CN106773547A - 一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法 - Google Patents
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Abstract
一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,在曝光的过程中采用两层曝光板的设计,在曝光的时候为下次曝光已经做好准备,采用全自动曝光的方式,无掩膜曝光,TI的DMD曝光芯片,自动的DMD选择设计,按照板型选择DMD的数量,该方法极大的提高了生产效率,省去了人为的操作过程,减少了人力资源成本,在竞争中更有优势,可以快速的调整图像的处理,避免了掩膜板的使用,减少了污染与浪费,可以更好的节省曝光时间,提高曝光的效率,同时曝光精度能够满足市面上精密化生产的需求。
Description
技术领域
本发明涉及精密制造PCB曝光技术领域,具体涉及一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法。
背景技术
随着电子技术的快速的发展,电子产品正在向小型化、精密化、模块化、高度集成化方向发展,对曝光的线路要求越来越高,线间距越来越小,线宽越来越细,对于曝光的要求也就越来越高。
传统行业的有掩膜曝光技术已经不能满足精密化,高度集成化生产的发展需求,急需一种新的曝光技术来满足现在的发展现状。无掩膜曝光技术不仅能够满足精密化的发展需求,更能节省成本,极大的提高生产效率,改变目前的生产现状,极大的促进我国在电子技术行业,集成电路行业的快速发展。
目前主流的曝光技术都是通过人为操作不能实现全自动,这里提出了一种全自动的曝光技术,并且能够实现自动校准。
发明内容
为了克服上述技术的不足,本发明的目的是提供一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,改进生产效率,提高生产量,节省人力,同时解决现有的活动底座需要与固定座通过人为调节,需要不停的微调,而导致的繁琐,人为调节容易导致的曝光误差,导致曝光不准确,肉眼不能更好的调整曝光精度,导致出现的各种人为问题,同时为了避免人为调节XYZ轴相对移动导致的机械误差。
为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案为:
一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,包括以下步骤:
1)绘制用于机械小车识别的地面路线,将路线图与出板口,送板口联系在一起,出板口是为了得到打好定位孔的曝光板,送板口是为了将曝光好的PCB板送出;
2) 机械小车的机械臂上具有真空吸盘,机械臂上具有信号发射芯片,小车两侧具有不同的存放标记,真空吸盘可以将未曝光车筐中的待曝光PCB板送到曝光机进行曝光,然后将曝光好的PCB板放入已曝光车筐中,待所有的PCB曝光完毕,小车移动将曝光的PCB板送入送板口,接收新的待曝光PCB板;
3) 在曝光之前,首先接收CAD室传输过来的GERBER文件,将GERBER文件转化为BMP位图,将整副BMP位图送入曝光机,此时,待每次曝光板放入曝光平台,CCD镜头移动到理论上定位孔的位置;
4)CCD镜头在曝光机工作之初,进行初始化设置,进行调焦操作,调焦操作是通过自己的算法进行实现。
5)调焦好的CCD镜头捕捉曝光板上的定位孔,如果1次性捕捉到,证明不用校准,开始曝光;如果有的捕捉到有的没有捕捉到则校正图像的位置,对图像按照一定的算法,均分误差,同时将CCD镜头调整到图像校正后的所对应的定位孔的位置,如果此时还没有捕捉,则在一定的误差范围内进行再次校准,如果超过一定的误差范围仍然没有捕捉到,则曝光板1不能使用,丢弃使用新的曝光板;
6)在曝光开始前,确定曝光板的大小,确定开启的DMD的数量,能够以最大的效率实现曝光,在整个步骤5)图像校正完毕后,切割图像,送到不同的DMD实现曝光;
7)在曝光开始后,上层曝光板通过传送带送到曝光机外侧挡板的内部,内部完全是黑暗的,通过UV紫外线光源实现曝光;
8)在步骤7)曝光的同时,机械臂将待曝光的曝光板送入交替下层曝光平台的台面,曝光平台上有真空吸孔吸附曝光板,完成图像的校正,待上层曝光板曝光完成,将交替下层曝光平台送入曝光机外侧挡板的内部,完成图像的切割与曝光。
所述的步骤3)中提到的数字图像信号处理,是与步骤5)中得到的BMP的定位孔与采集到的图像进行比较,以中心为标准,进行图像的校准处理;
所述的步骤6)中传输给DMD的图像,是将校正后的BMP位图切割为不同型号的DMD所要求的对应的大小,切割的时候需要进行分区化处理,传输给不同的DMD。
所述的机械小车设有机械臂,机械臂设有机械臂真空吸盘,机械小车一侧是未曝光车筐,另一侧是已曝光车筐。
所述的曝光平台设有曝光平台,所述的曝光平台由上层曝光平台、交替下层曝光平台、传送带、曝光机外侧挡板、DMD、光学引擎、曝光机平台侧面挡板组成,传送带上方设有上层曝光平台,下方设有交替下层曝光平台,两端设有曝光机平台侧面挡板;一侧设有曝光机外侧挡板,曝光机外侧挡板上设有DMD及光学引擎。
