CN106773548A - 一种直写成像曝光设备能量实时自动校正装置及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种直写成像曝光设备能量实时自动校正装置,本发明中,将多个光能量感测模块改成一个,提高了感光能量的精准度,能够保证检测多个曝光模块投光能量的标准相一致,进而在调节电源模块时,能够提高多个曝光模块投光能量的一致性。进一步还设计了直写成像曝光设备能量实时自动校正方法。
Description
技术领域
本发明涉及直写曝光电路板技术领域,具体的是一种直写成像曝光设备能量实时自动校正装置及方法。
背景技术
目前产业界制造电路板时普遍利用到直写成像曝光设备,直写成像曝光设备中具有多个曝光装置,但是不同的曝光装置由于其自身特性的不同,如发光效率不同,使用时数不同等,会造成曝光装置的曝光能量不均匀,会使得感光电路板吸收的光能不均匀,容易导致曝光后的感光电路板作废。
针对以上问题,中国专利文献CN104166314A公开了一种曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法,在该方法中,公开了曝光机的结构,包括多个供电装置、多个曝光装置和一承载台,以及多个光能量感测单元,多个曝光装置对多个光能量感测单元投光,该专利中还公开了曝光矫正方法,包括使用处理单元记录曝光装置的投光能量,并计算出投光能量的最小值,再就中央处理器及处理电路比较出投光能量的最小值,将这些投光能量的最小值储存至内存;同时处理单元调整供电装置的供电量,直到曝光装置的投光能量的校正值相等且小于或等于这些投光能量的最小值。
在上述专利中,由于不同的光能量感测单元的性能有误差,因此不同的光能量感测单元检测的不同的曝光装置的投光能量有误差。并且不同的曝光装置的投光能量性能有所区别,而且相同的电流曝光装置的投光能力不同,因此分别计算每个曝光装置投光能量的最小值误差较大。
发明内容
为解决以上技术问题,本发明设计了一种直写成像曝光设备能量实时自动校正装置,能够减小不同曝光装置的投光能量的误差,本发明是采用如下方案实现的:
一种直写成像曝光设备能量实时自动校正装置,包括至少2个曝光模块、至少2个电源模块、透光能量实时自动校正模块、1个光能量感测模块;
至少2个所述曝光模块并排设置;
至少2个所述电源模块与至少2个所述曝光模块一一对应电连接,至少2个所述电源模块向至少2个所述曝光模块供电;
至少2个所述电源模块与所述投光能量实时自动校正模块相连接,所述投光能量实时自动校正模块接收光能量感测单元的光能量信息并调节至少2个所述电源模块的供电电流;
1个所述光能量感测模块连接有活动装置,1个所述光能量感测模块在与至少2个所述曝光模块平行的平面内移动,1个光能量感测模块用于检测至少2个所述曝光模块的投光能量并将接收到的光能量信息发送至投光能量实时校正模块。
在上述方案中,将多个光能量感测模块改成一个,提高了感光能量的精准度,能够保证检测多个曝光模块投光能量的标准相一致,进而在调节电源模块时,能够提高多个曝光模块投光能量的一致性。
优选地上述方案中,所述投光能量实时自动校正模块包括投光能量基准单元,所述透光能量基准单元用于储存。
本发明还设计了直写成像曝光设备能量实时自动校正方法,方法包括如下步骤:
S1对至少2个曝光模块和至少2个电源模块建立一一对应关系;
S2将光能量感测模块移动到第一组曝光模块下方,进行投光能量检测,具体为,光能量感测模块感测曝光模块的投光能量,并将获得的投光能量信息发送至投光能量实时自动校正模块,投光能量实时自动校正模块调节电源模块的电流流量对曝光模块进行供电,直至达到预设值;
S3,将光能量感测模块移动到下一组曝光模块下方,重复S2步骤。
在上述方案中,由于在实际曝光电路板的过程中,往往需要电路板曝光的一致性,因此使用相同的感测模块对曝光模块的投光能量进行感光,使其标准达到一致,进而在调节电源模块的供电电流时,能够提高多个曝光模块投光能量的一致性。
优选地,S2步骤中,还包括根据曝光模块的投光能量与电源模块的电流流量建立投光能量与电流对应曲线,具体为,
S21电源模块对曝光模块进行供电,并将供电电流数据发送至投光能量实时自动校正模块;
S22光能量感测模块感测曝光模块的投光能量,并将获得的投光能量数据发送至投光能量实时自动校正模块;
S23投光能量实时自动校正模块根据接收到的供电电流数据和投光能量数据建立投光能量与电流曲线,并将投光能量与电流曲线储存于投光能量基准单元。
进一步,本发明还设计了一种直写成像曝光设备能量曝光方法,方法包括,
定期获取每一组曝光模块在通过不同电流流量时的投光能量,建立投光能量与电流曲线;
