CN106802508A - 彩色滤光基板及其形成方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种彩色滤光基板及其形成方法，其中，在形成彩色光阻层的过程中，在基板的第一额缘区和开口区涂布不同厚度的光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂的厚度小于开口区光阻剂的厚度，从而使所述额缘区光阻剂经过图形化形成的彩色光阻层的厚度较薄。这样额缘区间隔柱下方的彩色光阻层较薄，而额缘区的间隔柱的绝对高度较大，从而使额缘区和开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相当，进而可以提高显示的均匀度。

Description

彩色滤光基板及其形成方法

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种彩色滤光基板及其形成方法。

背景技术

随着显示技术的发展，薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)液晶显示器能够实现对各个像素的独立精确控制，得到广泛关注。

彩色滤光基板(Color Filter，CF)是TFT液晶显示器的重要组成部件。在彩色滤光基板的制备过程中，由于配向膜制备工艺的需要，彩色滤光基板的额缘区增加与开口区类似的画素。

图1至图7是现有技术一种彩色滤光基板形成方法的各步骤示意图。

请参考图1，提供基板100，所述基板100包括，黑色矩阵形成区a和位于黑色矩阵形成区a周围的边缘区b。

参考图2和图3，图2是图1方框1内区域的局部放大图，图3是图2沿2-2’线的剖视图。在基板100的黑色矩阵形成区a形成黑色矩阵120。所述黑色矩阵120包括具有开口110的开口区A和位于开口区A周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区B。所述黑色矩阵120用于防止显示器背景光泄露，提高颜色显示的对比度。

请参考图4，在所述黑色矩阵120(如图3所示)和露出的基板100上涂布光阻剂。

请参考图5和图6，对所述光阻剂进行图形化，形成彩色光阻层130。所述彩色光阻层130用于使相应颜色的背景光透过，起到滤光的作用。

重复图4和图5所示的步骤，形成全部彩色光阻层130。

请参考图7，在所述彩色光阻层130上形成间隔柱140。

然而，现有技术形成的彩色滤光基板会导致显示器周边颜色显示不均的问题。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种彩色滤光基板及其形成方法，用于改善滤光片基板周边颜色显示不均的效果，改善显示器的显示效果。

为解决上述问题，本发明提供一种彩色滤光基板的形成方法，包括：提供基板；在基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布彩色光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂厚度小于在开口区涂布的光阻剂厚度；图形化所述光阻剂形成彩色光阻层；在所述彩色光阻层上形成间隔柱，所述间隔柱形成于所述第一额缘区与所述开口区相应位置处。

可选的，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机在所述黑色矩阵上涂布光阻剂；

在涂布过程中，所述狭缝涂布机中狭缝的延伸方向与第一额缘区的延伸方向相同。

可选的，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的涂布速度相同，在第一额缘区的光阻吐出量小于在开口区的光阻吐出量。

可选的，第一额缘区的光阻吐出量为1800～3500μL/s；开口区的光阻吐出量为1500～2500μL/s。

可选的，在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的光阻吐出量相同，在第一额缘区的涂布速度大于在开口区的涂布速度。

可选的，第一额缘区的涂布速度为90～150mm/s；开口区的涂布速度为80～140mm/s。

可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使形成于所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚度。

可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。

可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：在开口区形成填充于开口中的多个彩色光阻；所述多个彩色光阻呈条形、马赛克型或三角型排列。

可选的，其特征在于，在基板上形成黑色矩阵的步骤包括：

在基板上形成多个黑色矩阵，所述黑色矩阵的开口区为长方形结构，所述额缘区为围绕所述长方形结构的方环形，所述第一额缘区为所述方环形中与长方形结构长边相邻的区域；所述多个黑色矩阵沿长方形结构长边方向和短边方向排布，形成一阵列结构；

在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机通过狭缝涂布的方法在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂，且在涂布过程中，所述狭缝涂布机的狭缝涂布头沿长方形结构的长边方向延伸且沿宽边方向移动。

相应的，本发明还提供一种彩色滤光基板，其特征在于，包括：基板；位于基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；位于所述黑色矩阵和所述开口所露出基板上的彩色光阻层；位于所述彩色光阻层和第一额缘区上的间隔柱；所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚度。

可选的，开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。

可选的，所述开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度与所述第一额缘区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相差0～0.4μm。。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

