CN106731455B - 氯乙烯合成过程的脱汞装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种氯乙烯合成过程用设备，特别是一种氯乙烯合成过程用脱汞装置。设备本体内设置有双层环形管路结构：内、外层环形结构管路之间的空间内填充吸附剂，出气口所在的出气口管路底端通过环形结构与内层环形管路结构上的第一内层环形管路结构连接，第一内层环形管路结构通过顶端封闭、底端呈敞开的中封结构与第二内层环形管路结构连接，第二内层环形管路的底端与设备本体上的排酸管路连接；内层环形管路结构和外层环形管路上分别设置有通孔结构；外层环形管路结构呈阶梯状结构：外层环形管路直径由设备本体的底端方向向设备本体的顶端方向减小。与现有技术相比，解决了底层粉末堵塞现象，能够使气相畅通，又能增加脱汞效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种氯乙烯合成过程用设备，特别是一种氯乙烯合成过程用脱汞装置。
背景技术
传统的氯乙烯行业中，脱汞器都采用下进上出的方式通过吸附剂床层，由于在吸附剂的装填和使用过程中产生的粉末会堆积在下侧的进气板上，会造成堵塞，严重影响气体的通过和脱汞效果，并且造成系统阻力上升，而且会随着使用时间的延长，粉化程度加剧，阻力上升，为保证系统压力，就需要更换填料。更换下来得填料，有的部分并未真正吸附汞，造成一定的浪费。
发明内容
本发明的目的旨在解决上述氯碱生产过程中传统脱汞器问题，而提供一种既能避免粉化影响，使气相畅通，又能增强脱汞效果的装置。
本发明采用如下技术方案：
一种氯乙烯合成过程的脱汞装置，包括设备本体，置于设备本体顶端的出气口，置于设备本体底端的排酸口，置于排酸口一侧的进气口，设备本体内设置有双层环形管路结构：内层环形管路结构和外层环形管路结构，内、外层环形结构管路之间的空间内填充吸附剂，设备本体上设置有吸附剂填装口和粉末排放口，吸附剂填装口位于内层环形管路结构与外层环形管路结构之间的设备本体的顶部，粉末排放口位于设备本体内壁与外层环形管路之间的设备本体的底部位置；出气口所在的出气口管路底端通过环形结构与内层环形管路结构上的第一内层环形管路结构连接，第一内层环形管路结构通过顶端封闭、底端呈敞开的中封结构与第二内层环形管路结构连接，第二内层环形管路的底端与设备本体上的排酸管路连接；内层环形管路结构和外层环形管路上分别设置有通孔结构；外层环形管路结构呈阶梯状变径结构：设备本体底端方向的外层环形管路直径大于设备本体的顶端方向的外层环形管路结构。
采用上述技术方案的本发明与现有技术相比，解决了底层粉末堵塞现象，能够使气相畅通，又能增加脱汞效果。
本发明的优选方案是：
第一内层环形管路结构和第二内层环形管路结构同心设置，第一内层环形管路结构和第二内层环形管路结构分别呈波纹管状结构。
中封结构呈倒U形结构。
外层环形结构呈波纹管状结构。
吸附剂填装口均布设置在设备本体的顶部，粉末排放口均布设置在设备本体底部。
位于双层环形管路之间的吸附剂填装口一侧的设备本体上设置有测温口。
外层环形管路结构的阶梯状部位设置在中封结构以上。
置于排酸口一侧上方的进气管路上设置有进气口，进气管路与排酸管路呈垂直状态设置。
附图说明
图1是现有技术的结构示意图。
图2是本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图及实施例详述本发明：
一种氯乙烯合成过程的脱汞装置，参见附图2，图中：设备本体1，外层环形管路结构2，内层环形管路结构3，第一内层环形管路301，第二内层环形管路302，粉末排放口4，吸附剂排放口5、进气口6、排酸口7、排酸管路8，中封结构9、环形结构10、吸附剂填装口11、出气口12、出气口管路13、测温口14。
本实施例中，设备本体1顶端设置有的出气口12，出气口12通过出气管路13与设备本体1连接。置于设备本体1底端的排酸口7，置于排酸口7一侧上方的进气管路上装有进气口6，进气管路与排酸管路呈垂直状态设置，这种排气口结构可以保证不积酸。
设备本体1内设置有双层环形管路结构：内层环形管路结构3和外层环形管路结构2，内层环形管路结构3和外层环形结构管路2之间的空间内填充吸附剂。
设备本体1上设置有吸附剂填装口11和粉末排放口，吸附剂填装口11位于内层环形管路结构3与外层环形管路结构2之间的设备本体1的顶部，粉末排放口4位于设备本体1内壁与外层环形管路结构2之间的设备本体2的底部位置。