所述的上层曝光平台、交替下层曝光平台分别具有100个真空吸口;
所述的曝光机外侧挡板设有3-6个DMD,3-6个曝光镜头,每个曝光镜头采用的均为UV紫外线光源。
所述的曝光平台具有电荷耦合元器件(CCD)图像传感器与所述的电荷耦合元器件相连的信号连接处理器,所述电荷耦合元器件(CCD)图像传感器将模拟图像信号转化为数字图像信号,传输给信号连接处理器,信号连接处理器将数字图像信号进行处理。
本发明的有益效果:
本发明采用了自动校准的技术,省去的繁琐人工校准的过程,减少了曝光过程的曝光误差。在曝光的过程中采用两层曝光板的设计,在曝光的时候为下次曝光已经做好准备,极大的提高了生产效率。采用全自动曝光的方式,省去了人为的操作过程,较少了人力资源成本,在竞争中更有优势。采用无掩膜曝光,可以快速的调整图像的处理,避免了掩膜板的使用,减少了污染与浪费。采用了TI的DMD曝光芯片,曝光精度能够满足市面上精密化生产的需求。采用自动的DMD选择设计,按照板型选择DMD的数量,可以更好的节省曝光时间。提高曝光的效率。
附图说明
图1是本发明的小车运动流程图;
图2是本发明的曝光整机架构图;
图3是本发明的机械小车模型图;
图4是本发明的自动校准CCD图;
其中,1是机械小车运动路线;2是曝光机整机;3是机械小车;4是上层曝光平台;5是交替下层曝光平台;6是传送带;7是曝光机外侧挡板;8是DMD;9是光学引擎;10是曝光机平台侧面挡板;11是机械臂真空吸盘;12是未曝光车筐;13是已曝光车筐;14是CCD镜头;15是曝光板;16是曝光板定位孔;17是机械臂。
具体实施方式
以下根据附图对本发明进一步叙述。
如图1、2、3、4所示,一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,包括以下步骤:
1)绘制车辆识别的路线图1,将路线图1与出板口,送板口很好的联系在一起。出板口是为了得到打好定位孔的曝光板,送板口是为了将曝光好的PCB板送出。小车在运动的过程中经过曝光机3,将曝光板曝光完毕后小车依次移动,完成曝光板的传送处理。
2)小车的整体架构如图3所示,机械臂17上具有真空吸盘11,可以将未曝光车筐12中的待曝光PCB板送到曝光机2进行曝光,然后将曝光好的PCB板放入已曝光车筐13中。待所有的PCB曝光完毕,小车移动将曝光的PCB板送入送板口,接收新的待曝光PCB板。
3)在曝光之前,首先接收CAD室传输过来的GERBER文件,将GERBER文件转化为BMP位图,将整副BMP位图送入曝光机2,此时,待每次曝光板15放入曝光平台4或者5,CCD镜头移动到理论上定位孔的位置。
4)CCD镜头14在曝光机2工作之初,进行初始化设置,进行调焦操作。调焦操作是通过自己的算法进行实现。
5)调焦好的CCD镜头捕捉曝光板15上的定位孔16,如果1次性捕捉到,证明不用校准,开始曝光;如果有的捕捉到有的没有捕捉到则校正图像的位置,对图像按照一定的算法,均分误差,同时将CCD镜头14调整到图像校正后的所对应的定位孔的位置,如果此时还没有捕捉,则在一定的误差范围内进行再次校准,如果超过一定的误差范围仍然没有捕捉到,则曝光板15不能使用,丢弃使用新的曝光板。
6)在曝光开始前,确定曝光板15的大小,确定开启的DMD 8的数量,能够以最大的效率实现曝光。在整个5)图像校正完毕后,切割图像,送到不同的DMD实现曝光。
7)在曝光开始后,上层曝光板4通过传送带6送到曝光机外侧挡板7的内部,内部完全是黑暗的,通过UV紫外线光源实现曝光。
8)在7)曝光的同时,机械臂17将待曝光的曝光板送入交替下层曝光平台5的台面,曝光平台上有真空吸孔吸附曝光板,完成图像的校正,待上层曝光板4曝光完成,将交替下层曝光平台5送入曝光机外侧挡板7的内部,完成图像的切割与曝光,依次进行实现。极大的提高了生产效率。
所述的步骤3)中提到的数字图像信号处理,是与步骤5)中得到的BMP的定位孔与采集到的图像进行比较,以中心为标准,进行图像的校准处理;
所述的步骤6)中传输给DMD的图像,是将校正后的BMP位图切割为不同型号的DMD所要求的对应的大小,切割的时候需要进行分区化处理,传输给不同的DMD。
如图3所示,所述的机械小车3设有机械臂17,机械臂17设有机械臂真空吸盘,机械小车3一侧是未曝光车筐12,另一侧是已曝光车筐13。
如图2所示,所述的曝光平台2设有曝光平台,所述的曝光平台由上层曝光平台4、交替下层曝光平台5、传送带6、曝光机外侧挡板7、DMD8、光学引擎9、曝光机平台侧面挡板10组成,传送带6上方设有上层曝光平台4,下方设有交替下层曝光平台5,两端设有曝光机平台侧面挡板10;一侧设有曝光机外侧挡板7,曝光机外侧挡板7上设有DMD8及光学引擎9。
所述的上层曝光平台4、交替下层曝光平台5分别具有100个真空吸口;
所述的曝光机外侧挡板7设有3-6个DMD,3-6个曝光镜头,每个曝光镜头采用的均为UV紫外线光源。
