CN106662670B - 用于减少或防止光学物品的防污层的劣化的方法 - Google Patents

用于减少或防止光学物品的防污层的劣化的方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种用于生产适合于磨边的光学物品的方法，该光学物品包括防污层，在该防污层上沉积有用于帮助磨边的临时覆盖层，该方法包括：在光学基底上沉积包含至少一种氟化聚合物化合物的有机防污层，该至少一种氟化聚合物化合物包含可水解官能团；并且在该防污层上沉积无机性质的用于帮助磨边的覆盖层，该覆盖层包含一种或多种金属氟化物和/或一种或多种金属氧化物或氢氧化物；该方法的特征在于，该方法进一步包括该防污层的加速接枝的步骤，该步骤选自：(a)在该沉积的防污层的潮湿气氛中的该沉积的防污层的处理，以及(b)该沉积的防污层的在酸性或碱性蒸气相中的催化处理。

Description

用于减少或防止光学物品的防污层的劣化的方法
本发明总体上涉及一种用于减少或防止光学物品(特别是眼科镜片)的防污层由于在这种防污层上沉积有助于磨边的顶涂层而劣化的方法。
如本领域中所熟知的，眼科镜片产生自确定镜片的凸和凹光学表面的几何结构的一系列的模制、表面修整和平滑处理步骤、接着是适当的表面处理。
眼科镜片的最后的精加工步骤是磨边操作，该磨边操作在于机加工该镜片的周边或边缘面以便使该镜片适配于其在给定框架中装配所要求的尺寸和形状。
如还熟知的，这种磨边操作是使用包括金刚石砂轮的研磨机进行的。
在该磨边操作期间，镜片通过轴向封阻元件保持，该镜片通过粘附、特别是借助于粘性垫紧固到这些封阻元件之一上。在此磨边操作期间该镜片的良好保持因此基本上取决于该镜片的表面与该封阻元件的良好的粘附。
此外，如还熟知的，总体上在镜片的凸表面(在磨边操作期间旨在通过粘附(使用垫)紧固到封阻元件上的表面)上形成的最后的功能层是具有低表面能的防污层。
这些防污层，典型地由基于氟硅烷的材料形成，已经实现了如此程度的性能，特别是如此的低表面能值，以致将不再可能通过粘附将涂覆有此类防污层的镜片紧固到用于其磨边的封阻元件的粘性垫上。
为了解决这种困难，已经提出用临时顶涂层涂覆镜片的防污层，该临时顶涂层增加该镜片的表面的表面能并且因此使能够使用粘性垫紧固到封阻元件上用于该镜片的无风险磨边。此有助于磨边的临时顶涂层，典型地金属氟化物和/或氧化物层，容易被去除，特别是通过简单的擦拭，一旦进行了磨边，同时保留有效的防污层。
这样的解决方案尤其在专利EP 1 392 613和EP 1 633 684中进行了描述。
虽然以上解决方案是令人满意的，但是诸位发明人确定，当有助于磨边的临时顶涂层在防污层的沉积之后被快速沉积时(也就是说在此防污层的沉积之后的15天的时间内)，在去除该有助于磨边的顶涂层之后出现该防污层的特性的相当大的劣化。特别地，如根据以下描述的方法在测试镜片上测量的，液体如水在已经经受或尚未经受耐久性测试的防污层上的后退角，相对于在相同条件下形成的但在其上没有沉积有助于磨边的顶涂层的防污层，是显著减小的。
测试已经表明当有助于磨边的顶涂层是在防污层的沉积之后没有减压下快速沉积的时，该防污层的劣化是甚至更大的。诸位发明人还已经观察到该防污层的劣化随着有助于磨边的顶涂层在其去除之前在该防污层上存在的持续时间而增加。
然而，为了有助于尤其是眼科镜片的工业制造，并且为了减少这种制造的成本，将希望的是有一种方法，该方法使能够在防污层的形成之后尽可能快速地沉积有助于磨边的顶涂层。类似地，为了应用的最佳适配，将希望的是，一旦沉积了有助于磨边的顶涂层，能够在去除该顶涂层之前将镜片储存长的时间而不劣化防污层。
以下目的是根据本发明使用一种用于制造适合于磨边的光学物品的方法实现的，该光学物品包括防污层，在该防污层上沉积有助于磨边的临时顶涂层，该方法包括：
