述开口中的条状光阻层为所述彩色光阻，覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的条状光阻层为所述光阻垫块；

所述额缘区的彩色光阻层包括沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层为条状光阻层，所述不等厚彩色光阻层中第一厚度区域为沿列向延伸的长方形结构，所述不等厚彩色光阻层中第二厚度区域位于相邻两个第一厚度区域之间。

可选的，额缘区所述第二厚度区域沿列向的尺寸为10～150μm。

可选的，所述开口区的彩色光阻至少包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻；

所述额缘区不等厚彩色光阻层至少包括红色不等厚光阻层、绿色不等厚光阻层和蓝色不等厚光阻层。

可选的，所述开口区的彩色光阻至少包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻；

所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻成三角型、条型或马赛克型排列。

可选的，所述开口区与额缘区间隔柱顶端相对基板上表面的高度差为0～0.4μm。

相应的，本发明还提供一种彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成具有多个开口的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于所述开口区周围的额缘区；

在所述黑色矩阵上形成彩色光阻层；形成于开口区的彩色光阻层包括填充于开口中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵上的光阻垫块，形成于所述额缘区的彩色光阻层为覆盖在黑色矩阵上的不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层包括与开口区彩色光阻位置对应的第一厚度区域和与开口区光阻垫块相对应位置的第二厚度区域，所述第一厚度区域的不等厚彩色光阻层具有第一厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；

在所述彩色光阻层上形成间隔柱；所述开口区的间隔柱形成于所述光阻垫块上，所述额缘区的间隔柱形成于第二厚度区域。

可选的，在所述基板上形成具有多个开口的黑色矩阵的步骤中：所述多个开口呈矩阵式排列，所述开口为沿列向延伸的长方形结构；

在所述黑色矩阵上形成彩色光阻层的步骤包括：

在开口区形成沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口和相邻开口之间的黑色矩阵，填充于所述开口中的条状光阻层为所述彩色光阻，覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的条状光阻层为所述光阻垫块；

在所述额缘区形成沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层为条状光阻层，所述不等厚彩色光阻层中第一厚度区域为沿列向延伸的长方形结构，所述不等厚彩色光阻层中第二厚度区域位于相邻两个第一厚度区域之间。

可选的，在所述基板上形成具有多个开口的黑色矩阵的步骤中，在额缘区形成的不等厚彩色光阻层中第二厚度区域沿列向的尺寸为10～150μm。

可选的，在所述黑色矩阵上形成彩色光阻层的步骤至少包括：

在所述黑色矩阵上涂布红色光阻，通过光刻在所述开口区和额缘区分别形成红色光阻层和红色不等厚光阻层；

在所述黑色矩阵上涂布绿色光阻，通过光刻在所述开口区和额缘区分别形成绿色光阻层和绿色不等厚光阻层；

在所述黑色矩阵上涂布蓝色光阻，通过光刻在所述开口区和额缘区分别形成蓝色光阻层和蓝色不等厚光阻层；

所述红色光阻层包括填充于开口区开口中的红色光阻和覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的红色光阻垫块；

所述绿色光阻层包括填充于开口区开口中的绿色光阻和覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的绿色光阻垫块；

所述蓝色光阻层包括填充于开口区开口中的蓝色光阻和覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的蓝色光阻垫块；

所述红色光阻、绿色光阻、蓝色光阻用于构成所述彩色光阻，所述红色不等厚光阻层、绿色不等厚光阻层和蓝色不等厚光阻层用于构成所述额缘区的不等厚彩色光阻层。

可选的，在形成彩色光阻层的步骤中，所述红色光阻、绿色光阻、蓝色光阻成三角型、条型或马赛克型排列。

可选的，在彩色光阻层上形成间隔柱的步骤中，所述开口区和额缘区间隔柱顶端相对基板上表面的高度差为0～0.4μm。

此外，本发明还提供一种用于制造彩色滤光基板的光罩，所述彩色滤光基板包括：基板；形成于基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区；彩色光阻层和间隔柱；所述光罩用于形成所述彩色光阻层，其特征在于，所述光罩包括：

基体，所述基体上形成有：

第一图形，与所述开口区相对应，用于形成开口区的彩色光阻层，所述彩色光阻层包括填充于开口中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵上的光阻垫块；

第二图形，与所述额缘区相对应，用于在额缘区形成不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层在与开口区彩色光阻位置对应的区域具有第一厚度，所述不等厚彩色光阻层在与开口区光阻垫块相对应位置的区域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；所述第二图形包括用于形成第一厚度不等厚彩色光阻层的第一区域和用于形成第二厚度不等厚彩色光阻层的第二区域。

可选的，所述开口区的多个开口呈矩阵式排列，所述开口具有沿列向延伸的长方形结构；

所述第一图形为多列条状图形，用于形成沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口和相邻开口之间的黑色矩阵；

所述第二图形用于形成沿列向延伸的多列条状不等厚彩色光阻层，且所述第一区域为沿列向延伸的长方形结构，所述第二区域位于相邻两个第一区域之间。

可选的，所述第二图形中第二区域沿列向的尺寸为10～150μm。

可选的，所述第二图形的第二区域由部分透光或不透光的材料形成，所述第一区域对光的透过率大于所述第二区域对光的透过率。

可选的，所述第二图形的第二区域由纵横交错的遮光条和狭缝形成，所述第一区域对光的透过率大于所述第二区域对光的透过率。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