所述的曝光平台具有电荷耦合元器件(CCD)图像传感器与所述的电荷耦合元器件相连的信号连接处理器,所述电荷耦合元器件(CCD)图像传感器将模拟图像信号转化为数字图像信号,传输给信号连接处理器,信号连接处理器将数字图像信号进行处理。
Claims (8)
1.一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)绘制用于机械小车识别的地面路线,将路线图与出板口,送板口联系在一起,出板口是为了得到打好定位孔的曝光板,送板口是为了将曝光好的PCB板送出;
2) 机械小车的机械臂上具有真空吸盘,机械臂上具有信号发射芯片,小车两侧具有不同的存放标记,真空吸盘可以将未曝光车筐中的待曝光PCB板送到曝光机进行曝光,然后将曝光好的PCB板放入已曝光车筐中,待所有的PCB曝光完毕,小车移动将曝光的PCB板送入送板口,接收新的待曝光PCB板;
3) 在曝光之前,首先接收CAD室传输过来的GERBER文件,将GERBER文件转化为BMP位图,将整副BMP位图送入曝光机,此时,待每次曝光板放入曝光平台,CCD镜头移动到理论上定位孔的位置;
4)CCD镜头在曝光机工作之初,进行初始化设置,进行调焦操作,调焦操作是通过自己的算法进行实现;
5)调焦好的CCD镜头捕捉曝光板上的定位孔,如果1次性捕捉到,证明不用校准,开始曝光;如果有的捕捉到有的没有捕捉到则校正图像的位置,对图像按照一定的算法,均分误差,同时将CCD镜头调整到图像校正后的所对应的定位孔的位置,如果此时还没有捕捉,则在一定的误差范围内进行再次校准,如果超过一定的误差范围仍然没有捕捉到,则曝光板1不能使用,丢弃使用新的曝光板;
6)在曝光开始前,确定曝光板的大小,确定开启的DMD的数量,能够以最大的效率实现曝光,在整个步骤5)图像校正完毕后,切割图像,送到不同的DMD实现曝光;
7)在曝光开始后,上层曝光板通过传送带送到曝光机外侧挡板的内部,内部完全是黑暗的,通过UV紫外线光源实现曝光;
8)在步骤7)曝光的同时,机械臂将待曝光的曝光板送入交替下层曝光平台的台面,曝光平台上有真空吸孔吸附曝光板,完成图像的校正,待上层曝光板曝光完成,将交替下层曝光平台送入曝光机外侧挡板的内部,完成图像的切割与曝光。
2.根据权利要求1所述的一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,其特征在于,所述的步骤3)中提到的数字图像信号处理,是与步骤5)中得到的BMP的定位孔与采集到的图像进行比较,以中心为标准,进行图像的校准处理。
3.根据权利要求1所述的一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,其特征在于,所述的步骤6)中传输给DMD的图像,是将校正后的BMP位图切割为不同型号的DMD所要求的对应的大小,切割的时候需要进行分区化处理,传输给不同的DMD。
4.根据权利要求1所述的一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,其特征在于,所述的机械小车(3)设有机械臂(17),机械臂(17)设有机械臂真空吸盘(11),机械小车(3)一侧是未曝光车筐(12),另一侧是已曝光车筐(13)。
5.根据权利要求1所述的一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,其特征在于,所述的曝光平台(2)设有曝光平台,所述的曝光平台由上层曝光平台(4)、交替下层曝光平台(5)、传送带(6)、曝光机外侧挡板(7)、DMD(8)、光学引擎(9)、曝光机平台侧面挡板(10)组成,传送带(6)上方设有上层曝光平台(4),下方设有交替下层曝光平台(5),两端设有曝光机平台侧面挡板(10);一侧设有曝光机外侧挡板(7),曝光机外侧挡板(7)上设有DMD(8)及光学引擎(9)。
6.根据权利要求5所述的一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,其特征在于,所述的上层曝光平台(4)、交替下层曝光平台(5)分别具有100个真空吸口。
7.根据权利要求5所述的一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,其特征在于,所述的曝光机外侧挡板(7)设有3-6个DMD,3-6个曝光镜头,每个曝光镜头采用的均为UV紫外线光源。
8.根据权利要求5所述的一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法,其特征在于,所述的曝光平台具有电荷耦合元器件(CCD)图像传感器与所述的电荷耦合元器件相连的信号连接处理器,所述电荷耦合元器件(CCD)图像传感器将模拟图像信号转化为数字图像信号,传输给信号连接处理器,信号连接处理器将数字图像信号进行处理。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108153118A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-06-12 | 成都凯景智能设备有限公司 | 一种全自动曝光机 |
