CN111679490B - 彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置，彩膜基板包括：衬底基板；黑矩阵，形成于所述衬底基板上，所述黑矩阵包括网格状的遮光条，所述网格状的遮光条限定出多个子像素的开口，所述多个子像素包括彩色子像素和白色子像素；以及多个色阻块，每个所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影完全覆盖一个所述彩色子像素的开口，且与所述白色子像素相邻的至少一个所述彩色子像素的所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影还覆盖所述白色子像素的开口的一部分，使得显示画面的白色度与高色域模式(不开启白色子像素)显示画面的白色度的差值减小，给用户带来比较小的视觉差异。

Description

彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置。

背景技术

随着电子产品的发展，屏幕在人们生活中的运用越来越广泛。随着屏幕分辨率的提高，为了提升屏幕的显示亮度，屏幕中的液晶显示面板通常采用RGWB四色显示技术。

目前，在显示面板的彩膜上只设置有对应红色子像素R处的红色色阻，对应绿色子像素G处的绿色色阻以及对应蓝色子像素B处的蓝色色阻，对应白色子像素W处采用平坦化层(OC)填充，通常平坦化层的透过率接近100％。

在实际应用中，显示面板的显示包括高色域(不开启白色子像素)和高亮(开启白色子像素)两种显示模式，在高色域模式下，由于白色子像素不开启，背光只经过红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻滤光混色显示，画面白色度要偏蓝，而在高亮模式下，由于白色子像素开启，背光不仅会经过红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻滤光，还会经过白色子像素直接穿透平坦化层，最终混色显示的画面白色度要偏黄。

由此，如果在同一使用环境下进行高色域模式和高亮模式切换时，由于偏蓝和偏黄在视觉上是差别比较大的两种色彩，因此会给用户造成视觉落差，体验不佳。

发明内容

本发明的目的是针对上述现有技术的不足提出的一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置，该目的是通过以下技术方案实现的。

本发明的第一方面提出了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：

衬底基板；

黑矩阵，形成于所述衬底基板上，所述黑矩阵包括网格状的遮光条，所述网格状的遮光条限定出多个子像素的开口，所述多个子像素包括彩色子像素和白色子像素；以及

多个色阻块，每个所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影完全覆盖一个所述彩色子像素的开口，且与所述白色子像素相邻的至少一个所述彩色子像素的所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影还覆盖所述白色子像素的开口的一部分。

基于上述第一方面描述的彩膜基板，具有如下有益效果：

通过将与白色子像素相邻的至少一个彩色子像素对应的色阻块进行延伸，以覆盖白色子像素的开口的一部分，由于背光在经过白色子像素时，一部分光会被延伸过来的色阻块过滤，因此在高亮模式下背光经过彩色子像素的色阻和白色子像素的混色画面的白色度会下降，使得与高色域模式显示画面的白色度的差值减小，用户在进行高色域模式和高亮模式切换时，能够减小视觉落差，给用户带来比较好的体验。

本发明的第二方面提出了一种彩膜基板的制备方法，所述方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上制备黑矩阵，所述黑矩阵包括网格状的遮光条，所述网格状的遮光条限定出多个子像素的开口，所述多个子像素包括彩色子像素和白色子像素；

在所述黑矩阵上形成与所述白色子像素相邻的所述彩色子像素的开口对应的光刻胶，并使用第一曝光参数对所述光刻胶进行曝光，以形成覆盖所述彩色子像素的开口且覆盖部分所述白色子像素的开口的色阻块；

在所述黑矩阵上形成与所述白色子像素不相邻的所述彩色子像素的开口对应的光刻胶，并使用第二曝光参数对所述光刻胶进行曝光，以形成覆盖与所述白色子像素不相邻的所述彩色子像素的开口的色阻块。

基于上述第二方面描述的彩膜基板的制备方法，具有如下有益效果：

在不增加制程或改变光罩的前提下，通过使用不同的曝光参数形成与白色子像素相邻的彩色子像素的色阻块和与白色子像素不相邻的彩色子像素的色阻块，即可达到减小高色域模式显示画面的白色度与高亮模式显示画面的白色度差值的目的，因此本发明方案的工艺流程简单、成本低。