预设投光能量,根据电流曲线查找每一组曝光模块与预设投光能量相对应的电流流量,向曝光模块进行供电;
对电路板进行曝光。
附图说明
图1直写成像曝光设备能量实时校正装置示意图
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
如图1是本发明直写成像曝光设备能量实时自动校正装置,曝光模块组包括5个曝光模块11、12、13、14、15,电源模块组包括5个电源模块21、22、23、24、25,其中电源模块21、22、23、24、25分别与曝光模块11、12、13、14、15一一对应连接,电源模块21、22、23、24、25向曝光模块11、12、13、14、15供电。
电源模块21、22、23、24、25分别与投光能量实时自动校正模块3相连接,电源模块21、22、23、24、25的向曝光模块11、12、13、14、15供电的电流信息均由投光能量实时自动校正模块3调节。
光能量感测模块4置于曝光模块组的下方。光能量感测模块4安装于活动件5上,活动件5在曝光模块组下方移动,带动光能量感测模块4分别移动到曝光模块11、12、13、14、15的下方,感测曝光模块11、12、13、14、15的投光能量,光能量感测模块与投光能量实时自动校正模块3相连接,光能量感测模块4将感测到的投光能量发送至投光能量实时自动校正模块3。
投光能量实时自动校正模块中,包括一个投光能量基准单元31,投光能量实时自动校正模块根据每一个曝光模块在不同的电流下的投光能量投建立电流流量与投光能量曲线,并储存于光能量基准单元31中。
上述装置应用于直写成像曝光设备中,曝光模块组设置于曝光区域上方,光能量感测模块4与活动件5一体设置,安装于承载台6的边缘或独立设置,当需要进行投光能量校正时,将光能量感测模块4移动至曝光模块组的下方,进行投光能量实时自动校正。上述直写成像曝光设备能量实时自动校正的方法具体为:
S1接通曝光模块组中曝光模块与电源模块组中电源模块的一一对应关系;
S2将光能量感测模块移动到第一组曝光模块下方,进行投光能量检测,具体为,光能量感测模块感测曝光模块的投光能量,并将获得的投光能量信息发送至投光能量实时自动校正模块,投光能量实时自动校正模块调节电源模块的电流流量对曝光模块进行供电,直至达到预设值;
S3将光能量感测模块移动到剩余曝光模块下方,依次重复S2步骤。
在上述方法中,投光能量基准单元可以建立电流流量与投光能量曲线,具体的方法为:
S21电源模块对曝光模块进行供电,并将供电电流数据发送至投光能量实时自动校正模块;
S22光能量感测模块感测曝光模块的投光能量,并将获得的投光能量数据发送至投光能量实时自动校正模块;
S23投光能量实时自动校正模块根据接收到的供电电流数据和投光能量数据建立投光能量与电流曲线,并将投光能量与电流曲线储存于投光能量基准单元。
建立每一个曝光模块的投光能量与电流曲线,在直写成像曝光的过程中,可以在批量曝光感光板的时候,不需要重复校正,而是根据投光能量与电流曲线根据预设投光能量直接对电源模块发出电流流量指示,提高生产效率。
应用上述直写成像设备的曝光方法为:
定期获取每一组曝光模块在通过不同电流流量时的投光能量,建立投光能量与电流曲线;
预设投光能量,根据电流曲线查找每一组曝光模块与预设投光能量相对应的电流流量,向曝光模块进行供电;
对电路板进行曝光。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。
Claims (5)
1.一种直写成像曝光设备能量实时自动校正装置,其特征在于,包括至少2个曝光模块、至少2个电源模块、透光能量实时自动校正模块、1个光能量感测模块;
至少2个所述曝光模块并排设置;
至少2个所述电源模块与至少2个所述曝光模块一一对应电连接,至少2个所述电源模块向至少2个所述曝光模块供电;
至少2个所述电源模块与所述投光能量实时自动校正模块相连接,所述投光能量实时自动校正模块接收光能量感测模块的光能量信息并调节至少2个所述电源模块的供电电流;
1个所述光能量感测模块连接有活动装置,1个所述光能量感测模块在与至少2个所述曝光模块平行的平面内移动,1个光能量感测模块用于检测至少2个所述曝光模块的投光能量并将接收到的光能量信息发送至投光能量实时自动校正模块。
2.根据权利要求1所述的直写成像曝光设备能量实时自动校正装置,其特征在于,所述投光能量实时自动校正模块包括投光能量基准单元,所述透光能量基准单元用于储存。
3.一种直写成像曝光设备能量实时自动校正方法,其特征在于,方法包括,
S1对至少2个曝光模块和至少2个电源模块建立一一对应关系;