-在光学基底上沉积包含至少一种氟聚合物化合物的有机防污层，该至少一种氟聚合物化合物包含可水解官能团；并且
-在该防污层上沉积无机性质的有利于磨边的顶涂层，该顶涂层包含一种或多种金属氟化物和/或一种或多种金属氧化物或氢氧化物；
该方法的特征在于，为了减少或防止由于该有助于磨边的顶涂层的临时存在的该防污层的劣化，该方法附加包括，在沉积该有助于磨边的顶涂层之前，该防污层的加速接枝的步骤，该步骤选自：
(a)在湿气氛中，优选在处于大气压下、具有从45％至95％的相对湿度(RH)程度和从15℃至75℃的温度的空气气氛中，沉积的防污层的处理，优选持续1至15天的持续时间；或者
(b)该沉积的防污层的酸性或碱性蒸气相中的催化处理。
本说明书的其余部分指的是附图，这些附图分别代表：
图1，在耐久性测试之前和之后，在根据现有技术沉积的有助于磨边的临时顶涂层的沉积和去除之后，防污层的后退角的变化的图；
图2，在耐久性测试之前和之后，在根据本发明的方法的实施例和现有技术的方法沉积的有助于磨边的临时顶涂层的沉积和去除之后，防污层的后退角的变化的图；
图3，针对在防污层的沉积之后在顶涂层的沉积之前的不同储存时间和在该顶涂层的去除之前的不同时间，在耐久性测试之前和之后，在根据本发明的方法的实施例和现有技术的方法沉积的有助于磨边的临时顶涂层的沉积和去除之后，该防污层的后退角的变化的图；
图4，用本发明的方法和现有技术的方法在耐久性测试之前和之后的后退角的变化的图；并且
图5，在后退角的测量期间液滴的滞后的简图。
根据本发明的光学物品，优选地眼科镜片，包括由玻璃制成的基底，优选地由有机玻璃制成的基底，例如由热塑性或热固性塑料材料制成的基底。该基底可以选自在申请WO2008/062142中提及的基底，例如通过二乙二醇双(碳酸烷基酯)的(共)聚合获得的基底，聚(硫代)甲烷基底或由聚碳酸酯(PC)制成的基底。
如熟知的，该基底可以，在沉积防污层之前，涂覆有一个或多个功能性涂层如耐冲击底涂层、耐刮擦和/或耐磨损涂层和减反射涂层。
其他功能层，如抗静电涂层、偏振涂层或光致变色涂层，可以在沉积防污层之前存在。
用于形成本发明的防污层的材料是本领域中熟知的并且被定义为疏水和/或疏油涂料，其与去离子水的静态接触角是大于或等于75°、优选大于或等于90°并且还更好地大于或等于100°。该静态接触角可以使用液滴方法确定，在该方法中将具有小于2mm的直径的液滴轻轻地沉积在非吸收性的固体表面上并且测量在该液体与该固体表面之间的界面处的角度。
根据本发明的防污层是有机涂层，该有机涂层包含至少一种包含可水解官能团的氟聚合物化合物，这些可水解官能团能够与基底化学反应以便接枝到其上。优选地，该氟聚合物化合物是硅烷和/或硅氮烷性质的可以参与水解和缩合反应并带有一个或多个氟化基团、特别是氟化的或甚至全氟化的烃基的聚合物化合物。这些聚合物化合物还被称为氟硅烷和氟硅氮烷。优选地，这些可水解官能团是烷氧基硅烷官能团(-Si(OR)n，其中n是从1至3的整数并且-R是C1-C4烷基、优选-CH3或-C2H5基团)。更优选地，这些可水解官能团仅存在于该聚合物化合物的链的一个末端。
它可以通过沉积每分子优选地包含至少两个可水解基团的氟硅烷或氟硅氮烷前体来获得。这些氟硅烷前体优选地含有氟聚醚基团并且还更好地全氟聚醚基团。这些氟硅烷是熟知的并且尤其被描述于专利US5,081,192、US 5,763,061、US 6,183,872、US 5,739,639、US 5,922,787、US 6,337,235、US 6,277,485以及EP 0 933 377中。当此类化合物沉积在表面上时，它们能够直接地或在水解后经历与基底的接枝反应。