本发明的第三方面提出了一种显示面板，所述显示面板包括如上述第一方面所述的彩膜基板。

本发明的第四方面提出了一种显示装置，所述显示装置包括如上述第三方面所述的显示面板。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1A和图1B为现有技术中的彩膜基板结构示意图；

图2A和图2B为本发明示出的一种彩膜基板的结构示意图；

图3为本发明示出的另一种彩膜基板的结构示意图；

图4为本发明示出的又一种彩膜基板的结构示意图；

图5A～图5C为本发明示出的又一种彩膜基板的结构示意图；

图6为本发明示出的再一种彩膜基板的结构示意图；

图7为本发明示出的再一种彩膜基板的结构示意图；

图8为本发明示出的再一种彩膜基板的结构示意图；

图9为本发明示出的再一种彩膜基板的结构示意图；

图10为本发明示出的一种彩膜基板的制备方法的实施例流程图；

图11为本发明示出的一种显示面板的结构示意图；

图12为本发明示出的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本发明相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本发明的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本发明使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

应当理解，尽管在本发明可能采用术语第一、第二、第三等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本发明范围的情况下，第一信息也可以被称为第二信息，类似地，第二信息也可以被称为第一信息。取决于语境，如在此所使用的词语“如果”可以被解释成为“在……时”或“当……时”或“响应于确定”。

图1A和图1B为现有技术中的彩膜基板结构，图1B为图1A中沿AA’的剖面图，由黑矩阵(BM)限定出的彩色子像素开口和白色子像素开口中，彩色子像素开口中的红色子像素开口处设置有红色色阻R、绿色子像素开口处设置有绿色色阻G以及蓝色子像素开口处设置有蓝色色阻B，而白色子像素开口处没有色阻，是由平坦化层(OC)进行填充的。

由于平坦化层的透过率接近100％，因此背光源的背光如果只经过白色子像素显示，其显示的白色度是与背光自身具有的白色度一致的。

在实际应用中，显示面板的显示包括高色域(不开启白色子像素)和高亮(开启白色子像素)两种显示模式，在高色域模式下，由于白色子像素不开启，背光只经过红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻滤光混色显示，画面白色度要偏蓝，而在高亮模式下，由于白色子像素开启，背光不仅会经过红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻滤光，也会经过白色子像素开口直接穿透平坦化层，最终混色显示的画面白色度要偏黄。

通常在显示面板的产品设计中，显示面板的白色度值是重要的考量因素，其中，标准白色度坐标为(0.333,0.333)。由此，如果在同一使用环境下进行高色域模式和高亮模式切换时，由于偏蓝的白色度相对于标准白色度要偏小，偏黄的白色度相对于标准白色度要偏大，因此二者的白色度差值会比较大，进而在人眼视觉上二者落差就比较大，从而会给用户造成视觉差异，带来不好的体验。

为了解决上述技术问题，发明人经过实验测试发现，在高亮显示模式下，通过用色阻遮挡一部分白色子像素开口，可以使得显示画面的白色度与高色域模式(不开启白色子像素)显示画面的白色度的差值减小，给用户带来比较小的视觉差异。

基于此，本发明提出一种改进的彩膜基板结构，参见图2A和图2B所示，图2A为彩膜基板的俯视示意图，图2B为图2A中沿BB’的剖面图，该彩膜基板10包括衬底基板20和形成于衬底基板20上的黑矩阵30，该黑矩阵30包括网格状的遮光条301，并且这些网格状的遮光条301限定出多个子像素的开口40，该多个子像素包括有彩色子像素和白色子像素；该彩膜基板10还包括多个色阻块50，每个色阻块50在彩膜基板10所在平面的正投影会完全覆盖一个彩色子像素的开口40，且对于与白色子像素相邻的至少一个彩色子像素对应的色阻块50在彩膜基板10所在平面的正投影还覆盖白色子像素的开口40的一部分401。