本发明在额缘区形成不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层在与开口区彩色光阻位置对应的区域具有第一厚度，所述不等厚彩色光阻层在与光阻垫块相对应位置的区域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。这样在所述额缘区不等厚彩色光阻层中第二厚度对应位置处形成间隔柱时，所述间隔柱下方的不等厚彩色光阻层底座较薄，而额缘区的间隔柱的绝对高度大于开口区光阻垫块上形成的间隔柱，从而使额缘区和开口区间隔柱顶部相对于基板表面的高度相当，进而可以提高显示的均匀度。

附图说明

图1是现有技术彩色滤光基板结构示意图；

图2至图7是现有技术一种彩色滤光基板的形成方法中各步骤的结构示意图；

图8至图11是本发明一种彩色滤光基板一实施例的结构示意图；

图12是本发明一种彩色滤光基板其它实施例的额缘区结构示意图；

图13是本发明一种彩色滤光基板另一实施例的结构示意图；

图14是本发明一种彩色滤光基板又一实施例的结构示意图；

图15至图22是本发明一种彩色滤光基板的形成方法一实施例中各步骤的结构示意图；

图23是本发明一种光罩一实施例的结构示意图；

图24是本发明一种光罩另一实施例的结构示意图；

图25是本发明一种光罩又一实施例的结构示意图。

具体实施方式

现有技术中彩色滤光基板容易引起显示器出现周边显示不均的问题。结合彩色滤光基板的制造过程分析彩色滤光基板容易引起显示器出现周边显示不均的原因：

请参考图5至图7，图6示出了图5所示彩色滤光基板开口区A(即沿a-a’线)的侧面剖视图，图7示出了额缘区B(即沿b-b’线)的侧面剖视图。开口区A的黑色矩阵110具有开口，由于光阻的流动性(图6中箭头示出光阻的流动方向)，从光阻涂布到形成所述彩色光阻层120期间，黑色矩阵110上方的光阻会向开口处流淌，导致开口区A第一间隔柱130a下方的第一彩色光阻层120a的厚度小于额缘区B第二间隔柱130b下方第二彩色光阻层120b的厚度。

此外，在形成间隔柱130的过程中，开口区A彩色光阻层120上方的用于形成第一间隔柱130a的光阻也容易向开口处流淌，导致开口区A第一间隔柱130a的绝对高度小于额缘区B第二间隔柱130b的绝对高度。所述绝对高度指的是间隔柱130顶端到彩色光阻层上表面的距离。

因此，上述两项叠加，导致开口区A第一间隔柱130a相对于玻璃基板100或黑色矩阵上表面的高度小于额缘区B第二间隔柱130b相对于玻璃基板100或黑色矩阵上表面的高度。进而，现有技术彩色滤光基板与阵列基板贴合后，所述开口区A的盒厚将小于额缘区B的盒厚，容易造成周边显示不均的问题。

为了解决上述问题，本发明提供一种彩色滤光基板及其形成方法和光罩，其中，本发明的彩色滤光基板在额缘区形成有不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层在与开口区彩色光阻位置对应的区域具有第一厚度，在所述不等厚彩色光阻层在与开口区光阻垫块相对应位置的区域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；这样在所述额缘区不等厚彩色光阻层中第二厚度对应位置处形成间隔柱时，所述间隔柱下方的不等厚彩色光阻层较薄，而所述间隔柱的绝对高度大于开口区光阻垫块上形成的间隔柱，从而使额缘区和开口区间隔柱顶部相对基板上表面的距离相当，进而可以提高显示的均匀度。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

图8至11是本发明一种彩色滤光基板一实施例的结构示意图，其中，图8是本实施例彩色滤光基板的示意图，图9为图8中开口区I和额缘区II的俯视图，图10为图9沿x-x’线(即开口区)的侧面剖视图，图11为图9沿y-y’线(即额缘区)的侧面剖视图，本实施例彩色滤光基板包括：

如图8所示，基板20，用于彩色滤光基板的支撑。

所述基板20的材料为无碱硼硅玻璃。但是本发明对此不作限定，所述基板20的材料还可以为其他玻璃或塑料板。

形成于基板20上的黑色矩阵21，所述黑色矩阵21包括形成有多个开口的开口区I和位于开口区I周围的额缘区II。其中，所述开口区I用于形成彩色光阻层的功能区。

本实施例中，所述开口区I为长方形，所述额缘区II为围绕所述长方形的方环形区域。所述基板20上形成有多个所述长方形开口区I和与开口区I对应的额缘区II。

所述黑色矩阵21在所述开口区I包括多个开口。所述开口处露出基板20，用于使背景光透过。所述黑色矩阵21在额缘区II不具有开口，因此，所述黑色矩阵21覆盖额缘区II的基板20。

本实施例中，所述黑色矩阵21的材料为黑色树脂，用于防止显示器背景光泄露，提高颜色显示的对比度。但是，本发明对所述黑色矩阵21的材料不做限定，所述黑色矩阵21的材料还可以是镍或铬。

本实施例中，所述多个开口呈矩阵式排列(矩阵行方向为X方向，矩阵列方向为Y方向)，所述开口为沿列向(Y方向)延伸的长方形结构。

形成于所述黑色矩阵21上的彩色光阻层23。形成于开口区I的彩色光阻层23包括填充于开口中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵21上的光阻垫块。形成于所述额缘区的彩色光阻层23’为不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层包括与开口区I彩色光阻位置对应的第一厚度区域和与开口区I光阻垫块位置相对应的第二厚度区域，所述第一厚度区域的不等厚彩色光阻层具有第一厚度，所述第二厚度区域的不等厚彩色光阻层具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。