S2将光能量感测模块移动到第一组曝光模块下方,进行投光能量检测,具体为,光能量感测模块感测曝光模块的投光能量,并将获得的投光能量信息发送至投光能量实时自动校正模块,投光能量实时自动校正模块调节电源模块的电流流量对曝光模块进行供电,直至达到预设值;
S3将光能量感测模块移动到剩余曝光模块下方,依次重复S2步骤。
4.根据权利要求3所述的直写成像曝光设备能量实时自动校正方法,其特征在于,S2步骤中,还包括根据曝光模块的投光能量与电源模块的电流流量建立投光能量与电流对应曲线,具体为,
S21电源模块对曝光模块进行供电,并将供电电流数据发送至投光能量实时自动校正模块;
S22光能量感测模块感测曝光模块的投光能量,并将获得的投光能量数据发送至投光能量实时自动校正模块;
S23投光能量实时自动校正模块根据接收到的供电电流数据和投光能量数据建立投光能量与电流曲线,并将投光能量与电流曲线储存于投光能量基准单元。
5.一种直写成像曝光设备能量曝光方法,其特征在于,方法包括,
定期获取每一组曝光模块在通过不同电流流量时的投光能量,建立投光能量与电流曲线;
预设投光能量,根据电流曲线查找每一组曝光模块与预设投光能量相对应的电流流量,向曝光模块进行供电;
对电路板进行曝光。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107561876A (zh) * | 2017-10-19 | 2018-01-09 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种新型无掩膜光刻系统及其工艺流程 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4984015A (en) * | 1988-03-17 | 1991-01-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Exposure method and apparatus |
US5985496A (en) * | 1996-04-12 | 1999-11-16 | Nikon Corporatioin | Exposure method and apparatus |
CN203151813U (zh) * | 2013-01-25 | 2013-08-21 | 合肥美亚光电技术股份有限公司 | 一种led光源驱动电路 |
CN104166314A (zh) * | 2013-05-17 | 2014-11-26 | 川宝科技股份有限公司 | 曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法 |
CN105181302A (zh) * | 2015-10-12 | 2015-12-23 | 国网天津市电力公司 | 线性光源生产过程中led光亮度一致性的检测装置 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4984015A (en) * | 1988-03-17 | 1991-01-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Exposure method and apparatus |
US5985496A (en) * | 1996-04-12 | 1999-11-16 | Nikon Corporatioin | Exposure method and apparatus |
CN203151813U (zh) * | 2013-01-25 | 2013-08-21 | 合肥美亚光电技术股份有限公司 | 一种led光源驱动电路 |
CN104166314A (zh) * | 2013-05-17 | 2014-11-26 | 川宝科技股份有限公司 | 曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法 |
CN105181302A (zh) * | 2015-10-12 | 2015-12-23 | 国网天津市电力公司 | 线性光源生产过程中led光亮度一致性的检测装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107561876A (zh) * | 2017-10-19 | 2018-01-09 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种新型无掩膜光刻系统及其工艺流程 |
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