需要说明的是，白色子像素的开口面积与彩色子像素的开口面积可以相同，也可以不相同，本发明对此不进行具体限定。当然为了简化黑矩阵30的制备工艺，白色子像素和彩色子像素的开口面积可以相同，这样黑矩阵30的均匀制程相对容易。

需要进一步说明的是，对于与白色子像素相邻的彩色子像素的色阻块除了要覆盖彩色子像素的开口，还需要覆盖部分白色子像素的开口，因此其色阻块的线宽相对于与白色子像素不相邻的彩色子像素对应的色阻块的线宽要宽，为了增加与白色子像素相邻的彩色子像素的色阻块的线宽，可以通过调整形成该色阻块的工艺参数改变线宽，无需增加制程或改变光罩，成本较低。

在本实施例提供的彩膜基板中，通过将与白色子像素相邻的至少一个彩色子像素对应的色阻块进行延伸，以覆盖白色子像素的开口的一部分，由于背光在经过白色子像素时，一部分光会被延伸过来的色阻块过滤，因此在高亮模式下背光经过彩色子像素的色阻和白色子像素的混色画面的白色度会下降，使得与高色域模式显示画面的白色度的差值减小，用户在进行高色域模式和高亮模式切换时，能够减小视觉落差，给用户带来比较好的体验。

可选的，如图2B所示，该彩膜基板10还包括形成于色阻块50上的平坦化层60，并且白色子像素的开口未被覆盖部分所对应的平坦化层的厚度h1大于每一彩色子像素的开口对应的平坦化层的厚度h2。

在一些实施例中，多个子像素是呈多行多列的阵列式排列，其中，至少一子像素行的子像素包括交替排列的彩色子像素和白色子像素；至少一子像素列的子像素可以只包括白色子像素，也可以只包括彩色子像素，还可以包括交替排布的白色子像素和彩色子像素。

基于此，可以是与白色子像素同一行相邻排布的至少一个彩色子像素对应的色阻块在彩膜基板所在平面的正投影覆盖白色子像素的开口的一部分。

通常，彩色子像素包括有三种显示颜色不同的子像素，即第一颜色子像素、第二颜色子像素以及第三颜色子像素，如图2A所示，在每一行中白色子像素和彩色子像素交替排列，对于子像素列，既有只有白色子像素的子像素列，也有只有彩色子像素的子像素列，其中第一颜色子像素的开口对应的是色阻块501，第二颜色子像素的开口对应的是色阻块502，第三颜色子像素的开口对应的是色阻块503，且与白色子像素同一行相邻的第二颜色子像素的色阻块502和第三颜色子像素的色阻块503是均还覆盖白色子像素的开口的一部分。

本领域技术人员可以理解的是，上述图2A的覆盖方式仅为一种示例说明，当然，还可以是与白色子像素同一行相邻的第二颜色子像素的色阻块502还覆盖白色子像素的开口的一部分，或者还可以是与白色子像素同一行相邻的第三颜色子像素的色阻块503还覆盖白色子像素的开口的一部分。

仍以这三种颜色子像素为例，图3和图4示出两种不同子像素排布示例：

参见图3所示的彩膜基板，在每一行中白色子像素和彩色子像素交替排列，对于子像素列，既有只有彩色子像素的子像素列，还有白色子像素和彩色子像素交替排列的子像素列，且与白色子像素同一行相邻的第一颜色子像素的色阻块501和第三颜色子像素的色阻块503均还覆盖白色子像素的开口的一部分。

当然，也可以是与白色子像素同一行相邻的第一颜色子像素的色阻块501或者第三颜色子像素的色阻块503还覆盖白色子像素的开口的一部分。

参见图4所示的彩膜基板，在每一行中白色子像素和彩色子像素交替排列，对于子像素列，既有只有彩色子像素的子像素列，也有只有白色子像素的子像素列，还有白色子像素和彩色子像素交替排列的子像素列，且与白色子像素同一行相邻的第一颜色子像素的色阻块501和第三颜色子像素的色阻块503均还覆盖白色子像素的开口的一部分，以及与白色子像素同一行相邻的第二颜色子像素的色阻块502和第三颜色子像素的色阻块503均还覆盖白色子像素的开口的一部分。