本发明的形成方法中，在形成彩色光阻层的过程中，在基板的第一额缘区和开口区涂布不同厚度的光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂的厚度小于开口区光阻剂的厚度，从而使所述额缘区光阻剂经过图形化形成的彩色光阻层的厚度较薄。这样在所述额缘区形成间隔柱时，间隔柱下方的彩色光阻层较薄，而额缘区的间隔柱的高度较大，从而使额缘区和开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相当，进而可以提高显示的均匀度。

附图说明

图1至图9是现有技术一种彩色滤光基板的形成方法的各步骤示意图；

图10至图16是本发明的彩色滤光基板的形成方法一实施例的各步骤结构示意图；

图17是本发明彩色滤光基板的形成方法另一实施例中光阻剂涂布过程示意图；

图18至图20是本发明彩色滤光基板一实施例的结构示意图。

具体实施方式

现有技术中彩色滤光基板容易引起显示器出现周边显示不均的问题。结合图4、图7至图9分析周边显示不均的原因：

图8示出了图7所示彩色滤光基板开口区A(即沿3-3’线)的侧面剖视图，图9示出了额缘区B(即沿4-4’线)的侧面剖视图。

结合参考图4、图7至图9，在黑色矩阵120和露出的基板100上涂布光阻剂的步骤中，现有技术通过狭缝涂布机涂布所述光阻剂。在涂布的过程中，所述涂布机在开口区A和第一额缘区B的光阻吐出量和光阻吐出速度相同。因此在开口区A和第一额缘区B涂布的光阻剂厚度相同。然而，如图8所示，开口区A具有开口，在对所述光阻剂进行图形化的过程中，由于光阻剂的流动性，开口区A黑色矩阵120上的光阻剂会向开口处流淌，导致形成彩色光阻层130后，黑色矩阵120上方的彩色光阻层130的厚度较小。

如图9所示，第一额缘区B不具有开口，在对光阻剂进行图形化的过程中，光阻剂不流动，因此形成的彩色光阻层130厚度较大。

因此，结合参考图8和图9，现有技术形成的彩色滤光基板中第一额缘区B彩色光阻层130的厚度大于开口区A黑色矩阵120上方彩色光阻层130的厚度。相应的，在开口区A形成间隔柱140的过程中，由于光阻剂的流动性，导致第一额缘区B的间隔柱140高度大于开口区A间隔柱140高度。因此第一额缘区B彩色滤光基板的厚度大于开口区A彩色滤光基板的厚度，从而导致成盒后液晶显示器液晶单元间隙(Cell Gap)在第一额缘区和开口区不相同，直接导致周边颜色显示不均匀的问题。

为了解决上述问题，本发明提供一种彩色滤光基板的形成方法，在形成彩色光阻层的过程中，在基板的第一额缘区和开口区涂布不同厚度的光阻剂，第一额缘区的所述光阻剂的厚度小于开口区所述光阻剂的厚度。所述光阻剂经过图形化在第一额缘区形成的彩色光阻层的厚度较薄。这样在所述第一额缘区形成间隔柱时，间隔柱下方的彩色光阻层较薄，而第一额缘区的间隔柱的高度较大，从而使第一额缘区和开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相当，进而可以提高显示的均匀度。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

图10至图16是本发明彩色滤光基板的形成方法一实施例各步骤的结构示意图。

请参考图10，提供基板200，所述基板200包括：黑色矩阵形成区x和位于黑色矩阵形成区x周围的边缘区y。所述基板200用于彩色滤光基板的支撑。

本实施例中，所述基板200的材料为透光的石英玻璃。但是，本发明对所述基板200的形状和材料不做限定，所述基板的材料还可以为塑料板。

本实施例中，所述基板200为长方形，但是本发明对此不做限定，所述基板还可以为正方形。

请参考图11和图12，图11是图10方框1区域内的放大图，图12是图11沿ii-ii’线的剖视图。在基板200的黑色矩阵形成区x上形成黑色矩阵220，所述黑色矩阵220用于防止显示器背景光泄露，提高颜色显示的对比度，防止混色和增加颜色的纯度。

所述黑色矩阵220包括形成有多个开口210的开口区I和位于开口区I周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区II。

本实施例中，所述开口210底部露出所述基板200，用于使背景光透过。所述黑色矩阵220在额缘区覆盖第一额缘区II的基板200。

本实施例中，所述开口210为呈矩阵式排列的长方形结构开口，但是本发明对所述开口210的排列方式和所述开口210的形状不做限定，所述开口210还可以为成三角型排列的方形结构开口210。