本实施例中，位于开口区I的所述彩色光阻层23包括沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口和相邻开口之间的黑色矩阵21。填充于所述开口中的条状光阻层为彩色光阻，用于使投射至开口处的光中相应颜色的光透过，从而使像素呈现出相应的颜色，进而实现滤光功能。覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵21上的条状光阻层为光阻垫块，用作开口区I间隔柱的底座。

具体地，如图9所示，本实施例中，沿行方向(X方向)所述彩色光阻层23依次包括：红色条状光阻25、绿色条状光阻26和蓝色条状光阻27。相应的，开口区I的彩色光阻包括：红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻，开口区I的光阻垫块包括：位于红色光阻之间的红色光阻垫块、位于绿色光阻之间的绿色光阻垫块和位于蓝色光阻之间的蓝色光阻垫块。但是本发明对彩色光阻层23的颜色不做限制，所述彩色光阻层23至少包括：红色条状光阻25、绿色条状光阻26、蓝色条状光阻27。

本实施例中，用于形成所述彩色光阻层23的光阻为已分散好颜料的着色树脂形成的着色光阻。所述彩色光阻层23的形成过程包括：在黑色矩阵21和开口处露出的基板20上涂布着色光阻，对所述着色光阻进行曝光以实现图形化，从而形成所述多列条状光阻层。

需要说明的是，在所述涂布着色光阻到曝光有一段时间间隔，由于着色光阻的流动性，开口区I黑色矩阵21上的着色光阻向开口处流淌，导致开口区I光阻垫块的厚度减小。

本实施例中，所述光阻垫块的厚度由所述着色光阻的厚度决定。如果所述着色光阻厚度过小，会限制形成的彩色光阻层23的滤光作用，降低光的纯度；如果所述着色光阻厚度过大会给光刻工艺带来困难，此外还会降低透过彩色光阻层23的曝光累计光强。因此，所述光阻垫块的厚度不易过大或过小。本实施例中，所述光阻垫块的厚度为1.5～3.5μm。具体地，所述光阻垫块的厚度为2μm。

本实施例中，所述彩色光阻层23还包括沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层为条状光阻层，所述不等厚彩色光阻层在第一厚度区域为沿列向延伸的长方形结构，所述不等厚彩色光阻层中第二厚度区域位于相邻两个第一厚度区域之间。

本实施例中，所述条状光阻层包括沿列向排布的多个(图9中为3个长方形光阻)长方形结构光阻(所述长方形结构光阻位于第一厚度区域)且长方形结构光阻之间形成有间隙，所述间隙位于第二厚度区域，所述间隙露出额缘区II的黑色矩阵21。也就是说，所述额缘区II第二厚度区域的彩色光阻层23不存在，即所述第二厚度为0。但是本发明对所述第二厚度不做限定，所述第二厚度还可以在0～2.5μm的范围内。

本实施例中，所述间隙沿列向的尺寸与开口区I列向开口23之间的间距相等。具体地，所述间隙沿列向尺寸为10～150μm。

本实施例中，额缘区II的彩色光阻层23在行方向包括依次排列的红色不等厚光阻层、绿色不等厚光阻层和蓝色不等厚光阻层。所述红色不等厚光阻层与开口区I中红色光阻在同一步骤中形成，所述绿色不等厚光阻层与开口区I中绿色光阻在同一步骤中形成，所述蓝色不等厚光阻层与开口区I中蓝色光阻在同一步骤中形成。但是本发明对所述不等厚彩色光阻层的颜色不做限制，所述不等厚彩色光阻层至少包括：红色不等厚光阻层、绿色不等厚光阻层和蓝色不等厚光阻层。

形成于彩色光阻层23上的间隔柱24，用于起到保持盒厚的作用。

本实施例中，位于开口区I的间隔柱24形成于所述光阻垫块(红色光阻垫块、绿色光阻垫块和蓝色光阻垫块)上，所述额缘区II的间隔柱24形成于条状不等厚彩色光阻层中长方形结构光阻之间的间隙位置处。更具体地说，所述额缘区II的间隔柱24形成在黑色矩阵21上。但是本发明对此不做限定，在其他实施例中，所述第二厚度可以不为0，相应的，所述额缘区II的间隔柱24形成于第二厚度区域的不等厚彩色光阻层上。

需要说明的是，在间隔柱24的形成过程中，从光阻涂布到曝光期间，由于所述开口区I的间隔柱24形成处周围具有开口，所涂布的光阻向开口处流淌，导致开口区I曝光后形成的间隔柱24的绝对高度减小。此外，额缘区II间隔柱24形成于所述长方形结构光阻之间的间隙中，因此涂布的光阻容易向所述间隙处流淌，从而导致间隙处露出的黑色矩阵21上形成的间隔柱24绝对高度增大。因此，本实施例中，所述额缘区II间隔柱24的绝对高度大于所述开口区I间隔柱24的绝对高度，当额缘区II彩色光阻层23的第二厚度为0，即额缘区间隔柱24下方的彩色光阻层不存在时，所述额缘区II相对于基板20的高度与开口区I间隔柱24顶端相对于基板20的高度也可以相同。所述绝对高度指的是间隔柱顶端相对于彩色光阻层上表面的高度。

需要说明的是，本实施中，根据液晶偏转作用所需空间需求，所述间隔柱24相对于彩色光阻层23的高度为2～4.5μm。具体地，所述开口区I间隔柱24的绝对高度为2μm，所述额缘区II间隔柱24的绝对高度为3.6μm。