当然，也可以是与白色子像素同一行相邻的第一颜色子像素的色阻块501或者第三颜色子像素的色阻块503还覆盖白色子像素的开口的一部分，以及与白色子像素同一行相邻的第二颜色子像素的色阻块502或者第三颜色子像素的色阻块503还覆盖白色子像素的开口的一部分。

基于上述图2A、图3和图4所示实施例，如果白色子像素同时具有沿行方向相邻的第一彩色子像素和沿列方向相邻的第二彩色子像素时，第一彩色子像素和第二彩色子像素对应的色阻块在彩膜基板所在平面的正投影也可以均覆盖白色子像素的开口的一部分。其中，第一彩色子像素和第二彩色子像素的显示颜色可以相同，也可以不同。

示例性的，如图5A所示的彩膜基板，采用的是上述图3所示的像素排列方式，白色子像素同时具有沿行方向相邻的第一颜色子像素和第三颜色子像素，及沿列方向相邻的第二颜色彩色子像素，因此第二颜色子像素对应的色阻块502及第三颜色子像素对应的色阻块503可以均覆盖白色子像素的开口的一部分。

需要说明的是，采用与沿行方向相邻的第一彩色子像素和沿列方向相邻的第二彩色子像素对应的色阻块均覆盖白色子像素的开口的一部分，第一彩色子像素对应的色阻块和第二彩色子像素对应的色阻块会存在交叠，如图5B所示为图5A沿CC’的剖视图，沿列方向相邻的第二颜色子像素的色阻块502与沿行方向相邻的第三颜色子像素的色阻块503存在交叠。

进一步地，如图5C所示为图5A沿DD’的剖视图，对于与白色子像素沿列方向相邻的第二颜色子像素的色阻块502的线宽是沿列方向加宽，而如图5B所示，对于与白色子像素沿行方向相邻的第三颜色子像素的色阻块503的线宽是沿行方向加宽。

本领域技术人员可以理解的是，上述图5A给出的彩色子像素的色阻块覆盖白色子像素的方式仅为一种示例性说，还可以是沿行方向相邻的所有彩色子像素和沿列方向相邻的所有彩色子像素的色阻块均覆盖白色子像素的开口的一部分。

可选的，第一颜色子像素为红色子像素，第二颜色子像素为绿色子像素，第三颜色子像素为蓝色子像素。

可选的，由于红色子像素的色阻块相对于绿色子像素的色阻块和蓝色色阻块的穿透率比较低，其对白色度影响小，因此，在白色子像素具有沿行和/或沿列方向相邻的蓝色子像素和绿色子像素时，可以只采用蓝色子像素的色阻块和绿色子像素的色阻块在彩膜基板所在平面的正投影均覆盖白色子像素的开口的一部分。

再如图2A所示，即为白色子像素具有沿行方向相邻的蓝色子像素和绿色子像素，再如图5A所示，即为白色子像素具有沿行方向相邻的蓝色子像素和沿列方向相邻的绿色子像素。

在另一些实施例中，多个子像素是呈多行多列的阵列式排列，其中，至少一子像素列的子像素包括交替排列的彩色子像素和白色子像素；至少一子像素行的子像素可以只包括白色子像素，也可以只包括彩色子像素，还可以包括交替排布的白色子像素和彩色子像素。

基于此，可以是与白色子像素同一列相邻排布的至少一个彩色子像素对应的色阻块在彩膜基板所在平面的正投影覆盖白色子像素的开口的一部分。

也就是说，本发明方案适用于任意方式的像素排列方式，只要与白色子像素同一列相邻排布的至少一个彩色子像素对应的色阻块还覆盖一部分白色子像素的开口，即可达到本发明方案的目的。

仍以这三种颜色子像素为例，图6～图8示出三种不同子像素排布示例：

参见图6所示的彩膜基板，在每一列中白色子像素和彩色子像素交替排列，对于子像素行，既有只有彩色子像素的子像素行，也有只有白色子像素的子像素行，且与白色子像素同一列相邻的第二颜色子像素的色阻块502和第三颜色子像素的色阻块503均还覆盖白色子像素的开口的一部分。