本实施例中，所述额缘区为围绕所述长方形结构的方环形，所述第一额缘区II为所述方环形中与长方形结构长边相邻的区域；所述多个黑色矩阵220沿长方形结构长边方向和短边方向排布，形成一阵列结构。

本实施例中，所述黑色矩阵220的材料为黑色树脂，黑色树脂具有成本低且环保的优点。但是，本发明对所述黑色矩阵220的材料不做限制，所述黑色矩阵220的材料还可以是镍或铬。

本实施例中，所述在基板200上形成黑色矩阵220的步骤还包括：在所述基板200上涂布黑色树脂，通过曝光、显影、硬烤在基板200上形成所述黑色矩阵220。

请参考图13，在所述黑色矩阵220(如图12所示)和露出的基板200上涂布光阻剂，在第一额缘区II涂布的光阻剂的厚度小于在开口区I涂布的光阻剂的厚度。

本实施例中，在所述黑色矩阵220上涂布光阻剂的步骤包括：通过狭缝涂布机在黑色矩阵220和所述开口210(如图12所示)露出的基板200上涂布光阻剂。所述狭缝涂布机包括狭缝涂布头m，所述狭缝涂布头m具有狭缝，用于吐出光阻剂进行涂布。所述狭缝涂布头m的延伸方向与所述第一额缘区II的延伸方向相同。

本实施中，在所述黑色矩阵220和所述开口210露出的基板200上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机的涂布头m沿所述长方形结构开口的长边方向延伸且沿宽边方向移动。

本实施例中，所述狭缝涂布机在第一额缘区II和开口区I的光阻吐出速度相同，在第一额缘区II的光阻吐出量小于在开口区I的光阻吐出量，从而使所述第一额缘区II涂布的光阻剂厚度小于开口区I所涂布的光阻剂厚度。

具体的，如果所述光阻吐出速度过快，会影响涂布光阻剂的控制，如果所述涂布速度过小，会降低涂布的效率。因此所述涂布速度为90～120mm/s。

此外，如果所述狭缝涂布机在开口区I的光阻吐出量过小，则形成的彩色光阻层的厚度过小，难以起到滤光的作用，如果所述狭缝涂布机在开口区I的光阻吐出量过大，会增加所形成的彩色光阻层的厚度而导致彩色滤光基板的厚度增加。因此所述狭缝涂布机在开口区I的光阻吐出量为1800～3500μL/s。

如果所述狭缝涂布机在第一额缘区II的光阻吐出量过小会限制画素从第一额缘区II到开口区I的过渡，导致开口区I发生颜色显示不均的问题，如果所述狭缝涂布机在第一额缘区II的光阻吐出量过大会导致间隔柱被抬高，导致液晶成盒后，盒厚不均匀。因此所述狭缝涂布机在第一额缘区II的光阻吐出量为1500～2500μL/s。

本实施例中，所述方环形额缘区中与长方形结构开口短边相邻的区域为第二额缘区z。所述第一额缘区II和第二额缘区z构成所述额缘区。本实施例中，所述第二额缘区z的光阻吐出速度和光阻吐出量与开口区I相同。所述基板200边缘区y的光阻吐出量和光阻吐出速度也与开口区I相同。但是，本发明对此不做限定所述第二额缘区z和基板200边缘区y的光阻吐出量和光阻吐出速度也可以为与开口区I不相同的其他值。

本实施例中，在涂布所述光阻剂之前，进行光阻着色。具体的，通过燃料分散法将燃料分散在液体树脂中，形成着色光阻，所述着色光阻即所述光阻剂。

请参考图14，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层230，所述彩色光阻层230用于使相同颜色的背景光透过，起到滤光的作用。

需要说明的是，在图形化所述光阻剂形成彩色光阻层230时，从所述涂布着色光阻到曝光有一段时间间隔，由于着色光阻的流动性，开口区I黑色矩阵220上的着色光阻会向开口210处流淌，导致开口区I黑色矩阵220上的彩色光阻层230的厚度减小，然而本实施例中，开口区I所涂布的光阻剂厚度大于额缘区II所涂布的光阻剂厚度。因此，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层230后，形成于第一额缘区II的彩色光阻层230的厚度不大于开口区I黑色矩阵220上的彩色光阻层230的厚度。