CN108305231A (zh) * | 2018-02-09 | 2018-07-20 | 西安电子科技大学 | 一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法 |
CN108319114A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-07-24 | 成都凯景智能设备有限公司 | 一种全自动曝光工艺 |
CN111770839A (zh) * | 2018-06-15 | 2020-10-13 | 米塔尼梅克罗尼株式会社 | 丝网掩模的制造方法以及曝光装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1856743A (zh) * | 2003-08-04 | 2006-11-01 | 麦克罗尼克激光系统公司 | 相移掩模对准方法和器件 |
CN101097406A (zh) * | 2006-06-26 | 2008-01-02 | 株式会社Orc制作所 | 描图系统 |
JP2008003441A (ja) * | 2006-06-26 | 2008-01-10 | Orc Mfg Co Ltd | 描画システム |
US20080176383A1 (en) * | 2006-08-25 | 2008-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing Apparatus of Semiconductor Device and Method for Manufacturing Semiconductor Device |
CN102681369A (zh) * | 2012-05-10 | 2012-09-19 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种适用于无掩模光刻机的对准方法 |
-
2017
- 2017-01-13 CN CN201710025390.1A patent/CN106773547B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1856743A (zh) * | 2003-08-04 | 2006-11-01 | 麦克罗尼克激光系统公司 | 相移掩模对准方法和器件 |
CN101097406A (zh) * | 2006-06-26 | 2008-01-02 | 株式会社Orc制作所 | 描图系统 |
JP2008003441A (ja) * | 2006-06-26 | 2008-01-10 | Orc Mfg Co Ltd | 描画システム |
US20080176383A1 (en) * | 2006-08-25 | 2008-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing Apparatus of Semiconductor Device and Method for Manufacturing Semiconductor Device |
CN102681369A (zh) * | 2012-05-10 | 2012-09-19 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种适用于无掩模光刻机的对准方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108153118A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-06-12 | 成都凯景智能设备有限公司 | 一种全自动曝光机 |
CN108319114A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-07-24 | 成都凯景智能设备有限公司 | 一种全自动曝光工艺 |
CN108305231A (zh) * | 2018-02-09 | 2018-07-20 | 西安电子科技大学 | 一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法 |
CN108305231B (zh) * | 2018-02-09 | 2021-08-27 | 西安电子科技大学 | 一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法 |
CN111770839A (zh) * | 2018-06-15 | 2020-10-13 | 米塔尼梅克罗尼株式会社 | 丝网掩模的制造方法以及曝光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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