本实施例中，所述开口区I与额缘区II间隔柱24顶端相对基板20上表面的高度差为0～0.4μm。也就是说，所述开口区I和所述额缘区II能实现盒厚基本一致，从而提高了显示的均匀度。

本实施例中，所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻成条型排列。但是本发明对所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的排列方式不做限制，所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的排列方式还可以为马赛克型或三角型排列。

请参考图12，图12是本发明彩色滤光基板其它实施例额缘区结构示意图。

需要说明的是，本发明对所述第二厚度不做限制，所述第二厚度可以为由涂所述着色光阻的厚度及间隔柱24’的绝对高度决定的，小于开口区光阻垫块的不为0的其它值。本实施例中，所述第二厚度区域的彩色光阻层23’为与开口区彩色光阻形状和尺寸相同的长方形结构。但是本发明对所述第二厚度区域的彩色光阻层23’的形状和尺寸不做限制，所述第二厚度区域的彩色光阻层23’还可以为尺寸大于间隔柱24’底部尺寸的其它形状。

图13是本发明一种彩色滤光基板另一实施例结构示意图。

请参考图13，所述滤光片结构与彩色滤光基板一实施例的相同之处在此不做赘述，不同之处包括：开口区m的开口为成矩阵式排列的方形结构，间隔柱330形成于所述方形结构之间的矩阵对角线上。

开口区m的彩色光阻层300包括：填充于开口区m开口中的彩色光阻311和连接彩色光阻311的光阻垫块312。具有相同颜色的所述彩色光阻311沿矩阵对角线方向排列，所述光阻垫块312沿矩阵对角线方向连接两个相同颜色的彩色光阻311。

额缘区n的彩色光阻层300位于开口区m彩色光阻层300的延伸线上，所述彩色光阻层300在第一厚度区域321具有第一厚度，在第二厚度区域322具有第二厚度。

本实施例中，所述第一厚度不为0，所述第二厚度为0，即额缘区n第二厚度区域不形成彩色光阻层。但是本发明对所述第二厚度不做限制，所述第二厚度还可以为小于所述第一厚度的其他值。

图14为本发明一种彩色滤光基板又一实施例的结构示意图。

请参考图14，本实施例的彩色滤光基板结构与本发明彩色滤光基板一实施例的相同之处在此不做赘述，不同之处包括：

开口区a的开口为多行沿列向排列的方形结构，相邻两行方形结构相互错开。

彩色光阻层包括：沿列向(Y方向)延伸的折线结构光阻410和位于两列相邻折线结构光阻之间的方形结构光阻420。相邻两列所述折线结构光阻410关于列方向(即Y方向)的中心线对称。所述方形结构光阻420沿所述相邻折线结构光阻410的对称轴排列。

所述开口区a折线结构光阻层410包括填充于所述开口中的彩色光阻411和连接相邻所述彩色光阻411的光阻垫块412。所述光阻垫块412为沿相邻所述彩色光阻411连线方向延伸的平行四边形结构。

所述额缘区b折线结构光阻层410包括与开口区a彩色光阻411位置对应的第一厚度区域421和连接相邻所述第一厚度区域421的第二厚度区域422。所述第二厚度区域422为沿相邻两个第一厚度区域421连线方向延伸的平行四边形结构。但是，本发明对所述第二厚度区域422的形状和尺寸不做限制，所述第二厚度区域422还可以为尺寸大于间隔柱430底部尺寸的其它形状。

间隔柱430形成于所述折线性结构光阻层410的光阻垫块412和第二厚度区域422的中心位置处。

本实施例中，额缘区b第二厚度为0，但是本发明对所述第二厚度不做限制，所述第二厚度还可以为小于第一厚度的其他值。

图15至图22是本发明一种彩色滤光基板形成方法一实施例的各步骤示意图。

请参考图15，提供基板500，用于为彩色滤光基板提供支撑。

本实施例中，所述基板500为无碱硼硅石英玻璃。但是本发明对此不做限定，所述基板500的材料还可以为其它玻璃或塑料。

结合参考图16，图16是图15沿1-1’线的正面剖视图。在所述基板500上形成黑色矩阵520，所述黑色矩阵520包括具有开口510的开口区N和位于开口区N周围的额缘区M。

本实施例中，所述开口510底部露出所述基板500，用于使背景光透过。所述黑色矩阵520在额缘区M覆盖额缘区M的基板500。

本实施例中，所述开口510为呈矩阵式排列的长方形结构开口，但是本发明对所述开口510的排列方式和所述开口510的形状不做限制，所述开口510还可以为成三角型排列的方形结构开口。

本实施例中，所述黑色矩阵520的材料为黑色树脂，用于防止显示器背景光泄露，提高颜色显示的对比度，防止混色和增加颜色的纯度。但是，本发明对所述黑色矩阵520的材料不做限制，所述黑色矩阵520的材料还可以是镍或铬。