具体的，形成于开口区I黑色矩阵220上的彩色光阻层230的厚度为1.5～3.5μm，形成于所述第一额缘区II的彩色光阻层230的厚度为1.5～2.5μm。

本实施例中，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层230的步骤包括：所述光阻剂经曝光、显影和硬烤在开口区I形成厚度不相等的不等厚光阻层，所述不等厚光阻层包括：填充于开口210中的彩色光阻和位于所述黑色矩阵220上方的彩色光阻层230。

本实施例中，所述开口区I的不等厚光阻层为沿所述长方形结构开口长边方向延伸的长条型结构不等厚光阻层。所述彩色光阻为填充于长方形结构开口210中的长方形结构彩色光阻。所述额缘区II的彩色光阻层为与开口区I长条型结构不等厚光阻层位置对应，且延伸方向相同的条形光阻层。

请参考图15，重复所述涂布光阻剂和图形化所述光阻剂形成彩色光阻层230的步骤，形成所有的彩色光阻层230。

具体的，本实施例中，所述形成所有的彩色光阻层230的步骤至少包括：

在所述黑色矩阵220和所述开口210(如图14所示)露出的基板200上涂布红色光阻剂，通过图形化在所述开口区I形成红色不等厚光阻层231并在所述额缘区II形成红色光阻层。相应的，在形成所述红色不等厚光阻层231的过程中，在开口区I开口210中形成红色光阻。

在所述黑色矩阵220和露出的基板200上涂布绿色光阻剂，通过光刻在所述开口区I形成绿色不等厚光阻层232并在所述额缘区II形成绿色光阻层。相应的，在形成所述绿色不等厚光阻层232的过程中，在开口区I开口210中形成绿色光阻。

在所述黑色矩阵220和露出的基板200上涂布蓝色光阻剂，通过图形化在所述开口区I形成蓝色不等厚光阻层233并在所述额缘区II形成蓝色光阻层。相应的，在形成所述蓝色不等厚光阻层233的过程中，在开口区I开口210中形成蓝色光阻。

本实施例中，所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻排列成条型，但是本发明对所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的排列方式不作限定，所述排列方式还可以为马赛克型或三角型排列。

需要说明的是，本实施中，由于红色光阻剂、绿色光阻剂蓝色光阻剂的材料限制，要形成相同厚度的红色光阻层、绿色光阻层和蓝色光阻层，则所涂布的红色光阻剂、绿色光阻剂和蓝色光阻剂的厚度不同。所述狭缝涂布机在开口区I的红色光阻剂吐出量为2900～3500μL/s，绿色光阻剂吐出量为2300～2800μL/s，蓝色光阻剂吐出量为2400～3000μL/s，形成于开口区I黑色矩阵220上的彩色光阻层230的厚度为1.2～2.7μm。所述狭缝涂布机在第一额缘区II的红色光阻剂吐出量为2200～2700μL/s，绿色光阻剂吐出量为1800～2100μL/s，蓝色光阻剂吐出量为1800～2200μL/s，形成于第一额缘区II的彩色光阻层230的厚度为1.8～2.3μm。具体的，本实施例中，形成于开口区I黑色矩阵220上的彩色光阻层230的厚度为2.5μm；形成于第一额缘区II的彩色光阻层230的厚度为2.1μm。

请参考图16，在所述彩色光阻层230上形成间隔柱240，所述间隔柱240形成于所述第一额缘区II与所述开口区I对应位置处，所述开口区I间隔柱240形成于所述开口210(请参考图14)之间黑色矩阵220上的彩色光阻层230上。所述间隔柱240用于支撑上下两片基板200，为液晶提供空间。

本实施例中，在所述彩色光阻层230上形成间隔柱240的步骤包括：在彩色光阻层230上涂布用于形成间隔柱240的光阻剂，所述用于形成间隔柱240的光阻剂经曝光、显影和后烤形成所述间隔柱240。

本实施例中，在从涂布所述用于形成间隔柱240的光阻剂到曝光的过程中，所述开口区I具有所述开口210，填充于开口210中的所述彩色光阻层230高度低于所述黑色矩阵220上方的彩色光阻层230的高度，由于涂布的用于形成间隔柱240的光阻剂的流动性，所述彩色光阻层230上涂布的用于形成所述间隔柱240的光阻剂会向所述开口210处流淌，导致形成的所述开口区I间隔柱240的高度降低。