优选地，该外部防污涂层具有小于或等于14mJ/m2、优选地小于或等于13mJ/m2、还更好地小于或等于12mJ/m2的表面能。该表面能是使用在文章：“聚合物的表面力能的估算(Estimation of the surface force energy of polymers)”，欧文斯D.K.(Owens D.K.)和温特R.G.(Wendt R.G.)(1969)，应用聚合物科学期刊(J.Appl.Polym.Sci.)，13，1741-1747中描述的欧文斯-温特(Owens-Wendt)方法计算的。
可用于获得此类防污涂层的化合物描述于专利JP 2005/187936和US 6,183,872中。
特别优选的氟聚合物化合物是对应于下式(C)的那些：(C)：F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o-(CH2)p-X(CH2)r-(CH2)t-Si(X')3-a(R1)a
其中q是从1至3的整数；m、n和o独立地是从0至200的整数；p是1或2；X为O或二价有机基团；r是从2至20的整数；t是从1至10的整数，R1是直链或支链的C1-C22烃基；a是从0至2的整数；并且X’是可水解基团、-OH基团或-NH2基团。
典型地，这些可水解基团是氯、-OR烷氧基和-NHR或-NR2烷基氨基，其中R是C1-C22烷基。优选的材料是包含对应于以上式(C)其中X’是烷基氨基的化合物的材料。
此类产品描述于国际专利申请WO 2011/060047中。
使得有可能制备防污涂层的商业组合物是由信越化学公司(Shin-EtsuChemical)销售的组合物(对应于在专利JP2005/187936中的式)和KP以及由大金工业公司(Daikin Industries)销售的组合物OPTOOL(包含全氟丙烯基团的氟化的树脂，对应于在专利US 6,183,872中的式)。组合物OPTOOL是优选的防污涂层组合物。
一种特别优选的产品是在WO 2011/060047的实例4中描述的、并且在此处之后由HDTC表示的产品(YY)。
典型地，该防污层具有从1nm至30nm、优选从1nm至25nm、还更好地从1至20nm、甚至还更好地从1至10nm并且理想地从1至5nm的物理厚度。一般而言，该防污层的厚度是从3至20nm、优选从3至8nm。
用于沉积这些防污层的方法也是熟知的并尤其描述在上述的文件中。
类似地，无机性质的有助于磨边的顶涂层以及还有它们的方法是本领域中熟知的并且特别是描述于专利EP 1 392 613和EP 1 633 684中。
如所指出的，有助于磨边的顶涂层是无机性质的并且更具体地由以下项组成：一种或多种金属氟化物如氟化镁(MgF2)、氟化镧(LaF3)、氟化铝(AlF3)和氟化铈(CeF3)；一种或多种金属氧化物和/或氢氧化物如氧化镁(MgO)、氢氧化镁(Mg(OH)2)，以及钛、铝、锆和镨的氧化物；以及还有这些氟化物和这些氧化物的混合物。
优选地，有助于磨边的临时顶涂层由以下项组成：金属氟化物、特别是MgF2的层，以及任选的氧化物或氢氧化物、特别是MgO或Mg(OH)2的层，如在专利EP 1 633 684中描述的。
工业上，令人希望的是能够在尽可能短的时间内依次地进行防污涂层和有助于磨边的顶涂层在光学物品、特别是眼科镜片上的沉积的操作，并且能够在将所获得的物品磨边至给定的形状(在眼科镜片的情况下特别是眼镜框架的形状)用于在该有助于磨边的临时顶涂层的消除之后的最终用途之前将其储存持续相对长的时间。
然而，诸位发明人已经证明在沉积防污层之后立即或稍等之后沉积临时顶涂层以及还有在这些沉积之后得到的物品在去除该临时顶涂层之前的延长储存导致该防污层的特性的劣化，特别是后退角的减小。
如前面指出的，上述缺陷可以根据本发明通过使防污层在其沉积之后并且在有助于磨边的顶涂层的沉积之前经受加速接枝的步骤来克服，该步骤或者由在湿空气气氛中的处理组成、或者由在酸性或碱性相中的催化处理组成。