本实施例中，所述黑色矩阵520的形成方法包括：在所述基板500上涂布黑色树脂，通过曝光、显影、硬烤在基板500上形成黑色矩阵520。

请参考图17至图19，在黑色矩阵上形成彩色光阻层530。

本实施例中，所述形成彩色光阻层530的步骤包括：

如图17所述，在所述黑色矩阵上涂布红色光阻，通过光刻在所述开口区N和额缘区M分别形成红色光阻层531和红色不等厚光阻层；

如图18所示，在所述黑色矩阵上涂布绿色光阻，通过光刻在所述开口区N和额缘区M分别形成绿色光阻层532和绿色不等厚光阻层；

如图19所示，在所述黑色矩阵上涂布蓝色光阻，通过光刻在所述开口区N和额缘区M分别形成蓝色光阻层533和蓝色不等厚光阻层。

需要说明的是，本发明对于形成红色光阻层531和红色不等厚光阻层、绿色光阻层532和绿色不等厚光阻层及蓝色光阻层533和蓝色不等厚光阻层的顺序不做限定。

请参考图19至图21，图20为图19沿2-2’线(即开口区N)的侧面剖视图，图21为图19沿3-3’线(即额缘区M)的侧面剖视图。

形成于开口区N的彩色光阻层530包括填充于开口(如图16所示)中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵520上的光阻垫块，形成于所述额缘区M的彩色光阻层530为不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层包括与开口区N彩色光阻位置对应的第一厚度区域和与开口区N光阻垫块位置相对应的第二厚度区域。所述第一厚度区域的彩色光阻层530具有第一厚度，所述第二厚度区域的彩色光阻层530具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。

本实施例中，在所述开口区N成彩色光阻层530的步骤包括：在开口区M形成沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口510和相邻开口510之间的黑色矩阵520，填充于所述开口510中的条状光阻层为所述彩色光阻，覆盖在相邻开口510之间黑色矩阵520上的条状光阻层为所述光阻垫块。

本实施例中，在额缘区M形成彩色光阻层530的步骤包括：在所述额缘区N形成沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层为条状光阻层，所述不等厚彩色光阻层中第一厚度区域为沿列向延伸的长方形结构，所述不等厚彩色光阻层中第二厚度区域位于第一厚度区域之间。

需要说明的是，本实施例中，开口区N的所述彩色光阻为填充于开口中的长方形结构，连接所述彩色光阻的光阻垫块也为长方形结构。额缘区M彩色光阻层530的第一厚度区域为与所述长方形结构的彩色光阻尺寸和形状相当的长方形结构。额缘区M彩色光阻层530的第二厚度区域与所述长方形结构光阻垫块的尺寸和形状相同。但是，本发明对所述额缘区M的彩色光阻层530的第二厚度区域的形状和尺寸不做限制，所述第二厚度区域还可以为大于额缘区M间隔柱底部尺寸的其它形状区域。

本实施例中，所述红色光阻层531包括填充于开口区N开口中的红色光阻和红色光阻之间的红色光阻垫块；所述绿色光阻层532包括填充于开口区N开口中的绿色光阻和绿色光阻之间的绿色光阻垫块；所述蓝色光阻层531包括填充于开口区N开口中的蓝色光阻和蓝色光阻之间的蓝色光阻垫块。

本实施例中，所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻用于构成所述彩色光阻，所述红色不等厚光阻层、绿色不等厚光阻层和蓝色不等厚光阻层用于构成所述额缘区的不等厚彩色光阻层。

需要说明的是，本发明对所述彩色光阻层530的步骤不做限制，所述形成彩色光阻层530的步骤至少包括：形成红色光阻层531并形成红色不等厚光阻层，形成绿色光阻层532并形成绿色不等厚光阻层，形成蓝色光阻层533并形成蓝色不等厚光阻层。

具体地，所述形成彩色光阻层530的步骤还包括：将染料分散在液体树脂中，形成着色光阻，将所述着色光阻涂布在所述黑色矩阵520和开口露出的基板500上，对所述着色光阻进行曝光，再经显影、硬烤形成所述彩色光阻层530。

需要说明的是，本实施例中，在所述彩色光阻层530的形成过程中，从涂布到曝光有一段时间间隔，由于所述着色光阻的流动性，涂布在开口区N的黑色矩阵520上的着色光阻会向所述开口处流淌，导致形成于黑色矩阵520上的光阻垫块的厚度减小。由于额缘区M的第二厚度区域不受光照射，因此所述第二厚度区域不会形成彩色光阻层。

此外，所述光阻垫块的厚度由所述彩色光阻层530形成过程中涂布的着色光阻的厚度决定，所述着色光阻的厚度过小，很难起到滤光的作用，会降低透过的背景光纯度，所述着色光阻的厚度过大，会增大彩色滤光基板的厚度，此外还会降低透过彩色光阻层530的背景光强度。所述光阻垫块的厚度为1.5～3.5μm。具体地，本实施例中，所述开口区N光阻垫块的厚度为2μm。

还需要说明的是，本发明对所述第二厚度不做限制，所述第二厚度可以通过调节所述照射到第二厚度区域的着色光阻上的曝光累计光强进行调节。所述额缘区M第二厚度为0～2.5μm。具体地，本实施例中，额缘区M第二厚度区域不受光照射，因此，彩色光阻层530在第二厚度区域不会形成。具体的，所述额缘区M第二厚度为0。

请参考图22，在所述彩色光阻层530上形成间隔柱540；所述开口区N的间隔柱540形成于所述光阻垫块上，所述额缘区M的间隔柱540形成于不等厚彩色光阻层中第二厚度区域。

本实施例中，所述间隔柱540的形成方法包括：在所述彩色光阻层530和所述间隙处露出的黑色矩阵上涂布光阻，对所述光阻进行曝光、显影、硬烤形成所述间隔柱540。

需要说明的是，本实施例中，在从涂布光阻到曝光的过程中，所述开口区N光阻垫块周围具有所述开口，填充于开口中的所述彩色光阻层530高度低于所述黑色矩阵上方的彩色光阻层530的高度，由于涂布的用于形成间隔柱540的光阻的流动性，所述黑色矩阵520(请参考图21)上涂布的用于形成所述间隔柱540的光阻会向所述开口处流淌，导致形成的所述开口区N间隔柱540的绝对高度降低。所述开口区N间隔柱540的绝对高度指的是间隔柱540顶端相对于光阻垫块上表面的高度。