需要说明的是，如果所述间隔柱240的高度过小，很难为液晶提供足够的空间，影响显示器的显示效果，如果所述间隔柱240的高度过大会增加滤光片的厚度。因此，所述间隔柱240的高度为2～4.5μm。具体地，本实施例中，形成于所述开口区I的间隔柱240的高度为2μm，形成于所述第一额缘区II的间隔柱240的高度为2.8μm。

本实施例中，所述开口区I间隔柱240顶端相对于基板200上表面的高度与第一额缘区II间隔柱240顶端相对于基板200上表面的高度差可以通过调节狭缝涂布机在第一额缘区II的光阻吐出量进行调节。所述开口区I间隔柱240顶端相对于基板200上表面的高度与第一额缘区II间隔柱240顶端相对于基板200上表面的高度差为0～0.4μm。具体的，本实施例中，由狭缝涂布机的光阻吐出量和光阻剂的流动性决定的所述高度差为0.4μm。

图17是本发明的彩色滤光基板形成方法另一实施例中光阻剂涂布过程示意图。

请参考图17，本实施例与前一实施例的相同之处在此不做赘述，不同之处包括：在黑色矩阵和开口处露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在开口区M和第一额缘区N的光阻吐出量相同，在第一额缘区N的光阻吐出速度大于开口区M的光阻吐出速度。所述狭缝涂布机在第一额缘区N和开口区M的光阻吐出量为900～3500μL/s，所述狭缝涂布机在第一额缘区N的光阻吐出速度为90～150mm/s；在开口区M的光阻吐出速度为80～140mm/s。

相应地，本发明还提供一种彩色滤光基板。本发明彩色滤光基板可以由本发明彩色滤光基板的形成方法形成，但是本发明对彩色滤光基板是否由本发明形成方法形成不做限制。

图18至图20是本发明彩色滤光基板的结构示意图。图19是图18沿iii-iii’线(即开口区)的剖视图；图20是图18沿iv-iv’线(即第一额缘区)的剖视图。

请参考图18至图20，所述彩色滤光基板包括：

基板300，用于为彩色滤光基板提供支撑。本实施例中，所述基板300的材料为透明的石英玻璃。但是本发明对此不做限定，所述基板300的材料还可以为塑料。

位于基板300上的黑色矩阵320，所述黑色矩阵320包括形成有多个开口的开口区X和位于开口区X周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区Y。所述开口用于使背景光透过。

本实施例中，所述开口为长方形结构开口。

本实施例中，所述开口底部露出所述基板300，且多个所述长方形结构开口沿所述长方形结构开口的长边方向和短边方向成矩阵式排列。但是本发明对所述开口的形状和排列方式不作限定，所述开口还可以为多行错开排列的正方形结构开口。

所述黑色矩阵320在第一额缘区Y覆盖第一额缘区Y的基板300，用于防止显示器背景光泄露，提高颜色显示的对比度，防止混色和增加颜色的纯度。

本实施例中，所述黑色矩阵320的材料为黑色树脂，黑色树脂具有成本低且环保的优点。但是，本发明对所述黑色矩阵320的材料不做限定，所述黑色矩阵320的材料还可以是镍或铬。

需要说明的是，如果所述黑色矩阵320的厚度过大会增加彩色滤光基板的厚度，不利于集成化，如果所述黑色矩阵320的厚度过小会出现漏光现象。因此，所述黑色矩阵320的厚度为0.8～1.2μm，具体的，本实施例中，所述黑色矩阵320的厚度为1μm。

位于所述黑色矩阵320和所述开口露出的基板300上的彩色光阻层330。所述开口区X间隔柱下方的彩色光阻层330的厚度大于或等于所述第一额缘区Y彩色光阻层330的厚度。

需要说明的是，如果所述第一额缘区Y的彩色光阻层330的厚度过小会限制画素从第一额缘区Y到开口区X的过渡，导致开口区X发生颜色显示不均的问题，如果所述第一额缘区Y的彩色光阻层330的厚度过大会导致间隔柱被抬高，导致液晶成盒后，盒厚不均匀。因此所述第一额缘区Y的彩色光阻层330的厚度为1.5～2.5μm。具体的，本实施例中，所述第一额缘区Y的彩色光阻层330厚度为2.1μm。