在空气气氛中的处理在于将提供有该防污层的物品置于处于大气压下的具有从45％至95％的相对湿度(RH)程度和从15℃至75℃的温度的空气中，优选持续1至15天的持续时间。
环境条件表示处于大气压下的具有从45％至小于65％、优选从50％至小于65％的RH和从18℃至小于35℃、优选从20℃至小于35℃的温度的空气气氛。
热带条件表示处于大气压下的具有从65％至95％的RH和从35℃至75℃的温度的空气气氛。
优选使用的是具有从50％至95％、还更好地从50％至90％的RH和从25℃至75℃、还更好地从25℃至50℃的温度的空气气氛。
更优选地，相对湿度的程度是从70％至90％，并且温度是从35℃至50℃。
优选地，处理时间是从1至7天、还更好地从2至5天。
这种在空气气氛中的处理可以在用于防污层的沉积的腔室中、在此沉积之后直接进行。因此，防污层和有助于磨边的顶涂层的沉积是在真空下进行，并且该防污层的加速接枝的步骤是该防污层的在湿气氛中的处理，该处理通过在沉积该防污层与沉积该有助于磨边的顶涂层之间的返回至在大气压下的空气气氛的步骤进行。
在一个具体的实施例中，该防污层和该有助于磨边的顶涂层的沉积是在真空下在真空腔室中进行，并且该防污层的加速接枝的步骤是该防污层的在湿气氛中的处理，该处理在没有在沉积该防污层与沉积该有助于磨边的顶涂层之间的返回至大气压的步骤下通过将水释放到该真空腔室中进行的。
优先地，该水是通过“迈斯纳(Meissner)”的除冰释放到该真空腔室中，现在将更详细地描述这个步骤。
该迈斯纳是位于该真空腔室内部的低温阱。典型地，它由长的线圈状铜管组成，在该铜管中低温流体循环。在次级泵送步骤开始时，该迈斯纳被激活(该迈斯纳的“结冰”的步骤)：行进穿过它的流体然后被置于低于-100℃的温度。然后将水分子以冰的形式截留在该管的壁上，这导致在腔室内部的残余压力的下降。
当迈斯纳被除冰(迈斯纳的“除冰”的步骤)时：行进穿过它的流体被置于接近25℃的温度。然后将水分子汽化并释放到腔室中，使得有可能进行本发明的防污层的加速接枝的步骤。
在另一个实施例中，该接枝步骤通过附加强加温度的增加而加速。
在这种情况下，在其下进行本发明的方法的温度优选地高于60℃、还更好地高于70℃、甚至还更好地高于80℃。
催化处理在于将提供有防污层的物品置于酸性或碱性气氛，例如含有盐酸(HCl)或氨(NH3)的蒸气相中。有可能使用用HCl或NH3饱和的空气，其中HCl或NH3的液相呈在大气压和环境温度(18℃-35℃)、优选18℃-25℃下的水溶液，特别是37wt％饱和的HCl水溶液。
在没有顶涂层的情况下的防污层的最佳特性在该层的完全接枝后获得。可以认为，当表面层是均匀的时获得了完全的接枝，这是由甚至在使用氟化溶剂冲洗表面(其目的是消除非接枝的分子)后仍然是最大的后退角表示的。
直到完全接枝的时间取决于防污层的性质，但通常是大约一周或更长时间。然而，在不使用加速接枝处理的情况下，即使通过在此接枝时间后在防污层上沉积有助于磨边的顶涂层，观察到该防污层的特性的劣化。
出人意料地，根据本发明的加速接枝处理使得有可能几乎保留防污层的特性，特别是后退角的值。
本发明通过以下实例以非限制性的方式说明。
实例
1.通用程序
1.1.基底
所使用的基底是具有65nm的直径、-2.00屈光度的焦度和1.2mm的中心厚度的ESSILOR镜片基底。
这些基底的凹面涂覆有i)基于含有聚酯单元的聚氨酯胶乳、在90℃下固化1小时的耐冲击底涂层(来自巴辛顿化学品公司(BAXENDEN CHEMICALS)的234，以1500rpm旋涂10至15秒)；ii)在专利EP 0 614 957的实例3中披露的耐磨损和耐刮擦涂层(硬涂层)(具有等于1.50的折射率)，基于环氧三烷氧基硅烷(γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷，GLYMO)和二烷基二烷氧基硅烷(二甲基二乙氧基硅烷，DMDES)的水解产物、胶体二氧化硅和乙酰丙酮铝；和iii)减反射涂层。