当然，也可以是与白色子像素同一列相邻的第二颜色子像素的色阻块502或者第三颜色子像素的色阻块503还覆盖白色子像素的开口的一部分。

参见图7所示的彩膜基板，在每一列中白色子像素和彩色子像素交替排列，对于子像素行，既有只有彩色子像素的子像素行，也有彩色子像素与白色子像素交替排列的子像素行，且与白色子像素同一列相邻的第一颜色子像素的色阻块501和第三颜色子像素的色阻块503均还覆盖白色子像素的开口的一部分。

当然，也可以是与白色子像素同一列相邻的第一颜色子像素的色阻块501或者第三颜色子像素的色阻块503还覆盖白色子像素的开口的一部分。

参见图8所示的彩膜基板，在每一列中白色子像素和彩色子像素交替排列，对于子像素行，既有只有彩色子像素的子像素行，也有彩色子像素与白色子像素交替排列的子像素行，还有只有白色子像素的子像素行，且与白色子像素同一列相邻的第一颜色子像素的色阻块501和第三颜色子像素的色阻块503均还覆盖白色子像素的开口的一部分，以及与白色子像素同一列相邻的第二颜色子像素的色阻块502和第三颜色子像素的色阻块503均还覆盖白色子像素的开口的一部分。

当然，也可以是与白色子像素同一列相邻的第一颜色子像素的色阻块501或者第三颜色子像素的色阻块503还覆盖白色子像素的开口的一部分，以及与白色子像素同一列相邻的第二颜色子像素的色阻块502或者第三颜色子像素的色阻块503还覆盖白色子像素的开口的一部分。

基于上述图6～图8所示实施例，如果白色子像素同时具有沿行方向相邻的第一彩色子像素和沿列方向相邻的第二彩色子像素时，第一彩色子像素和第二彩色子像素对应的色阻块在彩膜基板所在平面的正投影也可以均覆盖白色子像素的开口的一部分。

示例性的，如图9所示的彩膜基板，采用的是上述图6所示的像素排列方式，白色子像素同时具有沿行方向相邻的第一颜色子像素和第三颜色子像素，及沿列方向相邻的第二颜色彩色子像素，因此第二颜色子像素对应的色阻块502及第三颜色子像素对应的色阻块503可以均覆盖白色子像素的开口的一部分。

基于上述图5A所示实施例的同样原理，采用与沿行方向相邻的第二颜色子像素和沿列方向相邻的第三颜色子像素对应的色阻块均覆盖白色子像素的开口的一部分，第二颜色子像素对应的色阻块和第三颜色子像素对应的色阻块会存在交叠。

进一步地，对于与白色子像素沿行方向相邻的第二颜色子像素的色阻块502的线宽是沿行方向加宽，对于与白色子像素沿列方向相邻的第三颜色子像素的色阻块503的线宽是沿列方向加宽。

本领域技术人员可以理解的是，上述图9给出的彩色子像素的色阻块覆盖白色子像素的方式仅为一种示例性说，还可以是沿行方向相邻的所有彩色子像素和沿列方向相邻的所有彩色子像素的色阻块均覆盖白色子像素的开口的一部分。

基于上述各实施例可知，本发明方案适用于任意方式的像素排列方式，只要与白色子像素同一行相邻排布的至少一个彩色子像素对应的色阻块还覆盖一部分白色子像素的开口，或者与白色子像素同一列相邻排布的至少一个彩色子像素对应的色阻块还覆盖一部分白色子像素的开口，或者与白色子像素沿行方向相邻的第一彩色子像素和沿列方向相邻的第二彩色子像素对应的色阻块均覆盖白色子像素的开口的一部分，均可达到减小高色域模式显示画面的白色度与高亮模式显示画面的白色度差值的目的，并且不需要增加制程，也不需要调整光罩。

基于上述实施例所描述的各种覆盖白色子像素的方式，可选的，对于与白色子像素相邻的各彩色子像素对应的色阻块在彩膜基板所在平面的正投影覆盖白色子像素的开口面积之和占白色像素总开口面积的比例可以位于25％～45％之间，以保证在减小视觉落差的同时，也能在高亮模式下提升显示画面的亮度。