出气口12所在的出气口管路13底端通过环形结构10与内层环形管路结构上的第一内层环形管路结构301连接，第一内层环形管路结构301通过顶端封闭、底端呈敞开的中封结构9与第二内层环形管路结构302连接，中封结构9呈倒U型结构设置，第二内层环形管路结构302和第一内层环形管路结构301上分别设置有通孔结构（图2中未示出），通孔直径大约3mm左右，第二内层环形管路结构302的底端与设备本体1上的排酸管路8连接；内层环形管路结构和外层环形管路结构上分别设置有通孔结构（图2中未示出）。
壁上不设置小孔的中封结构9，保证气体在倒U形结构以下位置，由第二内层环形管路302穿过吸附剂到达外层环形管路结构2和设备本体之间的区域中，在倒U型结构以上位置，气体逆向流动，进入第一内层环形管路结构301中，实现气体的二级吸附。
环形结构10避免由于吸附剂装填不足和吸附剂粉化，产生的上侧短路现象的发生；该环形结构10壁上不设置小通孔结构。
含汞的混合气体由进气口6进入内层环形管路结构3内、中封结构9以下的区域，由于中封结构9的顶端的封闭作用，进入外层环形管路结构2以外的区域，再通过内、外层环形管路结构3、2之间的吸附区域，进入内层环形管路结构3和中封结构9顶端以上的区别，通过出气口12排出气体。
外层环形管路结构呈阶梯状变径结构：设备本体1底端方向的外层环形管路直径大于设备本体1的顶端方向的外层环形管路结构。外层环形管路结2构的变径部位设置在中封结构9顶端以上高度的位置。这种顶部直径结构小，下部直径结构大，利于含汞的混合气体在遇到中封结构9时，绕过中封结构9再进入至外层环形管路结构2的内部中封结构9以上的部位，再通过中封结构9以上的内层环形管路结构3进入至内层环形管路结构3中，再通过出气口12排出。这种上下直径不等的结构，从而控制吸附剂在断面有不同的量，促进气体的流动。
第一内层环形管路结构301和第二内层环形管路结构302同心设置，第一内层环形管路结构301和第二内层环形管路结构302分别呈波纹管状结构。
外层环形管路结构2呈波纹管状结构。
吸附剂填装口11均布设置在设备本体1的顶部，粉末排放口4均布设置在设备本体1底部。
位于双层环形管路之间的吸附剂填装口一侧的设备本体1上设置有测温口14。测温口14，可以由温度判断吸附剂的吸附情况。
由于本实施例的结构，能够气含汞混合气水平通过吸附层，解决了底层粉末堵塞的现象，同时可以采取加高装置增大吸附剂的装填量，增大了有效吸附面积；或者可以采用将阶梯状结构多设置几个，也能起到促进气体流向的作用。
Claims (5)
1.一种氯乙烯合成过程的脱汞装置，包括设备本体，置于设备本体顶端的出气口，置于设备本体底端的排酸口，置于排酸口一侧的进气口，其特征在于：设备本体内设置有双层环形管路结构：内层环形管路结构和外层环形管路结构，内、外层环形结构管路之间的空间内填充吸附剂，设备本体上设置有吸附剂填装口和粉末排放口，吸附剂填装口位于内层环形管 路结构与外层环形管路结构之间的设备本体的顶部，粉末排放口位于设备本体内壁与外层环形管路之间的设备本体的底部位置；出气口所在的出气口管路底端通过环形结构与内层环形管路结构上的第一内层环形管路结构连接，第一内层环形管路结构通过顶端封闭、底端呈敞开的中封结构与第二内层环形管路结构连接，第二内层环形管路的底端与设备本体上的排酸管路连接；内层环形管路结构和外层环形管路上分别设置有通孔结构；外层环形管路结构呈阶梯状变径结构：设备本体底端方向的外层环形管路直径大于设备本体的顶端方向的外层环形管路结构；
第一内层环形管路结构和第二内层环形管路结构同心设置，第一内层环形管路结构和第二内层环形管路结构分别呈波纹管状结构；中封结构呈倒U形结构；外层环形管路结构呈波纹管状结构。
2.根据权利要求1所述的氯乙烯合成过程的脱汞装置，其特征在于：吸附剂填装口均布设置在设备本体的顶部，粉末排放口均布设置在设备本体底部。
3.根据权利要求1所述的氯乙烯合成过程的脱汞装置，其特征在于：位于双层环形管路之间的吸附剂填装口一侧的设备本体上设置有测温口。
4.根据权利要求1所述的氯乙烯合成过程的脱汞装置，其特征在于：外层环形管路结构的阶梯状部位设置在中封结构以上。
5.根据权利要求1所述的氯乙烯合成过程的脱汞装置，其特征在于：置于排酸口一侧上方的进气管路上设置有进气口，进气管路与排酸管路呈垂直状态设置。
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