所述耐磨损和耐刮擦涂层是通过沉积和固化包含按重量计以下项的组合物获得的：224份的GLYMO、80.5份的0.1N HCl、120份的DMDES、718份的在甲醇中30％的胶体二氧化硅、15份的乙酰丙酮铝(固化催化剂)以及44份的乙基溶纤剂。该组合物还包含相对于该组合物的总重量按重量计0.1％的来自3M的FLUORAD TM 表面活性剂。
该减反射涂层的层是不加热这些基底、通过真空蒸发任选地(当指定时)在沉积过程中通过氧离子束辅助(蒸发源：电子枪)来沉积的。
该减反射涂层是叠层：
材料 光学厚度(nm)
第一层 ZrO2 55
第二层 SiO2 30
第三层 ZrO2 160
第四层 SiO2 120
这些光学厚度是对于λ＝550nm给出的。
1.2.防污层
所使用的材料是或者HDTC，或来自大金公司(DAIKIN)的OPTOOL
防污层的沉积是通过真空沉积使用SYRUS模型的真空处理(VT)机，以17nm或19nm的编程厚度在减反射涂层上直接进行的，除了第五系列的玻璃(SATIS 1200DLF真空处理机)。
所沉积的层的厚度的测量。
编程到蒸发装置中的厚度值与实际沉积的那些不同。因此，确定需要应用以沉积疏水单层、金属氟化物单层和准金属或金属氢氧化物或氧化物单层所需的物理厚度的蒸发条件。
这些厚度使用椭偏计测量。
使用Woollam VB-400VASE光谱-椭偏计(spectro-ellipsometer)的技术
对于疏水层描述了该技术，但该技术适用于具有小厚度并且优选小于或等于25-30nm并且还更好地(<≈10-15nm)的厚度的任何层。将疏水单层沉积在已经经历离子预清洁(IPC)处理(60秒1A-100V)的单晶硅基底上。
测量沉积在硅盘上的厚度。
疏水层的指数为约1.36。
假定这些层已沉积在2nm的天然SiO2氧化物上并且柯西(Cauchy)模型被用于该层的折射率：对于波长λ，n＝a+b/λ+c/λ2。典型地，对于疏水氟化层，a＝1.36；b＝0.003并且c＝0。该方法然后在于测量在75°的入射下在300与800nm之间的ψ和Δ，并且在于计算地调整这些值(入射角和层的厚度)，以获得使用tan(ψ)和cos(Δ)的样品的理论模拟与实际测量之间的良好拟合(曲线的最佳重叠)。如果在调整期间获得的角度的值接近75°(75°+/-0.5°)，则厚度测量被确认。
为了使用这种方法来测量其他层、并且特别是MgO层的厚度，a的值必须被替换为对应于所讨论的材料的值(在本领域中已知的)。
对于更厚的层，特别是MgF2层，常规的厚度测量使用WoolamVB-400VASE椭偏计进行(在3个入射角：65°、70°和75°下的测量)。
该调整通过改变柯西参数和厚度进行。用于计算的起点是a(取决于材料)，b＝0.003并且c＝0和厚度的估计值(对于MgF2典型地a＝1.38)。
1.3.有利于磨边的顶涂层
该顶涂层由使用与防污层相同的机器通过蒸发沉积的MgF2层和MgO层组成。
a)MgF2层的沉积
蒸发材料是由默克公司(Merck)销售的1-2.5nm粒径的式MgF2的化合物。对于该MgF2，沉积速率被调整至约0.75nm/s。
b)MgO层的沉积
具有等于2nm的厚度的MgO然后使用来自优美科公司(UMICORE)的MgO粒料(参考0481263)通过蒸发直接沉积在该MgF2层上。
2.测试
2.1.后退角的测量