上述所述的比例范围是经过多次实验测试得出的最佳范围，如果覆盖比例小于25％，视觉落差还是比较大，如果覆盖比例大于45％，对显示画面的亮度影响又太大，因此综合得出最佳范围在25％～45％之间。

经实验测试，以绿色子像素的色阻块和蓝色子像素的色阻块覆盖白色子像素的开口一部分为例，当设置覆盖比例为2:3:7时，即绿色子像素和蓝色子像素的色阻块覆盖白色子像素的开口面积之和占白色像素总开口面积的比例为(2+3)/(2+3+7)＝41％，得到如表1所示的数据对比，白色子像素的开口未被覆盖时，在高亮模式下的白色度为(0.327,0.335)与高色域模式下的白色度(0.295,0.313)相比，二者白色度相差(0.032,0.022)；白色子像素的开口按照上述比例被覆盖时，在高亮模式下的白色度为(0.300,0.317)与高色域模式下的白色度(0.295,0.313)相比，二者白色度相差(0.005,0.004)。

另外，白色子像素的开口被色阻覆盖一部分后，在高亮模式下，虽然背光经过彩膜基板的穿透率有所降低，但高亮模式下的穿透率仍然高于高色域模式下的穿透率。

	高色域模式	覆盖前高亮模式	覆盖后高亮模式
				白色度坐标	(0.295,0.313)	(0.327,0.335)	(0.300,0.317)
穿透率	4.4	21.7	13.1

表1

由此可见，白色子像素的开口被色阻覆盖一部分后，由于降低了背光经过彩膜基板的穿透率，因此减小了高色域模式下的显示画面白色度与高亮模式下的显示画面白色度的差异，进而给用户带来比较小的视觉差异。

基于上述实施例所述的彩膜基板结构，本发明还提出一种彩膜基板的制备方法，如图10所示，该彩膜基板的制备方法包括如下步骤：

步骤101：提供衬底基板。

其中，如图上述2B所示，衬底基板20的材质可以是塑酯，也可以是玻璃，本申请对此不进行具体限定。

步骤102：在衬底基板上制备黑矩阵，黑矩阵包括网格状的遮光条，网格状的遮光条限定出多个子像素的开口，多个子像素包括彩色子像素和白色子像素。

步骤103：在黑矩阵上形成与白色子像素相邻的彩色子像素的开口对应的光刻胶，并使用第一曝光参数对该光刻胶进行曝光，以形成覆盖彩色子像素的开口且覆盖部分白色子像素的开口的色阻块。

步骤104：在黑矩阵上形成与白色子像素不相邻的彩色子像素的开口对应的光刻胶，并使用第二曝光参数对该光刻胶进行曝光，以形成覆盖与白色子像素不相邻的彩色子像素的开口的色阻块。

值得注意的是，在形成各种显示颜色的彩色子像素的色阻块时，是按照一定的颜色顺序依次涂布形成的，只是在形成与白色子像素相邻的彩色子像素的色阻块时采用第一曝光参数，在形成与白色子像素不相邻的彩色子像素的色阻块时采用第二曝光参数，因此本发明对上述步骤103和步骤104的先后执行顺序不进行具体限定。

在一些实施例中，在形成与白色子像素相邻的彩色子像素的色阻块时，可以通过增加曝光的光强值，以加宽色阻块的线宽，因此第一曝光参数中的光强值要大于第二曝光参数中的光强值。由于通过调整形成色阻块的工艺参数即可改变线宽，无需增加制程或改变光罩，因此成本较低。

在另一些实施例中，在形成与白色子像素相邻的彩色子像素的色阻块时，可以通过增大衬底基板与光罩之间的距离，以加宽色阻块的线宽，因此第一曝光参数中的衬底基板与光罩之间的距离大于第二曝光参数中的衬底基板与光罩之间的距离。由于通过调整形成色阻块的工艺参数即可改变线宽，无需增加制程或改变光罩，因此成本较低。