相应的，本实施例中，所述额缘区M彩色光阻层530在第二厚度区域具有间隙，在形成所述间隔柱540的过程中，所述额缘区M彩色光阻层530上的用于形成间隔柱540的光阻会向所述间隙处流淌，导致形成于所述间隙处的间隔柱540的高度增加。因此，本实施例中，额缘区M间隔柱540的绝对高度大于所述开口区N间隔柱540的绝对高度。额缘区M间隔柱540的绝对高度指的是额缘区M间隔柱540顶端到黑色矩阵上表面的高度。

需要说明的是，根据液晶偏转作用所需空间的需要，所述间隔柱540的高度为2～4.5μm。具体地，本实施例中，形成于所述开口区N的间隔柱540的绝对高度为2μm，形成于所述额缘区M的间隔柱540的绝对高度为3.6μm。

还需要说明的是，本发明对所述开口区N间隔柱540顶端相对于基板500上表面的高度与额缘区M间隔柱540顶端相对于基板500上表面的高度差不做限制。所述高度差可以通过改变照射到额缘区M第二厚度区域的曝光累计光强进行调节。所述开口区N间隔柱540顶端相对于基板500上表面的高度与额缘区M间隔柱540顶端相对于基板500上表面的高度差为0～0.4μm。具体地，本实施例中，所述开口区N间隔柱540顶端相对于基板500上表面的高度与额缘区M间隔柱540顶端相对于基板500上表面的高度差为0.4μm。

图23是本发明的光罩一实施例的结构示意图。

请参考图23，一种用于制造彩色滤光基板的光罩，所述彩色滤光基板包括：基板；依次形成于基板的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括具有开口的开口区和位于所述开口区周围的额缘区；彩色光阻层和间隔柱；所述光罩600用于形成所述彩色光阻层，其特征在于，所述光罩包括：

基体600，所述基体600上形成有：

第一图形610，与所述开口区相对应，用于形成开口区的彩色光阻层，所述彩色光阻层包括：填充于开口中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵的光阻垫块；

第二图形620，与所述额缘区相对应，用于在额缘区形成不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层在与开口区彩色光阻位置对应的区域具有第一厚度，所述不等厚彩色光阻层在与光阻垫块相对应位置的区域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度，所述第二图形620包括用于形成第一厚度不等厚彩色光阻层的第一区域621和用于形成第二厚度不等厚彩色光阻层的第二区域622。

本实施例中，所述开口区的多个开口呈矩阵式排列，所述开口具有沿列向延伸的长方形结构。

本实施例中，所述第一图形610为多列条状图形，用于形成沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口和相邻开口之间的黑色矩阵。所述条状图形由透光的石英玻璃形成。

本实施例中，由于所述第一图形610可以通过光，在开口区形成的彩色光阻层厚度不为0，即所形成的光阻垫块和彩色光阻厚度均不为0。

本实施例中，所述第二图形620的所述第一区域621为沿列向延伸的长方形，所述第二区域622为位于相邻第一区域621之间的长方形，本发明对所述第二区域622的形状和尺寸不做限制，所述第二区域622还可以为尺寸大于所述间隔柱底部尺寸的其它形状。

本实施中，所述第二区域622在列向的尺寸与开口区开口之间的距离相当，所述第一区域621的尺寸与所述开口区开口的尺寸相当。具体的，所述第二区域622在列向的尺寸为10～150μm。

本实施例中，所述基体600由不透光的镀有金属铬层的石英玻璃形成。所述第二区域622由与基体600相同的材料形成。

本实施例中，由于所述第二区域622不透光，所述额缘区与开口区光阻垫块对应位置上的不等厚彩色光阻层不会形成，即所述第二厚度为0。

需要说明的是，本发明对所述第二图形的第二区域的材料不做限制，在其它实施例中，所述第二图形的第二区域还可以由半透光材料或者带有半透光有机膜的石英玻璃形成，使所述第二图形的第二区域对光的透过率小于所述第一区域对光的透过率。由半色调掩膜法在所述额缘区形成具有第二厚度的彩色光阻层。所述第二厚度可以根据间隔柱的绝对高度和开口区彩色光阻的厚度进行选择。具体的，通过调节所述半透光材料的组成成分调节所述第二区域对光的透过率，从而调节第二厚度。最终使开口区和额缘区间隔柱顶端到所述基板上表面的高度差尽量小。

还需要说明的是，在其它实施例中，所述第二图形的第二区域还可以由纵横交错的遮光条和狭缝形成，所述纵横交错的遮光条和狭缝形成的第二区域对光的透过率小于所述第一区域。由灰阶掩膜法在所述额缘区形成具有第二厚度的彩色光阻层。所述第二厚度可以根据额缘区和开口区间隔柱的绝对高度和开口区光阻垫块的厚度，通过所述遮光条和狭缝的宽度调节所述第二区域对光的透过率进行调节，从而使开口区和额缘区间隔柱顶端到所述基板上表面的高度差尽量小。