后退角在以下项中进行了定义：博士论文–巴黎第七大学-丹尼斯·狄德罗，由Nolwenn Le Grand-Piteira呈现并且在2006年6月21日在ESCPI答辩的，特别是第1章，第19-20页，第1.3.4段“Une loi insuffisante dans la réalité–Hystérésis dumouillage”[实际上不适当的定律-润湿的滞后](doctoral thesis–UniversitéParis 7–Denis Diderot,presented by Nolwenn Le Grand–Piteira and defended at ESCPI onJune 21,2006,in particular Chapter 1,pages 19-20,paragraph 1.3.4“Une loiinsuffisante dans la réalité–Hystérésis du mouillage”[A law that isinadequate in reality-Hysteresis of wetting])。
使用配备有倾斜工作台选项(PA3220)的KRUSS-DSA100图象采集和分析半自动测角仪进行这些测量。这些测量在具有>100mm的曲率半径的球面镜片的凹面的几何中心处进行。
这些测量以三个步骤进行：
·在该几何中心处施用一滴去离子水(具有25μl的体积)；
·以恒速(3°/秒)自动倾斜该工作台并且连续采集移动液滴的图像；
·分析从采集序列得到的图像，其中确定该液滴的移动速度和该液滴三相点处的接触角(前面θa和后面θr)(参见图5)。它是在该三相点(液体/水/固体接合点)处的该液滴的切线与在同一三相点处的该镜片的表面的切线之间形成的接触角，该液滴以轮廓进行检查。按照惯例，该角度是位于该液滴内的那个。
后退角θr对应于在该液滴的移动方向上的相反的点处确定的角度。
在我们的测试中考虑的后退角的值是该液滴的移动速度是在0.05与0.1mm/秒之间的角度的值的平均值。
2.2.耐久性测试
此测试在于通过使用后退角的测量值评价在加速老化(机械应力)循环后的光学物品的性能来表征这些光学物品的防污层的耐久性。
测试说明
1.顶涂层的去除
在时刻时，去除有助于磨边的顶涂层并且测量表面的后退角。
2.老化序列
将来自法口公司(FACOL)的30X40M840S微纤维织物浸入25℃的水中持续1分钟然后放置回空气中。此微纤维织物然后被用于在施用3.5kg的负载的同时(在25℃、40％至60％湿度的空气中)以来回移动(对应于一次向前移动和一次返回移动的一个循环)机械摩擦包括(疏水的)防污涂层的光学物品的表面1200次(即600个循环)、2400次(即1200个循环)、3600次(即1800个循环)、4800次(即2400个循环)。后退角是在2400个摩擦循环之后测量的。调整机械摩擦设备以实现7分钟内600个循环。
3.后退角的测量(耐久性测试后)
在所描述的测试中，后退角已经通过比较其在老化之前和之后的值呈现。
3.实验
3.1.第一系列的镜片(眼镜片)
如以下指出的使用HDTC材料以17nm的编程厚度制造三批镜片。
第一批(批次号1)的镜片不包含有利于磨边的顶涂层。其他两个批次(批次号2和号3)的镜片在沉积防污层之后涂覆有顶涂层。
在耐久性测试之前和之后，该防污层的后退角是在环境条件下储存并去除顶涂层之后测量的。
结果(对于3个镜片的测量平均值)在图1中给出。
对于来自批次号2和号3的涂覆有有助于磨边的顶涂层的镜片，特别是在耐久性测试之后，注意到后退角的值的极大减小。
3.2.第二系列的镜片
如在通用程序中指出的(HDTC，17nm)制造三批镜片。
批次号4和批次号6的镜片类似于分别来自第一系列的批次号1和号3的那些。
批次号5的镜片是根据本发明的方法通过将提供有防污层的镜片在沉积顶涂层之前储存在热带空气气氛(40℃和80％RH)下持续一周生产的。然后将这些涂覆的镜片在去除顶涂层之前在环境条件下储存若干天。
在耐久性测试之前和之后，该防污层的后退角是在储存并去除顶涂层之后测量的。
环境条件：25℃-50％RH-大气压
热带条件：40℃-80％RH-大气压