本领域技术人员可以理解的是，第一曝光参数中的光强值大小和衬底基板与光罩之间的距离可以根据预先设计的覆盖白色子像素的比例进行调整。

需要说明的是，在黑矩阵上形成每种覆盖彩色子像素的开口的色阻块之后，还需要形成一平坦化层，并对平坦化层进行平坦化处理。

其中，白色子像素的开口未被覆盖的部分对应的平坦化层的厚度要大于每一彩色子像素的开口对应的平坦化层的厚度。

通过使用平坦化层填充白色子像素的开口中未被覆盖的部分，由于平坦化层的穿透率为100％，因此可以让背光100％穿过白色子像素的开口未被覆盖部分，达到提升显示画面亮度的效果。

至此，完成上述图10所示的制备流程，在不增加制程或改变光罩的前提下，通过使用不同的曝光参数形成与白色子像素相邻的彩色子像素的色阻块和与白色子像素不相邻的彩色子像素的色阻块，即可达到减小高色域模式显示画面的白色度与高亮模式显示画面的白色度差值的目的，因此本发明方案的工艺流程简单、成本低。

本发明还提出一种显示面板，参见图11所示，该显示面板100包括如上述实施例所述的彩膜基板10。其中，彩膜基板的具体结构已在上述实施例中进行了详细说明，此处不再赘述。

可选的，该显示面板还包括阵列基板80和填充于彩膜基板10与阵列基板80之间的液晶层70。

本发明还提出一种显示装置，参见图12所示，该显示装置200包括如上述显示面板100。

当然，图12所示的显示装置仅仅为示意说明，该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

Claims (8)

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：

衬底基板；

黑矩阵，形成于所述衬底基板上，所述黑矩阵包括网格状的遮光条，所述网格状的遮光条限定出多个子像素的开口，所述多个子像素包括彩色子像素和白色子像素；以及

多个色阻块，每个所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影完全覆盖一个所述彩色子像素的开口，且与所述白色子像素相邻的至少一个所述彩色子像素的所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影还覆盖所述白色子像素的开口的一部分；

所述多个子像素呈多行多列的阵列式排列，所述彩色子像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，且所述第一颜色子像素、所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素的显示颜色各不相同；

所述白色子像素同时具有沿行方向相邻的第一彩色子像素和沿列方向相邻的第二彩色子像素时，所述第一彩色子像素和所述第二彩色子像素对应的所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影均覆盖所述白色子像素的开口的一部分；

与所述白色子像素相邻的各所述彩色子像素对应的所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影覆盖所述白色子像素的开口面积之和占所述白色子像素总开口面积的比例为25%~45%。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一颜色子像素为红色子像素，所述第二颜色子像素为绿色子像素，所述第三颜色子像素为蓝色子像素。

3.一种制备如权利要求1~2中任一项所述彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上制备黑矩阵，所述黑矩阵包括网格状的遮光条，所述网格状的遮光条限定出多个子像素的开口，所述多个子像素包括彩色子像素和白色子像素；

在所述黑矩阵上形成与所述白色子像素相邻的所述彩色子像素的开口对应的光刻胶，并使用第一曝光参数对所述光刻胶进行曝光，以形成覆盖所述彩色子像素的开口且覆盖部分所述白色子像素的开口的色阻块；

在所述黑矩阵上形成与所述白色子像素不相邻的所述彩色子像素的开口对应的光刻胶，并使用第二曝光参数对所述光刻胶进行曝光，以形成覆盖与所述白色子像素不相邻的所述彩色子像素的开口的色阻块。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一曝光参数中的光强值大于所述第二曝光参数中的光强值。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一曝光参数中的所述衬底基板与光罩之间的距离大于所述第二曝光参数中的所述衬底基板与所述光罩之间的距离。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述黑矩阵上形成每种覆盖所述彩色子像素的开口的色阻块之后，所述方法还包括：

形成一平坦化层，并对所述平坦化层进行平坦化处理；

所述白色子像素的开口未被覆盖部分对应的所述平坦化层的厚度大于每一所述彩色子像素的开口对应的所述平坦化层的厚度。

7.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如上述权利要求1~2任一项所述的彩膜基板。

8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如上述权利要求7所述的显示面板。