图24是本发明的光罩另一实施例的结构示意图。

请参考图24，本实施例中与本发明的光罩一实施例的相同之处在此不做赘述，不同之处包括：

本实施例中，所述多个开口为方形结构开口且多个方形结构开口呈矩阵式排列；所述间隔柱形成在矩阵对角线方向的所述方形结构开口之间。

本实施例中，所述第一图形710包括：方形图形711和连接方形图形的连接图形712。所述方形图形711沿矩阵对角线方向排列，所述连接图形712位于方形图形之间，沿矩阵对角线方向延伸。所述连接图形712用于形成开口区间隔柱下方的光阻垫块，所述方形图形711用于形成填充于所述开口区开口中的彩色光阻。

本实施例中，所述第二图形720的第一区域721为方形，且沿矩阵对角线方向排列。所述第二区域722为沿矩阵对角线方向连接相邻第一区域721之间的条形。但是，本发明对所述第二区域722的尺寸和形状不做限制，所述第二区域722还可以为所形成的间隔柱下方的光阻垫块大于所述间隔柱底部尺寸的其它图形。

本实施例中，所述第二区域722由与基板相同的材料形成，所述形成基体的材料为镀有不透光的金属铬层的石英玻璃。因此，额缘区的第二厚度不为0，额缘区的第一厚度为0，即额缘区间隔柱下方不形成彩色光阻层。

需要说明的是，本发明对所述第二区域的材料和额缘区第二厚度不做限制，所述第二图形的第二区域还可以由半透光材料或带有半透光有机膜的石英玻璃形成，用于通过半色调掩膜法形成额缘区间隔柱下方的彩色光阻层。所述半透光材料或带有半透光有机膜的石英玻璃对光的透过率小于第一区域对光的透过率。第二厚度还可以为小于第一厚度的其它值。

在其它实施例中，所述第二图形的第二区域还可以由纵横交错的遮光条和狭缝形成。

图25为本发明的光罩又一实施例的结构示意图。

请参考图25，所述光罩与本发明的光罩一实施例的相同之处在此不做赘述，不同之处包括：

第一图形810为多列折线图形，所述折线图行包括多个与开口区开口对应的方形图形811和连接所述方形图形811的连接图形812。相邻两行方形图形811相互错开，所述连接图形812为沿相邻两行错开的方形图形811连线方向延伸的平行四边形。所述第二图形820位于所述第一图形810的延伸线上。所述第二图形820的第一区域821为多行沿行向排列的方形，相邻两行所述方形相互错开，第二区域822为连接所述第一区域821的平行四边形，所述平行四边形沿第一区域821的连线方向延伸。本发明对所述第二区域822的形状不做限制，所述第二区域822还可以为尺寸大于所述间隔柱底部尺寸的其它图形。

需要说明的是，本实施例中，所述第二区域822由与基体800相同的材料形成，所述用于形成第二区域822的材料为镀有不透光的铬膜的石英玻璃。但是，本发明对所述第二区域822的材料不做限定，所述第二图形820的第二区域822还可以由半透光材料或带有半透光有机膜的石英玻璃形成，用于通过半色调掩膜法形成额缘区间隔柱下方的彩色光阻层。在其它实施例中，所述第二图形的第二区域还可以由纵横交错的遮光条和狭缝形成。

综上，在形成所述间隔柱和彩色光阻层的过程中，由于光阻的流动性，导致开口区间隔柱的绝对高度和间隔柱下方彩色光阻层厚度减小以及额缘区间隔柱绝对高度增加。本发明在额缘区形成不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层在与开口区彩色光阻位置对应的区域具有第一厚度，在所述不等厚彩色光阻层在与光阻垫块相对应位置的区域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；这样在所述额缘区不等厚彩色光阻层中第二厚度对应位置处形成间隔柱时，所述间隔柱下方的不等厚彩色光阻层底座较薄，而所述间隔柱的高度较大，从而使额缘区和开口区间隔柱顶部相对基板上表面的高度相当，进而可以提高显示的均匀度。

以上所述仅为本发明的具体实施例，目的是为了使本领域技术人员更好的理解本发明的精神，然而本发明的保护范围并不以该具体实施例的具体描述为限定范围，任何本领域的技术人员在不脱离本发明精神的范围内，可以对本发明的具体实施例做修改，而不脱离本发明的保护范围。

Claims (17)

1.一种彩色滤光基板，其特征在于，包括：

基板；

形成于基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区；

形成于所述黑色矩阵上的彩色光阻层；形成于开口区的彩色光阻层包括填充于开口中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵上的光阻垫块，形成于所述额缘区的彩色光阻层为覆盖在黑色矩阵上的不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层包括与开口区彩色光阻位置对应的第一厚度区域和与开口区光阻垫块位置相对应的第二厚度区域，所述第一厚度区域的不等厚彩色光阻层具有第一厚度，所述第二厚度区域的不等厚彩色光阻层具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；

形成于彩色光阻层上的间隔柱；所述开口区的间隔柱形成于所述光阻垫块上，所述额缘区的间隔柱形成于第二厚度区域。

2.如权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述多个开口呈矩阵式排列，所述开口为沿列向延伸的长方形结构；

所述开口区的彩色光阻层包括沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口和相邻开口之间的黑色矩阵，填充于所述开口中的条状光阻层为所述彩色光阻，覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的条状光阻层为所述光阻垫块；

所述额缘区的彩色光阻层包括沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层为条状光阻层，所述不等厚彩色光阻层中第一厚度区域为沿列向延伸的长方形结构，所述不等厚彩色光阻层中第二厚度区域位于相邻两个第一厚度区域之间。