结果(对于三个镜片的测量平均值)在图2中给出。
这些结果表明，根据本发明处理的镜片(批次号5)具有，特别是在耐久性测试后，至少等于尚未涂覆有助于磨边的顶涂层的镜片(批次号4)的那些和比未根据本发明处理的镜片(批次号6)(其有利于磨边的临时顶涂层是在该防污层的沉积之后立即并且没有处理地沉积的)的那些高得多的后退角值。
3.3.第三系列的镜片
复制第二系列的镜片的测试，但通过改变沉积有助于磨边的顶涂层之前和之后的镜片的储存时间和条件。批次号6作为参考重复。
结果在图3中描绘。
这些结果表明，根据本发明处理的镜片(批次号8至12)具有等于尚未涂覆有助于磨边的顶涂层的镜片(批次号7)的那些的初始()后退角值和在耐久性测试后比未根据本发明处理的镜片(批次号6)(其有利于磨边的临时顶涂层是在沉积该防污层之后立即并且没有处理地沉积的)的那些高得多的后退角值。
3.4.第四系列的镜片
如在通用程序中指出的用SYRUS 3机器使用OPTOOL 和19nm的编程厚度制造三批镜片(批次号13、14和15)。
条件如下：
在耐久性测试之前和之后的后退角测量的结果在图4中给出。
这些结果表明，本发明的方法(批次号13)使该防污层能保留其初始特性(即在沉积和去除有助于磨边的顶涂层之前的特性(批次号14))，特别是后退角的值，根据本发明处理的镜片的后退角比对照镜片(批次号15)的后退角大至少8°。
3.5第五系列的镜片(其中将水释放到真空沉积机中的实例)。
用于沉积的真空装置是SATIS 1200DLF机器。
根据以上1.1中描述的程序制备镜片，除了减反射涂层是由以下项组成的叠层：二氧化硅子层、约20nm的薄氧化锆层(Z1)、约20nm的薄二氧化硅层(Q1)、约70nm的厚氧化锆层(Z2)、非常薄的ITO(铟锡氧化物)层、约80nm的厚二氧化硅层(Q2)，约6nm(实际获得的厚度)的Optool DSX防污层，MgF2(约20nm)+1nm MgO顶涂层。
在参比(对比)实例中，迈斯纳的除冰是在沉积MgO层之后并在减压开始时进行的(参比)。
相对于该参比，批次号16(本发明)的实例在于在沉积DSX之后并在沉积MgF2之前进行迈斯纳的除冰。
相对于批次号16的实例，实例(批次号17)(本发明)在于在高温：在机器的加热器(位于圆盘传送器上方的金属电阻器)上读取的100℃下进行整个过程。
批次号17(本发明)的实例使能够汽化位于迈斯纳上的水用于在沉积MgF2之前引发DSX的水解和加速接枝。此实例将水解反应与湿度和温度的增加结合。
工艺参数。
参比测试
Q2：在沉积之前的压力9.1E-4Pa
Optool DSX：在沉积之前的压力6.9E-4Pa
MgF2：在沉积之前的压力6.5E-4Pa
MgO：在沉积之前的压力5.9E-4Pa
实例批次号16
Q2：在沉积之前的压力1E-3Pa
Optool DSX：在沉积之前的压力7.9E-4Pa
在下一步骤之前的迈斯纳除冰和泵送：达到的最大压力1.06E0Pa/时间10分钟
MgF2：在沉积之前的压力2E-3Pa
MgO：在沉积之前的压力1.7E-3Pa
实例批次号17
在100°下加热
Q2：在沉积之前的压力8.5E-3Pa
Optool DSX：在沉积之前的压力6E-4Pa
在下一步骤之前的迈斯纳除冰和泵送：达到的最大压力1.25E0Pa/时间13分钟
MgF2：在沉积之前的压力2E-3Pa
MgO：在沉积之前的压力1.8E-3Pa
结果
参比(对比)测试：在耐久性测试之后的后退角：小于90°
批次号16(本发明)：在耐久性测试之后的后退角：95°
批次号17(本发明)：在耐久性测试之后的后退角：97.5°

Claims (14)

1.一种用于制造适合于磨边的光学物品的方法，该光学物品包括防污层，在该防污层上沉积有助于磨边的临时顶涂层，该方法包括：