本实施例中，所述彩色光阻层330包括红色光阻层，绿色光阻层和蓝色光阻层。相应的所述开口区X的彩色光阻层330包括：填充于开口中的红色光阻，绿色光阻和蓝色光阻。但是本发明对此不做限定，所述彩色光阻层330还可以包括白色光阻层和蓝色光阻层。

本实施例中，所述红色光阻，绿色光阻和蓝色光阻排列成条型。但是本发明对所述红色光阻，绿色光阻和蓝色光阻的排列形式不做限定，所述红色光阻，绿色光阻和蓝色光阻还可以成三角型或马赛克型排列。

位于所述彩色光阻层330和第一额缘区Y上的间隔柱340。所述第一额缘区Y的间隔柱340形成于与开口区X间隔柱340位置对应的位置处。所述间隔柱340用于支撑滤光片的上下两块基板300并为液晶提供空间。

需要说明的是，在形成所述间隔柱340的过程中，由于形成间隔柱340的光阻剂的流动性。形成于开口区X的间隔柱340高度小于形成于第一额缘区Y的间隔柱340高度。

如果所述间隔柱340的高度过小，很难为液晶提供足够的空间，影响显示器的显示效果，如果所述间隔柱340的高度过大会增加滤光片的厚度。因此，所述间隔柱340的高度为2～4.5μm。具体地，本实施例中，形成于所述开口区X的间隔柱340的高度为2μm，形成于所述第一额缘区Y的间隔柱340的高度为2.8μm。

由以上分析，所述开口区X与第一额缘区Y的间隔柱340的顶端到基板300上表面的高度差在0～0.4μm的范围内。具体的，本实施中，所述开口区X与第一额缘区Y的间隔柱340的顶端到基板300上表面的高度差为0.4μm。

综上，本发明通过改变彩色光阻层形成过程中，所涂布的光阻剂的厚度，使第一额缘区的光阻剂厚度小于开口区光阻剂的厚度，从而使形成于第一额缘区的彩色光阻层的厚度小于形成于开口区黑色矩阵上的彩色光阻层厚度。从而减小在形成彩色光阻层和间隔柱的过程中，由于光阻剂的流动性引起的间隔柱顶端到基板上表面的高度差，改善显示器显色显示的均匀性。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (13)

1.一种彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；

在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布彩色光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂厚度小于在开口区涂布的光阻剂厚度；

图形化所述光阻剂形成彩色光阻层；

在所述彩色光阻层上形成间隔柱，所述间隔柱形成于所述第一额缘区与所述开口区相应位置处。

2.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机在所述黑色矩阵上涂布光阻剂；

在涂布过程中，所述狭缝涂布机中狭缝的延伸方向与第一额缘区的延伸方向相同。

3.如权利要求2所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的涂布速度相同，在第一额缘区的光阻吐出量小于在开口区的光阻吐出量。

4.如权利要求3所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，第一额缘区的光阻吐出量为1800～3500μL/s；开口区的光阻吐出量为1500～2500μL/s。

5.如权利要求2所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的光阻吐出量相同，在第一额缘区的涂布速度大于在开口区的涂布速度。

6.如权利要求5所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，第一额缘区的涂布速度为90～150mm/s；开口区的涂布速度为80～140mm/s。

7.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使形成于所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚度。

8.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。

9.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：在开口区形成填充于开口中的多个彩色光阻；

所述多个彩色光阻呈条形、马赛克型或三角型排列。

10.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在基板上形成黑色矩阵的步骤包括：

在基板上形成多个黑色矩阵，所述黑色矩阵的开口区为长方形结构，所述额缘区为围绕所述长方形结构的方环形，所述第一额缘区为所述方环形中与长方形结构长边相邻的区域；所述多个黑色矩阵沿长方形结构长边方向和短边方向排布，形成一阵列结构；

在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机通过狭缝涂布的方法在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂，且在涂布过程中，所述狭缝涂布机的狭缝涂布头沿长方形结构的长边方向延伸且沿宽边方向移动。

11.一种彩色滤光基板，其特征在于，包括：

基板；

位于基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；

位于所述黑色矩阵和所述开口所露出基板上的彩色光阻层；

位于所述彩色光阻层和第一额缘区上的间隔柱；

所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚度。

12.如权利要求11所述的彩色滤光基板，其特征在于，开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。

13.如权利要求11所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度与所述第一额缘区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相差0～0.4μm。