3.如权利要求1或2所述的彩色滤光基板，其特征在于，额缘区所述第二厚度区域沿列向的尺寸为10～150μm。

4.如权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述开口区的彩色光阻至少包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻；

所述额缘区不等厚彩色光阻层至少包括红色不等厚光阻层、绿色不等厚光阻层和蓝色不等厚光阻层。

5.如权利要求4所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述开口区的彩色光阻至少包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻；

所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻成三角型、条型或马赛克型排列。

6.如权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述开口区与额缘区间隔柱顶端相对基板上表面的高度差为0～0.4μm。

7.一种彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成具有多个开口的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于所述开口区周围的额缘区；

在所述黑色矩阵上形成彩色光阻层；形成于开口区的彩色光阻层包括填充于开口中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵上的光阻垫块，形成于所述额缘区的彩色光阻层为覆盖在黑色矩阵上的不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层包括与开口区彩色光阻位置对应的第一厚度区域和与开口区光阻垫块相对应位置的第二厚度区域，所述第一厚度区域的不等厚彩色光阻层具有第一厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；

在所述彩色光阻层上形成间隔柱；所述开口区的间隔柱形成于所述光阻垫块上，所述额缘区的间隔柱形成于第二厚度区域。

8.如权利要求7所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述基板上形成具有多个开口的黑色矩阵的步骤中：所述多个开口呈矩阵式排列，所述开口为沿列向延伸的长方形结构；

在所述黑色矩阵上形成彩色光阻层的步骤包括：

在开口区形成沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口和相邻开口之间的黑色矩阵，填充于所述开口中的条状光阻层为所述彩色光阻，覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的条状光阻层为所述光阻垫块；

在所述额缘区形成沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层为条状光阻层，所述不等厚彩色光阻层中第一厚度区域为沿列向延伸的长方形结构，所述不等厚彩色光阻层中第二厚度区域位于相邻两个第一厚度区域之间。

9.如权利要求8所述的滤光片的形成方法，其特征在于，在所述基板上形成具有多个开口的黑色矩阵的步骤中，在额缘区形成的不等厚彩色光阻层中第二厚度区域沿列向的尺寸为10～150μm。

10.如权利要求7所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵上形成彩色光阻层的步骤至少包括：

在所述黑色矩阵上涂布红色光阻，通过光刻在所述开口区和额缘区分别形成红色光阻层和红色不等厚光阻层；

在所述黑色矩阵上涂布绿色光阻，通过光刻在所述开口区和额缘区分别形成绿色光阻层和绿色不等厚光阻层；

在所述黑色矩阵上涂布蓝色光阻，通过光刻在所述开口区和额缘区分别形成蓝色光阻层和蓝色不等厚光阻层；

所述红色光阻层包括填充于开口区开口中的红色光阻和覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的红色光阻垫块；

所述绿色光阻层包括填充于开口区开口中的绿色光阻和覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的绿色光阻垫块；

所述蓝色光阻层包括填充于开口区开口中的蓝色光阻和覆盖在相邻开口之间的黑色矩阵上的蓝色光阻垫块；

所述红色光阻、绿色光阻、蓝色光阻用于构成所述彩色光阻，所述红色不等厚光阻层、绿色不等厚光阻层和蓝色不等厚光阻层用于构成所述额缘区的不等厚彩色光阻层。

11.如权利要求10所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在形成彩色光阻层的步骤中，所述红色光阻、绿色光阻、蓝色光阻成三角型、条型或马赛克型排列。

12.如权利要求7所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在彩色光阻层上形成间隔柱的步骤中，所述开口区和额缘区间隔柱顶端相对基板上表面的高度差为0～0.4μm。

13.一种用于制造彩色滤光基板的光罩，所述彩色滤光基板包括：基板；形成于基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区；彩色光阻层和间隔柱；所述光罩用于形成所述彩色光阻层，其特征在于，所述光罩包括：

基体，所述基体上形成有：

第一图形，与所述开口区相对应，用于形成开口区的彩色光阻层，所述彩色光阻层包括填充于开口中的多个彩色光阻和覆盖于相邻彩色光阻之间黑色矩阵上的光阻垫块；

第二图形，与所述额缘区相对应，用于在额缘区形成不等厚彩色光阻层，所述不等厚彩色光阻层在与开口区彩色光阻位置对应的区域具有第一厚度，所述不等厚彩色光阻层在与开口区光阻垫块相对应位置的区域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；所述第二图形包括用于形成第一厚度不等厚彩色光阻层的第一区域和用于形成第二厚度不等厚彩色光阻层的第二区域。

14.如权利要求13所述的光罩，其特征在于，所述开口区的多个开口呈矩阵式排列，所述开口具有沿列向延伸的长方形结构；

所述第一图形为多列条状图形，用于形成沿列向延伸的多列条状光阻层，所述条状光阻层覆盖列向数个开口和相邻开口之间的黑色矩阵；

所述第二图形用于形成沿列向延伸的多列条状不等厚彩色光阻层，且所述第一区域为沿列向延伸的长方形结构，所述第二区域位于相邻两个第一区域之间。

15.如权利要求14所述的光罩，其特征在于，所述第二图形中第二区域沿列向的尺寸为10～150μm。

16.如权利要求13所述的光罩，其特征在于，所述第二图形的第二区域由部分透光或不透光的材料形成，所述第一区域对光的透过率大于所述第二区域对光的透过率。

17.如权利要求13所述的光罩，其特征在于，所述第二图形的第二区域由纵横交错的遮光条和狭缝形成，所述第一区域对光的透过率大于所述第二区域对光的透过率。