-在光学基底上沉积包含至少一种氟聚合物化合物的有机的防污层，该至少一种氟聚合物化合物包含可水解官能团；并且
-在该防污层上沉积无机性质的有助于磨边的临时顶涂层，该临时顶涂层包含一种或多种金属氟化物和/或一种或多种金属氧化物或氢氧化物；
该方法的特征在于，该方法额外包括，在沉积所述有助于磨边的临时顶涂层之前，所述防污层的加速接枝步骤，该步骤选自：
(a)该防污层的在湿气氛中的处理；
(b)该沉积的防污层的酸性或碱性蒸气相中的催化处理。
2.如权利要求1所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该加速接枝步骤是在处于大气压下的空气气氛中进行的在湿气氛中的处理。
3.如权利要求1所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该防污层和该有助于磨边的临时顶涂层的沉积是在真空下进行，并且该防污层的加速接枝步骤是通过在沉积该防污层与沉积该有助于磨边的临时顶涂层之间的返回至在大气压下的空气气氛的步骤进行的该防污层的在湿气氛中的处理。
4.如权利要求1所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该防污层和该有助于磨边的临时顶涂层的沉积是在真空下在真空腔室中进行，并且该防污层的加速接枝步骤是在没有在沉积该防污层与沉积该有助于磨边的临时顶涂层之间的返回至大气压的步骤下通过将水释放到该真空腔室中进行的该防污层的在湿气氛中的处理。
5.如权利要求4所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该真空腔室包括低温阱并且该水的释放是通过除冰所述低温阱进行的。
6.如权利要求2或3所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该在处于大气压下的空气气氛中的处理是在从45％至95％的相对湿度(RH)程度和从15℃至75℃的温度下进行的。
7.如权利要求2至3中任一项所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该空气气氛处理的持续时间是从1至7天。
8.如权利要求7所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该空气气氛处理的持续时间是从3至5天。
9.如权利要求1至3中任一项所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，这些可水解官能团是烷氧基硅烷官能团。
10.如权利要求1至3中任一项所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，这些可水解官能团仅存在于该氟聚合物化合物的链的一个末端。
11.如权利要求1所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该酸性或碱性蒸气相是用HCl或NH3饱和的空气，其中HCl或NH3的液相呈在大气压和18℃-25℃的环境温度下的水溶液。
12.如权利要求11所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该水溶液是37％饱和的HCl水溶液。
13.如权利要求1-3中任一项所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该临时顶涂层由金属氟化物组成。
14.如权利要求13所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该临时顶涂层由MgF2组成。
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